Изобретение относится к устройствам для наа1есе;ния тонки,х лленок из жидких материалов, лреимущественно фоторезисти;вных пленок, на плоские .подложки при изготовлении полущроводнпковых и гибридных ИНтегральных Схем, фотошаблонощ, .масок и других изделий микроэлектрон1 ки.
Известны устройства для нанесения фоторези стив;ных пленок, содержащие установленный ;н,а шпинделе :патрои для .подложек, вакуумную систему для отсоса воздуха и приводной механизм .врандения шпинделя.
Цель и.зоб,ретеиия - повышение пролзводительности устройства и качества пленок - достигается тем, что патрон предлагаемого устройства выполнен в -виде установленных одна над другой полок, скре.пле;нных верти«альными штанга.ми, причем в штантах и лолках Быполне«ы калалы, соединенные : .вакуумной сЕстемой.
На фиг. 1 изображено описываемое устройство, вид .опереди; ;на фиг. 2 - сечение по Л-Л.
Патрон для ладложек / представляет собой установленные одна над другой полки 2, на которых закреплены столики 3. Полки скреплены через кольца 4 вертикальными штангами 5 с помощью гаек 6 с нп.ж.ней полкой 7 и верхней полкой 8. Для фиксации подложек У в щтангах 5 и .полках 2 илшются каналы, соединенные через центральный канал шлинделя 9 с вакуумной системой. Верхняя лолка содержит зонт W и гнездо для установки свободно вращающегося -центра // приводного механизма шпинделя 9.
Устройство работает следующим образом.
По.длож,ки / укладывают на столики 3 п фиксируют на них с .помощью вакуумного присоса. После одновременной выдачи дозы раствора фоторезиста на верхние поверхности всех обрабатываемых .подложек щпннаел 9 Првдводится ,во вращение с помощью приводного механизма, и фоторезистивная пленка наносится на подложки. После остаио.зки щпииделя вакуумный Присос отключают, и о.бр аботан.ные по.дложки снимают со столиков .патрона.
Предмет и з о б ip е т е н и я
Устройство для нанесения фоторезистивных нленОК, содержащее установленный .на
щлинделе патрон, служащий для размещения по.дложек, вакуумную систему для отсоса воздуха и приводной механизм вращения шпи.нделя, отличающееся тем, что, с целью повыщеиия его производительности и качества
нленок, патроп выполнен в виде установлен34
ных одна иад другой :полок, скрепленных чем в штангах и полках выполнены каиалы, |между собой вертикальными штангами, при- сое.диненные с вакуумной Системой.
480040
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА | 2009 |
|
RU2402102C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПОЛИМЕРНЫХ ПЛЕНОК | 1971 |
|
SU300912A1 |
Устройство для контактной фотолитографии на полупроводниковой пластине с базовым срезом | 2018 |
|
RU2674405C1 |
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ПОДЛОЖКЕ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 1992 |
|
RU2046450C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА МЕТОДОМ ЦЕНТРИФУГИРОВАНИЯ | 2012 |
|
RU2509390C1 |
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАТРИЦЫ ДЛЯ ДИСКОВОГО НОСИТЕЛЯ ИНФОРМАЦИИ | 1993 |
|
RU2113020C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА ВРАЩЕНИЕМ | 1992 |
|
RU2012093C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОЧНОГО ПОКРЫТИЯ НА ПОДЛОЖКУ | 1988 |
|
SU1674644A1 |
Устройство для нанесения фоторезиста на подложки | 1981 |
|
SU1035844A1 |
Способ изготовления микрополосковых плат СВЧ-диапазона с переходными металлизированными отверстиями на основе микроволновых диэлектрических подложек | 2023 |
|
RU2806812C1 |
Фиг f
Фиг.2
Авторы
Даты
1975-08-05—Публикация
1973-04-04—Подача