ним и тем же меткам, содержащимся на полупроводниковой подложке, что позволяет повысить точность совмещения.
Формула изобретения
Фотошаблон, содержащий стеклянную подложку, на рабочей поверхности которой выполнены рисунок из маскирующего материала, непрозрачного для экспонирующего излучения, и базовые метки для совмещения упомянутого рисунка фотошаблона с подложкой микросхемы, отличающийся тем, что, с целью повышения точности совмещения и сокращения потерь материала подложки микросхемы, на нерабочей поверхности стеклянной подложки фотошаблона напротив каждой базовой метки нанесено покрытие из материала с селективным светопропусканием, прозрачного для области спектра, в которой производят совмещение, и непрозрачного для экспонирующего излучения.
| название | год | авторы | номер документа |
|---|---|---|---|
| Фотошаблон для многослойной печатной платы | 1983 |
|
SU1112443A1 |
| Фотошаблон и способ его изготовления | 1978 |
|
SU938338A1 |
| Фотошаблон | 1974 |
|
SU516210A1 |
| СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПРЕЦИЗИОННОГО ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОГО РИСУНКА НА ЦИЛИНДРИЧЕСКУЮ ПОВЕРХНОСТЬ ОПТИЧЕСКОЙ ДЕТАЛИ И ПРИСПОСОБЛЕНИЕ ДЛЯ КОНТАКТНОГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2012 |
|
RU2519872C2 |
| Устройство для контактной фотолитографии на полупроводниковой пластине с базовым срезом | 2018 |
|
RU2674405C1 |
| СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ШАБЛОНА | 1996 |
|
RU2094966C1 |
| ФОРМИРОВАНИЕ МЕТКИ НА ДРАГОЦЕННОМ КАМНЕ ИЛИ ПРОМЫШЛЕННОМ АЛМАЗЕ | 2002 |
|
RU2285619C2 |
| Способ формирования изображений при фотолитографии | 1979 |
|
SU855792A1 |
| Способ фотолитографии | 1971 |
|
SU656555A3 |
| Способ получения рисунка фотошаблона | 1985 |
|
SU1308111A1 |
/ /
/
