СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ НЕГАТИВНЫЙ СОСТАВ Советский патент 1973 года по МПК G03F7/22 H05K3/06 

1

Изобретение относится к технологии получения межслойной изоляции, например пленочных СВЧ-микросхем, больших интегральных схем, больших интегральных гибридных функциональных узлов, с помощью органических светочувствительных слоев.

Известен светочувствительный негативный состав для межслойной изоляции, например, в микросхемах, содержащий светочувствительную комионенту азидного типа и полимерную составляющую на основе полиизопренового циклокаучука.

Однако известный негативный состав обладает недостаточной электрической ирочностью и большой диэлектрической проницаемостью.

С целью повышения электри-{еской прочности и уменьшения диэлектрической проницаемости в предлагаемом светочувствительном негативном составе в качестве полимерной составляющей использован эпоксидированный полиизопреновый циклокаучук с содержанием эпоксидных групп в пределах от 3,5 до 8,0%.

Эпоксидная группа азидосодержащего нолиизопренового эпоксидированного пиклокаучука обеспечивает образование плотно сщитого полимера, «густота пространственной сетки которого в 3 раза плотное «густоты пространственной сетки азидосодержкщего состава на основе фенольного циклокаучука, который может образовывать иадсж)ую межслойную изоляцию микросхем.

Предлагаемы светочу всгви тел ып.1 и негативный состав получают следуюии1М образом.

Сначала готовят состав, содержащий пелиизопреновый эпокспдированньп цпклокаучук и диазид.

Циклокаучук в количестве 50 г растворяют в 500 мл бензола при 80°С, постепенно прибавляют в него 80 мл надуксусной кислоты (3-3,5%). Выдсржпвают при этой температуре в течение 1 час и .медленно выливаюг реакционную массу в 1500 мл ацетона. Полимер выиадает в виде тянупиьхся ппгей, его

переносят в 200 мл этплового спирта и растирают Б ступке или шаровой мс.тьницс. Эпоксидировашпл циклокаучук отфильтровывают на воронке Бю.чнера, снова растворяют в бензоле, обрабатывают сначала в

1500 мл ацетона, а потом в 150 мл эганола, растирают в ступке или в шароиой мельнице, отфильт1квы.вают п сушат вначале па воздухе-, S затем з суннктьном шкафу. Выход - 42-13 г, содержание эпоксидного

кислорода-4,2ль

На (ниого эпоксидировапного циклокаучука готовя г своточувсгвите.гьный состав, растворяя 10 г эпоксидированного циклокаучука и 0,5 г 2,6-бис-(4-аз}1добензи.1ен)-4

метилциклогексонона в 100 мл-м-ксилола.

Раствор фильтруют, наносят на подложку микросхемы центрифугированием и сушат при 70-75°С в течение ГО млп. Слой фоторезиста толщиной 1 -1,2 мкм экепопируют под ртутно-кварцевой лампой, предварительно совместив изображение на подложке с изображением на фотошаблоне. Р1зображепие проявляют последовательио в трех порциях ем сей толуола с ксилолом в соотпошеиип 1 ; 1. Копию, спачала сушат прп компатной температуре в течение 5 мин, затем при 00°С в течеиие 15 мин. Слой проходит окончательную иолимеризацию при еветовом задублпвании под ртутно-кварцевой лампой в течение 20 мин.

Предмет изобретения

Светочувствительный негативный состав для межслойной изоляции, например, в микросхемах, содержащий светочуветвительную компоненту азидного тина и иолимерпую составляющую на основе полиизоиренового циклокаучука, отличающийся тем, что, с целью повышения электрической прочности и уменьшения диэлектрической проипцаемости состава, в качестве полимерной составляющей исиользован эпокспдированный нолиизопреновый циклокаучук с содержаиием эпоксидных групп в пределах от 3,5 до 8,0%.