Устройство для электролитического нанесения покрытий Советский патент 1978 года по МПК C25D21/12 

щадок в некоторой мере снижает и равномерность покрытий.

Целью изобретения является повышение производительности процесса электроосаждения и улучшение равномерности покрытий.

Это достигается тем, что устройство снабжено блоком скважности токов анодных плошадок, состояш,им из последовательно соединенных узла делительных звеньев и узла широтно-имнульсных преобразователей, причем входы блока скважности токов анодных плошадок подключены к датчикам плотности тока и к блоку определения средней илотности тока, а выходы - к коммутатору.

На чертеже представлена структурная электрическая схема предлагаемого устройства.

Устройство содержит анод 1 в виде электрически изолированных плоидадок, датчики 2 плотности тока, расположенные в гальванической ванне 3 и соединенные с блоком 4 скважности токов анодных нлопдадок и с блоком 5 определения средней плотности тока, выход которого подключен к блоку 4 скважности токов анодных плош.адок, состояшему из последовательно включенных узла 6 делительных звеньев и узла 7 широтно-импульсных преобразователей, выход которого соединен с коммутатором 8, подключенным к электрически изолированным между собой площадкам анода 1, каждой из которых соответствует определенный датчик 2 плотности тока, и к выходной клемме источника 9 питания, вторая клемма которого соединена с катодом 10.

Устройство работает следующим образом.

Выходные сигналы датчиков 2 плотности тока, пронорциоиальные локальным плотностям тока ванны 3, поступают на входы блока 4 сквалСности токов и блока 5 определения средней плотности тока, с помощью которого дается оценка средней плотности тока, подаваемого на вход узла 6. Выходные сигналы этого узла, представляющие собой отношение средней плотности тока к их локальным значениям и преобразованные узлом 7 в пропорциональные по длительности импульсов токов, поступают на входы коммутатора 8, предназначенного для раздельной коммутации в соответствии с длительностями следования импульсов токов площадок анода 1, входящих совместно с источником 9 питания и катодом 10 в отдельные электрические цепи.

Такое устройство позволяет повысить равномерность покрытий за счет ведения процесса с подачей на различные анодные площадки импульсов токов различной длительности. Так как длительности следования импульсов токов в цепях анодных площадок обратно пропорциональны величинам плотности тока участков гальванической ванны, то значительно повышается равномерность распределения осадка металла иа катоде. Кроме того, из-за улучшения равномерности покрытий данное устройство позволяет уменьшить длительиость процесса электроосаждения для достижения заданной минимальной толщины покрытия и, следовательно, повысить его производительность.

Сравнительные данные испытаний данного устройства с данными известного показали, что равномерность гальванических покрытий может быть повышена в 2- 2,5 раза, а длительность процесса электроосаждения может быть снижена на 10- 15%. Кроме того, иредлагаемое устройство позволяет сократить расход осаждаемого металла..

Формула изобретения

Устройство для электролитического нанесения покрытий, содержащее гальваническую ванну, катод, анод в виде электрически изолированных между собой площадок, датчики плотности тока, блок определения средней плотности тока, коммутатор и источники питания, отличающееся тем, что, с целью повыщения производительности процесса электроосаждения и

улучшения равномерности покрытий, оно снабжено блоком скважности токов анодных площадок, состоящим из последовательно соединенных узла делительных звеньев и узла щиротно-импульсных преобразователей, причем входы блока скважности токов анодных площадок подключены к датчикам плотности тока и к блоку определения средней плотности тока, а выходы к коммутатору.

Источники информации,

прииятые во внимание при экспертизе

1.Авторское свидетельство СССР № 382765, кл. С 25D 21/12, 1973.

2.Авторское свидетельство СССР ДЬ 475603, кл. С 25D 21/12, 1975.

3.Авторское свидетельство СССР № 480776, кл. С 25D 21/12, 1975.