Способ получения асферических поверхностей Советский патент 1977 года по МПК C03C17/30 

1

Изобретение относится к области оптической технологии изготовления асферических поверхностей на оптических деталях.

Известен способ получения асферических поверхностей путем нанесения на заготовку разделительного асферизующего слоя из моноокиси кремния в вакууме 1.

Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату к предлагаемому способу является способ получения асферических поверхностей путем нанесения на подложку ело-, ев моноокиси кремния переменной толщины через маску электронно-лучевым методом 2. Этот способ заключается в том, что наносится асферизующий сло моноокиси кремния термическим испарением в вакуумной камере в два этапа: вначале на заготовку, нагретую до 300-400С, осаждается равномерный подслой моноокиси кремния, а затем через маску осаждается разнотолщинный слой моноокиси кремния при обычной-;, температуре заготовки около 30 С.

Однако известные способы обладают следующими недостатками: требуют специального нагрева заготовки, удлиняющего технологический процесс; при термическом испарении моноокись кремния трудно стабилизируется по показателю преломления, что приводит к дополнительным ошибкам геометрической толщины асферизующих слоев, т.е. снижению качества асферической поверхности; кроме TorOjтакие способы обладают недостаточно высокой прочностью. Цель изобретения - повышение качества и прочности асферизующих слоев.

Это достигается тем, что в качес.тве окисла кремния используют кварц, а нанесение слоев ведут дискретно с толщиной каждого слоя 0,1-0,2 мкм с

интервалами, равными времени осаждения одного слоя.

Такой режим позволяет уменьшить поверхностные и внутренние напряжения в слоях и благодаря этому сохранить

правильную форму асферической поверх ности, а также исключить растрескивание и отклонение.

Данный режим нанесения слоев обеспечивает достаточную производительность, так как позволяет получать полный асферизующий слой, например, в 1 мкм за время 30 минут.

Использование изобретения позво.т:ит повысить процент выхода годных изделий

при вакуумной асферизации и улучшить

качественные показатели асферических поверхностей.

Формула изобретения

Способ получения асферических поверхностей путем нанесения на подложку слоев окисла кремния переменной толщины через маску электронно-лучевым методом, отличающийся тем, что, с целью повышения качества

и прочности слоев, в качестве окисла кремния используют кварц, а нанесение слоев ведут дискретно с толщиной каждого слоя 0,1-0,2 мкм с ин.тервалами, равными времени осаждения одного слоя.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе:

1.Авторское свидетельство СССР 268621, кл. С 03 С 17/06, 1968.

2.Авторское свидетельство СССР 381622, кл. С 03 С 17/30, 1971.