Композиция,чувствительная к облучению Советский патент 1978 года по МПК G03C1/68 

1

Изобретение относнтся к области пс лучення светочувствительных композиций, используемых в процессах печатания, светокопировальных процессах.

Известна композиция, светочувствительная к облучению, состоящая из подложки с нанесенным на нее слоем, содержащим по крайней мере одно ненасыщенное этиленовое соединение, например диэтнленгликольдиакрилат, в качестве свзующего - поливиниловый спирт, ингибитор и фотоинициатор полимеризации, например триароилфосфин.

Для увеличения пределов спектральной чувствительности светочувствительной композиции в качестве фотоинициатора полимеризации предложены S -триазиновые соединения, замещенные по крайней мере одной галоидметильной группой, преимущественно тригалоидметильной: группой, и хромоформной группой, связанной с триазиновым кольцом посредством ненасыщенной этиленовой связи, причем указанное соединение при возбуждении их излучением от актиничного излуча

теля при длине волны примерно от 330 до 700 ммк с пособны образовывать свободные радикаль.

Наиболее характерны хромофорзамеще ные винилгалоидметил - § -триазиновые соединения нижеследуюидай формулы Т

IS

(CH CBJi-V

10

I

p. , .

где Q - атом хлора или брома,

Р - CQy -KH2.-VIHT i,- или 01, Т - фенил или низший алкил (под низшим алкилом подразумевается алкильная группа, включающая не белее щести атомов углерода);

И - целое число равное 1-3; W - замещенное (или незамещенное) ароматическим ядром или замещенным индолилом-3, или соединение общей формулы Ц

где 21 - представляет собери кислород и|,и

J серу;,

Т - атом водорода, группа низшего алкила или группа феннла; W« может быть замещен хлором, бромом, фенилом, низшим алкилом (алкилом, содержащим не более шести атомов углерода), ннтрогруппсЛ, фенокснльноК грушки, алкоКСШ1ОМ, ацетоксилом, апетилом, аминовой группой, алкнламиновой грушой и др.

S -Триазшкжые соединения образ свободные радикалы при облучении от актиничнся о излучателя, при длине волг616064

ны лучей в пределах примерно ЗЗО7ОО ммк. Эти соединения используются в качестве фотоиниииаторов в чувствителЬ Шдх к облучению составах и элементах. Таким образом, они могут быть введены в полимеризуемые, структурируемые и печатные составы, используемые для получения рельефных печатных пластин, фотосопротивлений и фотографических элементов

Предлагаемая композипия является продуктом реакции конденсации некоторых метилгалоидметил-: 5 -триазинов и некотсфых альдегидов или альдегидных прои юдных.

Наиболее Таенными являются фотоинициаторы, имеющие структурную формулу, представленную в таблице 1, ;Т . л и ц а 1

СЬС-С С-СН Й

С-( VOCHj 190-192

TT .. I С1зС-СГ С СН«СН-/ 186-187

з1. ж /

ОСИз

ccij

и , ,

(%C-Qс1зС- г; с-сн сн

OCHj157-158401 Jci3

377

2,72

394

2,98

2,98 156-158 С1 147-149 ,99-201

f

/

сн. 8

СС1з

С1зС-() 180-182 If,-3

CClj Clз C-C C-CHИШ/3 - я ®

Ч.

СС1з ,

ITQ-XN

С1зС-(|, ;-сн сн-й1 с

i

сс1з.

