Устройство для двухстороннего нанесения фоторезиста на подложки Советский патент 1974 года по МПК H05K3/10 

1

Изобретение относится к области фотолитографии и может быть иснользоваио для нанесения нленок на подложки методом центрифугирования.

Известно устройство для двустороннего нанесения фоторезиста иа подложки, содержаш,ее корпус, держатель подложки, на которую наносят фоторезист, и центрифугу.

Однако это устройство не нозволяет производить покрытие подложек при высоких оборотах вращения, т. с. не обеспечивает необходимой равномерности покрытия.

С целью получения равномерного покрытия подложек фоторезистом в предлагаемом устройстве держатель выполнен в виде ножей, лезвия которых служат опорой для подложки.

Иа чертеже приведена конструкция предлагаемого устройства. Оно состоит из корпуса 1, закрепленного на шпинделе центрифуги 2. В четырех пазах корпуса установлены две пары ползунов 3, несущих четыре онорных ножа 4. В центре корпуса установлена чашка 5 для сбора фоторезиста при центрифугировании.

Опорные ножи и.меют грани, которые ограничивают перемещение подложки во время покрытия и заточены под острыми углами. Грани ножей, контактирующие с нодложкой 6, имеют форму лезвий, за счет чего осуществляется точечное контактирование с гранями подложки.

Благодаря тому, что устройство выдерживает значительные скорости вращения (10

тыс. об/мин) и за счет наличия точечного контакта опорных ножей с гранями подложки, обеспечивается равномерное по толщине покрытие подложек (с колебаниями4:10%. Это сокращает время на операциях установки и

съема подложек, так как устраняется их дополнительное крепление перед покрытием.

Предмет изобретения

Устройство для двустороннего нанесения фоторезиста па подложки, содержащее корпус с держателем подложек и центрифугу, отличающееся тем, что, с целью повышения равно.мерности покрытия фоторезиста, держатель

выполнен в виде ножей, лезвия которых опорой для подложки.