Матрица для изготовления одноступенчатых фазовых оптических элементов Советский патент 1978 года по МПК B29D11/00 B29C1/00 

Изобпетс; : K.icacTCH изготовления одноступенчатых (|);: ()вых оптических элементов из по.1име; Ь Х материа.юв, в частности, бииа)ны ();ijiocT ;с;;чат |) фаз(,)вых ироз|), :-,1и птоа:1 Г1тельных мульт11Г1.1икаторон ,11 систем обработки оптических сигиалов.

Из1;сстиы еталлические матрицы д.тя из:-v::,,ienii/i оитичсских изде.тий 1.

Известная матрица имеет недостаточную r-aHHOMopiiocTb высоты ре.тьефного рисунка па ее иоверхности, что отрицательно сказывается иа характер11стиках мультииликаторов с BbicoToii рел1,ефного рисунка, соизмеримо с волны оитического диапазон а.

Це.ть 13()б1)етения - товыи ение paBiioмерност pe.Tbeibiiiiix p icvHKOB no iOBCiixHoc Т1 образла при )тов.тении бииарш Гч фазовых му.()ров иуте. рел - ефных копий с матриц, имеющих рельефный |)исугП высотой в иреде.тах от ;и: носко.тьких в(лн злучения оитическо о диапазона.

Эта 1ель достщ-ается применением металлизированного , в качестве N aTpH U)i для изготовлеиия одноступенчатых фазовых оит гческ 1х элементов из полимерных .атериало 5.

На фиг, 1 изображен метал.тиз роваинь Й фото1 аб;1О1. иа . 2 -- . с Hai eceni иа c. i стек1ЯППОЙ п.тастиио ;. на . 3 - зделне.

.т,тизирова1 Н 11Й фото иабло 1 С1)держит стеклянную с нанесенным иа нее p ieyнкo ; 2, д,1я создаи1 я кото|1ого н.с1ю.т)3ован хрол.

Изготов. ibi o .т11тиил катс1ра ос деетвляют иутем за. 1 овсрх ост еталлизнрованного фотонюблона полимером 3 па KOTOpbiii ;ак.1адыва1от стекляи1 HJ 4. После 1Ю.Т -;мера iTTacтниу с . с.тое огде, от фотошаб,.

Рисунок фот(.тона соответствует 13готовляемо . Н атору. а высота .тьефа соста 5,тяет 0.3 мкм. Мета.тт зирова ну 0 1ове;1 1К)сть .тона перед наиесе 1ем iO..:tpa 1окрывают a iT ia;uC3i оии1 1м cTuiM, а стек.тяннх ю и.тастину 4 1одверг;; от а;,гез1;) обработке. Мос.те отде. (к)|Ч)и,.аб.и)|1а ит стек. Г.тастиН с o, (Мул ,1 катор I иа ;оследней 1олучат ре.тьефиый рисунок. обратн з Й

рисунку фотошаблона. В результате получают прозрачный фазовый рельефный рисунок высотой 0,3 мкм с отклонення.мн в пределах ±0,02 .V1K.VI по нлощадн 5 X 50 мм.

Блатодаря нрнменению металлизированного фотошаблона в качестве xiaTpnuiji д.чя изготовления одноступенчатых фазовых онтичеекнх y.ieMei-rroi, новьпнается равномерность высоты рельефных рнеунков на новерхпостн фазовых му.тьтннлнкаторов в пределах не ниже 0,05 мкм нрн высоте рельефа от 0,3 до 3 MK.vi но п.тон1ад11 матрицы 50 X X 50 мм, что новьппает точность работы систем обработки оптических сигналов, в ко.-Vi|,-/

, , ..r

626967

Формул а изобретен и я

11р1.менение металлизирова11но1Ч) фотошаблона в качестве матрицы для изготовления одноступенчатых фазовьгх оптических vi.ieментов нз полнмерных матерна.юв.

Источи1и и информации. ир11нят1 1е во внимание ири экспертизе:

1. Авторское свндетел1 ство До 211095, кл. G 03 С 7/14, 19G8.

.Ed:

Уиг.

-:r,-...-3

(Рог. 2