IT

СЬС-С 6-01 01-СгГ 175

тг .-i Л В J

V

IС (

g

сС1з гГ сиз

СС1з

VOCH3 248-249340

Id Н21 Г-СЛС-СН

V

СС1з

Продолжение таблицы

1,59

468

23О

495

О,71

3,54

380

488

4,ОО

2Д2

447

3,32 гл Cl3C-f -(()K/ С1 -220 V К з Фотоинициаторы, соответствующие изобретению, имеют важное значение для фоточувствительных составов, испол оуемых в различных обрааукших изобра жение системах, в которых желательна повьпыенная чувствительность к свету. Так,, например, фотоподимериаующиеся сосгавы, содержащие фотоиниииаторы, на ходят ценное применение рпй излучения элементов, используемых в типографском печатании, в особенности для приготовления элементш, применяемых для получения обратного изображения. Они применяются также для элементов, используемых для получения фотополимерных литографских пластин. Фотоинихщаторы могут присутствовать также в не содержащих серебро фоточувствительных составах, применяемых в фоторепродуиированных системах, основанных на отсутствии кислоты, например в системах; в которых образуются; окрашенные или отбеленные изображения. Фотополимеризующиеся составы, в которых могут успешно использоваться описьшаемые фотоинициаторы обычно состоят из инишшрованного свободным радикалом дополнительно вводимого полимера с разветвленной цепью с ненасыщенными этиленовыми связями, фотоинициатора и одн го или нескольких из следующих компоне тов: наполнитель, связующие красители, ингибиторы полимеризации, исходный про дукт красителя, кислородные очистители и так далее. S -Трназинсжые соединения по изобретеншо присутствуют в количестве, достаточном для осуществления процесса полимеризации полимеризуемого соединения. Соответствующие отнощения ингредиен . тов представляют собой следующие значе ния: на каждые 1ОО частей полимеризуемого соединения может присутствовать О,О005-1О частей фотоинициатора, О-2ОО частей наполнителя, О-2ОО часте связующего и 0-10 частей или более кра сителя, ингибитора полимеризации,-исход ных продуктов красителя, кислородных очистителей и так далее, которые могут быть необходимы для использования опре деленного фотополимеризуемого состава. Преимущественно на 1ОО частей полимеризующихся соединений используется 1-7,5 частей фотоинициатора. Соответствующие инициированные свободные радикалы, дополнительно вводимые полимеризуемые соединения с разветвленной цепью, с этиленовыми ненасыщенными связями включают алкилен или полиалкиленгликолевые диакрилаты. например этиленглнкольдиакрилат, дйэтиленгликольдиакрнлат, глицериндиакрилат, гллщеринтриакрилат, этиленгликопьдиметакрилат, 1,3-пропандиэтилметакрилат, 1,3-пропавдиэтилметилкрш1ат, 1,2,4бутантриолтриметакрилат, 1,4-циклогександиолдиакрилат, пентаэритриттетраметакрилат, пентаэритриттриакрилат, сорбитогексакрилат, бис- 1- (3-акрилокси- 2гидроксиД -п-пропоксифенилдиметил метан, бис- l ,2-( 2-акрилокси)1 -п-этоксифенилдиметилметан, трисгидроксиэтилизоцианураттриметакрилат, бисакрилаты и бисметакрилаты полиэтиленгликолей с молекулярным весом 2ОО-500 и так далее; ненасыщенные амиды, например метилен бисакриламид, метиленбисметакриламид, 1,67гексаметиленбисакриламид, диэтилентриаминтрисакриламид, jb -метакриламиноэтилметакрилат, виниловые эфиры, такие как дивинилсукиинат, дивиниладипат, дивинилфталат, причем наиболее предпочтительные соединения с ненасыщенными этиленовыми связями включают пентаэритритолтетракрйлат, бис-Гп- (3-акрил окси-2-гидроксипр опокси) фенил|-диметилметан и бис-Гп-(Х-акрилoкcиэтoкcи)-фeнилJ-димeтилмeтaн. Могут использоваться также смеси этих эфиров с алкиловьпу1и эфирами акриловой кислоты и метакриловой кислоты, включая такие эфиры, как метилакрилат, метилметакрилат, этилакрилат, изопропилметакрилат, н-гексилакрилат, стеарилакрилат, аллилакрилат, стирол, диаллилфталат и так далее. При изготовлении фоточувствительных составов компоненты смещиваются в произвольном порядке и перемешиваются или размалываются, образуя раствор однородной степени дисперсности. Фоточувствительные элементы приготавливают путем нанесения сухого покрытия соответствующего фоточувствительного состава толщиной примерно от 0,ООО05 до 0,07 5 дюйма на соответствующую основу или подложку, и путем сушки этого покрытия. В качестве подходящей для данной цели основы или подложки для нанесения фоторсувствительного состава используются металлы, например стальные и алюминиевые пластины, листы и фольга, а также пленки или пластины, состоящие из различных пленкообразующих синтетических или высокомолекулярных полимеров, содержащих допопнитель но вводимые полимеры, например полимеры и сополимеры винилиден- хлорида, винилхлорида, вииилацетата, стирола, изобутилена; линейные поли меры конденсации, например полиэтилентерефталаг, полигексамегиленадипат, полигексаметиленадипададипат. П р и м е р 1, На полиэтиленовую пленку с помощью ножа наносят влажное покрытие (толщиной 2 мила/0,05 мм) раствора, содержащего 5,0 частейBuivo В-72А (торговое название поливинилбутираловой смолы, поставляемой фирмой Монбап о Chemical Со ), з,о части триметилолпропантриметакрилатаи 0,2 час 2,4-бис- (трихл орметил) -6- г -метоксисти рил- 6 -триазина в 10О частях дихлорида этилена. После выпаривания растворителя липкое покрытие наслаивалось на другую полиэфирную пленку, и затем материал, имеющий слоистую структуру (типа сандвича) подвергают экспонированию в т ;ение 10 сек посредством вольфрамоиодидной лампы, причем экспонирование осуществляют через фотограП р и м е р 2. Приготовление печат ных пластин, илшострирующйх более высокую эффективность в присутствии кислрода хромофорсодержащих фэтоинициа- торов, соответствующих настоящему изобретению, по сравнению . с обычными инициаторами, содержащими свободные радикалы.

