Изобретение отноои.тся к аппаратуре для .изготовления иакрытпй, наноснмых путем терм;ического испарения веществ в ва кууме, и может найти TiipHMCHeHne три создании одпоп Многослойных 0|ПТ|И цес.ких покрытий, например, лазерных зеркал, спектроделителей и т. п.
Известны вакуумные установки для lianeсения пОКрытмй, содержащие вак умную камеру с испарителями и держателем образцов, на .которые наносятся покрытия, п систему контроля толщины наноспмых слоев с источнпком излучения, формирующей оптикой, фотодриемннком -и регИСтратором.
Целью изобретения является повыщение надежности и точности контроля толщины наноОИ.м.ого покрытия.
Это достигается тем, что перед фотопрпемни1ком размещен непрозрачный axipan с отверстием, не превыщающим размера изображенпя источника излучения, установленный с возможностью перемещения по двум взаимноперпендпкулярньгм направлениям в плоскости ортогональной оси форм1фующей оптики.
Иа чертеже представлена прлнципиальная схема 1Л|рсдлагаемой установки.
Установка содержит ггспарители /, держатель 2 образцов 3, на которые с испарителей напыляются вещества, образующие покрытие, и сИСтемы контроля толщин паноспмых слоев. Система cocTOiiT из источ.цика света - ламны 4 накаливания, элемента фо;рмирующей оптики 5, ;1роектирующей :излучепие источника через окно 6 на образец 3, элемента формирующей оптики 7, которая после .ождеи.ИЯ света через окно 8 создает изображение нити на.кала лам.пы 4 в п.тоскоети экрана 9 с отверстием. Экран выполнен подвнжным в плоскости, :1ерпенд:1луляр-ной осп формирующей .оптики. За экра.ном по ходу луча 1рас 1оложен светофильтр W п фото::|рпемн1 к // - cjioioумножптель, в аноднхчо ue:ib кото;}ого включеп отсчетпый 1реги:тратор 12.
В ва.куу.мной камере 13 с испарителей /, иредстаБляющ;1х собой ва.нночки ил.и спирал.и, на образцы 3 путем термического испарения .наносят в требуемой последовательности вещестВа, образуюпше слои, входящие в покрытие. Образцы 3 уста;1авлпваются с 1юмоп1ью Олрав в держателе 2. Для обсспечен чя равномер 1ой толщины пленок на o6pa:uiax держатель обычно врапитется вокруг ос.и камеры. Кроме того, иногда образцы в оправах Bpauuiются вокруг своего центра. В проце.ссе пзготавленпя покрытия п)оизводится фотоэлектрический контроль пле:нок, составляющих покрытие. Система контроля регистрпр -ег .ину свето:ВОГО потока, про.пшдщего через образец или отражеизого пм. Используя известную зависимость пропускан я (отражения) от
толщины слоя, по показаниям регистратора однозначно судят о толщине .напыляем,ой ллевки.
Световой поток, измеряемый системой контроля, создается ламной 4 накаливания. Излучение .источника через Оптическое окно 6 в основанни ва:куумной ка;мары проецируется «а образец 3 с цадос;п1ымн слоями. Прошедший образец нотока, .величина которого тгролорциональна коэффициенту тропускали я .изготавливаемого покрытия, через окно 8 в кол паже камеры 13 попадает на элемент формируюш:ей оптики 7, который соз1дает .изображение нити накала лам.пы 4 в плоскости лод)вижного экрана 9 с отверстием .диаметром 1-2 мм. Увеличе.ние оптической схемы системы контроля порядка . С ломощью пары винтов М и другой пары .винтов добиваются перемещением 9 совмещения отверстия С .изображением «итп накала. Экран в таком положении фиксируется с помощью обоих пар винтов.
За экранам по ходу луча расположен светофильтр 10, выделяющий световой поток с
ДЛ.ИНОЙ волны, при которой производится КОНтроль. Монохроматическое излучение вызывает 3 фотоприемнике // и фототак, величина которого пропорцио.нальна коэффициенту пропускания образца с кант.рол,Ируемым (покрытием. Фотото.к измеряется .регистратором J2, показания которого характеризуют толщину очередного наиосимого слоя.
Предмет и з .о б р е т е н .и .я
Вакуумная установка для нанесения но.крытий, содержащая ва.куум.ную камеру с исдар1ителям;и и держателем образ.цов, на которые наносятся по:крытия, и систему контроля толщины наносимых слоев с источником излучения, формирующей Опти.кой, фотошриемпиком и регистратором, отличающаяся тем, что, с .целью повышенпя надежности и точ.ности Контроля толщины наносимого покрытия, перед фотОПрпемником размещен непро.зрачйый экран с отверстие.м, не превышающим размера изобрал ениЯ источника излучения, установленный с возможностью пе|ре.мещения по двум взал.мно иерпеидижулярным направлениям в плоскости ортогональной оси форми.рующей оптики.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОПРЕДЕЛЕНИЯ РАБОТЫ ВЫХОДА ЭЛЕКТРОНА | 2024 |
|
RU2821217C1 |
СПОСОБ КОНТРОЛЯ толщины тонких ПЛЕНОК | 1970 |
|
SU266223A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ ПЛЕНОК МНОГОСЛОЙНОГО ОПТИЧЕСКОГО ПОКРЫТИЯ В ПРОЦЕССЕ ЕГО НАНЕСЕНИЯ ОСАЖДЕНИЕМ В ВАКУУМНОЙ КАМЕРЕ | 1991 |
|
RU2025657C1 |
Способ определения толщин слоев многослойного покрытия в процессе напыления оптических элементов | 2018 |
|
RU2671927C1 |
УСТРОЙСТВО БЕСКОНТАКТНОГО ШИРОКОПОЛОСНОГО ОПТИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ ПЛЕНОК | 2014 |
|
RU2581734C1 |
Устройство для контроля толщин пленок в процессе нанесения оптического покрытия испарением в вакууме | 1976 |
|
SU555278A1 |
ФОТОУВЕЛИЧИТЕЛЬ | 1972 |
|
SU419833A1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ МНОГОСЛОЙНОГО ПОКРЫТИЯ НА ОПТИЧЕСКИЕ ПОДЛОЖКИ И УСТАНОВКА ДЛЯ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ СПОСОБА | 2021 |
|
RU2771511C1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ МНОГОСЛОЙНОГО ПОКРЫТИЯ НА ОПТИЧЕСКИЕ ПОДЛОЖКИ И УСТАНОВКА ДЛЯ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ СПОСОБА | 2018 |
|
RU2690232C1 |
Установка модифицирования поверхности заготовок для режущих пластин | 2021 |
|
RU2762426C1 |
Даты
1974-06-25—Публикация
1972-04-05—Подача