Устройство для нанесения фоторезистивных пленок Советский патент 1975 года по МПК G03C1/74 H05K3/28 

Описание патента на изобретение SU480040A1

Изобретение относится к устройствам для наа1есе;ния тонки,х лленок из жидких материалов, лреимущественно фоторезисти;вных пленок, на плоские .подложки при изготовлении полущроводнпковых и гибридных ИНтегральных Схем, фотошаблонощ, .масок и других изделий микроэлектрон1 ки.

Известны устройства для нанесения фоторези стив;ных пленок, содержащие установленный ;н,а шпинделе :патрои для .подложек, вакуумную систему для отсоса воздуха и приводной механизм .врандения шпинделя.

Цель и.зоб,ретеиия - повышение пролзводительности устройства и качества пленок - достигается тем, что патрон предлагаемого устройства выполнен в -виде установленных одна над другой полок, скре.пле;нных верти«альными штанга.ми, причем в штантах и лолках Быполне«ы калалы, соединенные : .вакуумной сЕстемой.

На фиг. 1 изображено описываемое устройство, вид .опереди; ;на фиг. 2 - сечение по Л-Л.

Патрон для ладложек / представляет собой установленные одна над другой полки 2, на которых закреплены столики 3. Полки скреплены через кольца 4 вертикальными штангами 5 с помощью гаек 6 с нп.ж.ней полкой 7 и верхней полкой 8. Для фиксации подложек У в щтангах 5 и .полках 2 илшются каналы, соединенные через центральный канал шлинделя 9 с вакуумной системой. Верхняя лолка содержит зонт W и гнездо для установки свободно вращающегося -центра // приводного механизма шпинделя 9.

Устройство работает следующим образом.

По.длож,ки / укладывают на столики 3 п фиксируют на них с .помощью вакуумного присоса. После одновременной выдачи дозы раствора фоторезиста на верхние поверхности всех обрабатываемых .подложек щпннаел 9 Првдводится ,во вращение с помощью приводного механизма, и фоторезистивная пленка наносится на подложки. После остаио.зки щпииделя вакуумный Присос отключают, и о.бр аботан.ные по.дложки снимают со столиков .патрона.

Предмет и з о б ip е т е н и я

Устройство для нанесения фоторезистивных нленОК, содержащее установленный .на

щлинделе патрон, служащий для размещения по.дложек, вакуумную систему для отсоса воздуха и приводной механизм вращения шпи.нделя, отличающееся тем, что, с целью повыщеиия его производительности и качества

нленок, патроп выполнен в виде установлен34

ных одна иад другой :полок, скрепленных чем в штангах и полках выполнены каиалы, |между собой вертикальными штангами, при- сое.диненные с вакуумной Системой.

480040

Похожие патенты SU480040A1

название год авторы номер документа
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА 2009
  • Комаров Валерий Николаевич
  • Комаров Николай Валерьевич
RU2402102C1
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПОЛИМЕРНЫХ ПЛЕНОК 1971
SU300912A1
Устройство для контактной фотолитографии на полупроводниковой пластине с базовым срезом 2018
  • Самсоненко Борис Николаевич
  • Разувайло Сергей Николаевич
RU2674405C1
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ПОДЛОЖКЕ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ 1992
  • Лискин Л.А.
RU2046450C1
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА МЕТОДОМ ЦЕНТРИФУГИРОВАНИЯ 2012
  • Нетесин Николай Николаевич
  • Короткова Галина Петровна
  • Корзенев Геннадий Николаевич
  • Поволоцкий Сергей Николаевич
  • Карпова Маргарита Валерьевна
  • Аксенова Ольга Владимировна
  • Цыганов Александр Борисович
  • Русских Галина Владимировна
RU2509390C1
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАТРИЦЫ ДЛЯ ДИСКОВОГО НОСИТЕЛЯ ИНФОРМАЦИИ 1993
  • Лодевэйк Жозеф Михел Беккерс
  • Христофер Жайне
  • Жозеф Петрус Де Нэйс
  • Марселус Адрианус Корнелис Мария Гертс
RU2113020C1
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА ВРАЩЕНИЕМ 1992
  • Иванов А.С.
  • Валентинов М.М.
  • Недоспасов В.Г.
  • Панов В.Д.
RU2012093C1
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОЧНОГО ПОКРЫТИЯ НА ПОДЛОЖКУ 1988
  • Чиркунов А.И.
  • Витовтова А.Н.
SU1674644A1
Устройство для нанесения фоторезиста на подложки 1981
  • Былкина Надежда Константиновна
  • Морозов Анатолий Иванович
  • Розыев Нургельды
SU1035844A1
Способ изготовления микрополосковых плат СВЧ-диапазона с переходными металлизированными отверстиями на основе микроволновых диэлектрических подложек 2023
  • Сучков Максим Константинович
RU2806812C1

Иллюстрации к изобретению SU 480 040 A1

Реферат патента 1975 года Устройство для нанесения фоторезистивных пленок

Формула изобретения SU 480 040 A1

Фиг f

Фиг.2

SU 480 040 A1

Авторы

Сандеров Вильям Лазаревич

Царев Виктор Николаевич

Ануфриенко Вячеслав Владимирович

Перемыщев Владимир Александрович

Кутко Петр Станиславович

Уксусов Аркадий Степанович

Стременов Игорь Алексеевич

Онсин Василий Иванович

Даты

1975-08-05Публикация

1973-04-04Подача