Приведен ряд покрытий на анодированных алюминиевых пластинах (промышленно доступных) rWCsletH Q ailiie Qpoirt , поставляемый фирмой WestfiKK

UHho PEale attcl suppFy cowpa)

с использованием гомогенных растворов этилендихлорида-фермвар15/95

Торговое название смолы поливинилформаля, поставляемой фирмой MottSattlo ChQ wicaH ,38

V мен виниловая смола (торговое название) сополимера винилацетат (винилхлорид) малеиновый ангидрид, поставляемого фирмой Utticoit С01кЬ(с1оС(/2,46

ТриметилолпропантриметакрИ лат6,00

Триметакрилат трисгидроксиэтилизодианурата2,00

Циан XT -553758 (торговое название фталодианинового пигмента, поставляемого

фирмойАтетсак Cjoinaitticl) 1.22

Инициатор0,40

Эти пластины экспонируют в , течение 70 сек через фотографический ступенчатый клин в вакуумной копировальной раме с использованием 135 а источника создания освещения - угольного стержня для создания дуги высокой фоточувствительности 118 (торговое название угольного стержня,, поставляемого фир-

мой Uiiiott (3e ), расположенного на расстоянии 1,29 м от пластины. Для проявления эти пластины покрьшают раст вором, содержащим 35% н-пропилового спирта, 6О% дистиллированной воды, 1,5% сульфата аммония и 1,5% первичного кислого фосфорнокислого аммония. Неэкспонированные участки удаляют, используя проявляющее средство 3MBfOlMd (торговое название), при равномерном стирании (от слабого до умеренного воздействия). Ниже представлены з,начения относительной эффективности различных фотоинидиаторов, используемых в ряде проявляюшл;хся ступеней. Одиннадцать фический ст1пенча1ый клин. Пленки далее удаляют и наносят покрытие то- нирующего порощка ЗМБгалс системы А-90 (торговое название), который склеивают с липкими неэкспонированными участками, но не с фотополимеризованными участками. Получают стойкое несмываемое позитивное изображение, соопветствующае четырем открытым ступеням на клин. Материал с аналогичной структурой получают, используя те же количества (0,2 частей) фотоинициатора, перечисленных в таблице 2, и их спектральные характеристики в каждом случае измеряют, используя лабораторный спектрограф. Наблюдаемые данные соотносят в пределах экспериментальной ошибки с максимумом поглощения и Спектром этих ма- териалов. Таолица2 проявляемых ступеней на пластинах приготавливали с использованием хромо форсодержаших фотоинициаторов, соответ вующих изобретению, в то время как не лее семи проявляемых ступеней на пласт приготавливали с использованием фотоинициаторов, описанных ранее. Прояв Фотоинициатор - соединение, мые с части пени 1.0,4 метилэфир бензоина 2.0,4 антрахинон 3.0,4 фенатрахинонО-1 4.0,4 2-этил-9,10-диметоксиантраценО-15.0,4 этил-9,10-диметоксиантрацена; 0,4 2,4,6-трис-(трибромометил)-6 -триазин77.0,4- 2-этил-9,10-диметоксиантрацен, О,4-2,4-бис- (трихлорметил)-6-метил-триазин38.0,4 1-(п-метоксифенил)-3-(п-дифениламинофенил)-2-пропен- 1-он; 0,4 2,4-бис-(трихлорметил)-6-метил- 6 -триазин4 9.0,4 хромофорсодержащий фотоиниииатор (соединение 4) 11 Ю. 0,4 хромофорсодержащий фотоинициатор (соединение 5) 11 П р и М е р 3. На полиэфирную пле наносят влажное покрытие толщиной 0,075 мм фоточувствительного состава содержащего, части: Buivat B-72 (торговое название) 2,5 ц-Диметиламинофенилбис-( 2-метилиндолил)-метан1,О Соединение 4О,5 Метанол-этиленхлорид3,0 При экспонировании получают глубокое окрашивание, которое служит характеристикой окисленной формы лейко-кра сителя. Аналогичным образом (лейкоосновани 2-п-диметилстирилхинолин и лейкокраси ейкокристалл фиолетовый, также дают ксии ируемые изображения, основанные на проессах получения фотолитической кислоты и фотоокисления в случае использования етилбис-( 2-метилиндол) -метана. Формула изобретения 1. Композиция, чувствительная к облуению, состоящая по крайней мере из одного ненасыщенного этиленового соеинения и фотсжнициатора полимеризации, отличающаяся тем, что,, с елью расширения предела спектральной увствительности, в качестве фотоинициаора полимеризации введено соединение общей формулы Т CQ.( V YI где U - атом хлора или брома; ТР - представляет собой СО,,, , NH, -ТУНТ, -П. или ОТ ; R - фенил или алкил (С : 6); « 1-3; . А/ - замещенное или незамещенное ароматическое ядро или замещенный индолил-3 или радикал формулы 11 -Ш-С где Z - кислород или сера; К - Н, фенил, алкил. 2. Композиция, чувствительная к облучению по.п. 1, отличающаяся тем, что соединение формулы I введено в количестве 1-7,5 вес.ч. на 100 в. ч. этилен(жого соединения.