Светочувствительный негативный состав Советский патент 1975 года по МПК G03C1/52 G03C1/68 

1

Изобретение относится к области полиграфии, радиотехнической или электронной промышленности, где применяются светочувствительные слои, способные образовывать рельефные изображения - фоторезисты,

Известен светочувствительный негативный состав на основе нафтохинондиазидсульфоэфиров эпоксидированных фенолформальдегидных смол.

Однако невысокий молекулярный вес (500- 1000) фенолформальдегидных смол не позволяет получить достаточно механически прочный защитный рельеф с высокой адгезией к подложке.

Целью изобретения является улучшение адгезии и повышение механической прочности защитного рельефа.

Поставленная цель достигается благодаря тому, что нафтохинондиазнды или дназокетоны используют в комбинации с эпоксидированным циклокаучуком с молекулярным весом не ниже и содержанием эпоксидных групп не выше 15%.

Эпоксидированный циклокаучук получают путем обработки циклокаучука падуксусной или трнфторнадуксусной кислотой. Нанример, 30 г циклокаучука с молекулярным весом 8000 растворяют в 600 мл бензола и к полученному раствору при размешивании и 80°С прикапывают 50 мл надуксусной кислоты. Реакционную массу выдерживают при той же температуре в течение 1 час, после чего охлаждают до 18-20°С и постепенно выливают в 2 л ацетона. Выпавший продукт отфильтровывают, промывают при размешивании 1 л ацетона, затем на фильтре дополнительно 100 мл ацетона и 200 мл этилового спирта. После сушки на воздухе получают 26,0 г модифицированного циклокаучука с содержанием эпоксидного кислорода 10,6% (онределенне по присоединению НВг в ледяной уксусной кислоте).

Предлагаемый светочувствительный состав приготовляют путем растворения получения указанным способом модифицированного циклокаучука и диазосоединения в органическом растворителе. Раствор фильтруют и наносят на нодложку (моно- или биметаллическую пластину) известным снособом - центрифугированием, окунанием или методом распыления в электрическом поле. Получают ровный, блестящий слой, который затем экспонируют через монтаж диапозитивов под ксеноновыми дуговыми лампами или лампами ПРКИзображение проявляют обработкой проэкспонированного слоя органическими растворителями.

При использовании такого светочувствительного состава можно регулировать механическую прочность и адгезию к подложке защитного рельефа путем изменения концентрации эпоксидных групп и варьирования молекулярного веса модифицированного циклокаучука.

Ниже приведены составы светочувствительных растворов, спектральная чувствительность (длины волн Я, соответствующие максимумам светочувствительности составов), а также растворители, рекомендуемые для проявления изображения.

Состав 1 (в г):

п-Бензохинондиазид (т. пл. 91-

93°С; 350, 400 нм)0,6

Эпоксидированный циклокаучук (мол. вес. 4000; содержание

эпоксидных групп 3,6%)100

Ксилол850

В качестве проявителя применяют ксилол. Состав 2 (в г):

1,2-Нафтохинондиазид-(2)-5сульфоэфир п-трет.-бутилфеиола (т. пл. 138°С; , 400 нм)1,91

Эпоксидированный циклокаучук (мол. вес 4000; содержание эпоксидных групп 3,6%)100

Ксилол1160

Проявитель - ксилол. Состав 3 (в г): Эфир 1,2-нафтохинондиазид- (2) 5-сульфокислоты и 4,4-диоксидифенилпропана (т. пл.

120°С; А,350, 400 нм)3,45

Эпоксидированный циклокаучук (мол. вес 4000; содержание эпоксидных групп 3,6%)100

Ксилол1200

Проявитель - ксилол. Состав 4 (в г):

Эфир 1,2-нафтохиноидиазид-(2)5-сульфокислоты и резорцина (т. пл. 159°С; А, 350, 400 нм) 9,5

Эпоксидированный циклокаучук (мол. вес 4000; содержание эпоксидных групп 5,3%)100

Ксилол1160

Проявитель - тетрагидрофуран.

Предмет изобретения

Светочувствительный негативный состав на основе пленкообразующих эпоксидированных смол и светочувствительных диазосоединений, отличающийся тем, что, с целью улучшения адгезии и повышения механической прочности защитного рельефа, в качестве пленкообразующих смол использован Эпоксидированный циклокаучук с молекулярным весом не ниже 2500 и содержанием эпоксидных групп не выше 15%.