Способ очистки поверхности от намагничивающихся частиц Советский патент 1978 года по МПК B08B7/00 

Это достигается тем, что по предлагаемому способу источник магнитного поля перед введением в очищаемую полость помещают в магнитопроницаемую оболочку, совместно С упомянутой оболочкой вводят в очищаемую полость и выводят из полости, после чего источник магнитного поля извлекают из магнитопроницаемой оболочки и извлеченные частицы с упомянутой оболочки удаляются силами гравитации.

На фиг. 1 показано устройство для реализации предлагаемого способа, исходное положение; на фиг. 2 - то же, в очищаемой полости.

Источник 1 магнитного поля устанавливают с возможностью осевого перемещения в корпусе 2. В корпусе 2 на своих направляющих 3 устанавливается соосно с источником 1 магнитного поля магнитопроницаемая оболочка 4. Упругие элементы 5, например спиральные пружины, удерживают магнитопроницаемую оболочку 4 в крайнем правом (по чертежу) положении.

Устройство устанавливается против очищаемой полости (или наоборот). Источник 1 магнитного поля приводится в движение вдоль оси, вводится в магнитопроницаемую оболочку 4 и далее перемещается уже вместе с ней. Совместно с магнитопроницаемой оболочкой 4 источник 1 магнитного поля вводится в очищаемую полость. Так как магнитное поле беспрепятственно проходит через оболочку 4, то частицы намагничиваются, притягиваются к источнику магнитного поля и удерживаются магнитным полем на оболочке 4. Спустя некоторое время, достаточное для очистки полости от частиц, источник 1 магнитного поля совместно с магнитопроницаемой оболочкой 4 выводится из очищаемой полости - перемещается вправо (по чертежу). Вместе с ними извлекаются и прилипшие частицы. Магнитопроницаемая оболочка 4 перемещается за источником 1 магнитного поля упругими элементами 5 до остановки корпусом 2. Источник 1 магнитного поля продолжает при этом движение и выводится из магнитопроницаемой оболочки 4. Все элементы устройства при этом находятся вне очищаемой полости. Магнитопроницаемая оболочка 4 оказывается вне зоны действия магнитного поля. Извлеченные частицы перестают удерживаться на оболочке 4 и под действием сил гравитации удаляются с нее.

Так как оболочка Магнитопроницаемая и не имеет остаточного магнетизма, то на ее поверхности не накапливаются удаленные частицы и не требуется дополнительных устройств для ее очистки.

Устройство полностью очищается от налипщих частиц, что повыщает однородность магнитного поля в очищаемой полости и степень очистки ее от намагничивающихся частиц. Полностью исключается дополнитель ный труд по очистке самого устройства.

Формула изобретения

Способ очистки поверхности от намагничивающихся частиц, преимущественно глухих полостей путем подвода к очищаемой поверхности источника магнитного поля для обеспечения притягивания к нему намагничивающихся частиц, последующего отвода источника и удаления с него намагничивающихся частиц, отличающийся тем, что, с целью повыщения производительности труда и эффективности очистки, источник магнитного поля перед подводом его к очищаемой поверхности помещают в магнитопроницаемую оболочку, а удаление частиц осуществляют-путем снятия магнитопроницаемой оболочки.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе:

1. Патент США № 3204492, кл. 77-5, 1970.

2. Авторское свидетельство СССР № 220270, кл. В 24 Q 4/02, 1970.

L:

V V V V V V V V

л л л А л л /л

vv V V V V

U2J

лллллллл

fu2.2

Ь дддддд rv VWVWVl

R