Устройство для нанесения фоторезиста на пластины Советский патент 1979 года по МПК B05C11/02 

Описание патента на изобретение SU665951A1

Изобретение относится к устройствам ДЛЯ нанесения покрытий посредством центробежной сипы и может быть, в част ности, использовано для нанесения светочувствительного споя (фоторезиста) на пластины и фотошаблоны при химической фотогравировке. Известно устройство ДЛЯ нанесения светочувствительного споя на пластины при химической фотогравировке, содержащее сборник фоторезиста, установленную внутри него вращающуюся оправку с вакуумной ПОЛОСТЬЮ и каналом для подвода вакуума, вакуумное уплотнение и электро двигатель l. , Недостатком его является большая СЛОЖНОСТЬ конструкции и изготовления,, а также низкая эксплуатационная надежность. Известно также устройство для нанесения фоторезиста н пластины, содержащее вертикально установленный барабан со СТОЛИКОМ и расположенные по периферии барабана держатели для закрепления пластин в горизонтальной плоскости 2, Данное устройство является наиболее близким к изобретению по технической сущности и достигаемому результату. Недостатком его является то, что оно не обеспеч1шает надежной фиксации обрабатываемых пластин, вследствие чего при раскрутке барабана пластина ударяется о держатели. При нанесении фоторезиста на пластины из хрупких материалов, например германия ИЛИ кремния, это ведет к образованию СКОЛОВ по краям пластин и мккротрацин в теле пластины, и суп1ественно снижает процент выхода годных на последующих операциях изготовления микросхем. Целью изобретения 5юляется исключение повреждения пластин. Указанная цель достигается тем, что держателя установлены с возможностью поворота на закрепленных в барабане осях и снабжены грузами, расположенными на их нерабочих концах. Кроме того, с целью регулирования зажимного усилия, грузы установлены с возможностью перемещения вдоль нера бочихчгонцов держателей. Устройство для нанесения фоторезиста на пластины изображено на чертеже. Устройство содержит вертикально установленный барабан 1 со стошжом 2 и расположенные по периферии барабана 1 держатели 3 для закрепления пластин 4 в горизонтальной плоскости. Держатели 3 установлены с возможностью поворота на закрепленных в барабане 1 роях 5 и снабжены грузами 6, расположенными на их нерабочих концах. Грузы 6 усУайЪтвлёны с возможностью перемещения вдоль нерабочих концов держателей 3 и фиксируются на них при помощи гаек 7. Устройство для нанесения фоторезиста на пластины работает следующим обрадом Пластину 4 укладьгоают на поднятый в крайнее верхнее положение столик 2, после чего столик 2 под действием привода возвратно-поступательного переЫещения (на ертеже не показан) опускается в крайнее нижнее положение и пластина 4 ложится на барабан 1. При этом межДУ,ДДвстиной 4 и.столиком 2 образуется зазор. После этого на центр пластины 4 наносят дозу фоторезиста и соо&цают барабану 1 вращательное движение с большой скоростью. Под действием центробежных сил грузы 6 бТ1х: йят от оси вращения барабана 1. При этом держатег ли 3 пбвбраЧйвйются вокруг осей S и своими рабочими концами надежно зажимак)т пластину 4. После того как под действием центробежных сил фоторезист растечется по пластине 4, барабан 1 останавливают. При этом держатели 3 под действием грузов 6 принимйк)т первоначальное вертикальное положение и ос вобождают пластину 4. Под действием привода .столик 2 поди пластина 4 с нанесенным нймаетея, слоем фоторезиста выгружается. Цикл повторяется. Зажимное усилие держателей 3 регулируется путем перемещения грузов 6 вдоль нерабочих концов держателей 3. Фиксация грузов в требуемом положенииОсуществляется гайками 7. Данная конструкция устройства для нанесения фоторезиста на пластины исключает побреждение краев пластины и образование микротрещин в теле пластины за счет обеспечения надежной фиксации пластин. Это способствует увеличению процента выхода годных на последующих операциях изготовления микросхем. Кроме того, конструкция устройства по;зволяет осуществлять фиксацию пластин, а также снятие фиксиругоЩих усилий при остановке барабана автоматически за счет использования центробежных сил. Испытания макета предлагаемого устройства для нанесения фоторезиста на пластины показали, что оно полностью исключает повреждение обрабатьиваемых пластин, ь то время как при нанесении фоторезиста на известных устройствах до 3% пластин повреждаются. Формула 11з6бретения 1.Устройство для нанесения фоторезиста на пластиньт, содержащее вертикально установленный барабан со столиком и расположеннью по периферии барабана держатели для закрепления пластин в горизонтальной плоскости, о т л и ч аю ад е е с я tsM, что, с целью исключения повреткденйя пластин, держатели установлены с возможностьюnoBopqiTa на закрепленных в барабане осях и снабжены грузами, расположенными на их нерабочих концах. 2.Устройство по п. 1, о т л и ч аю щ е е с я т&л, что, с целью регулирования зажимного , грузы устанрвленыг с возможностью перемйцения вдоль нерабочих концов держателей. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1.Авторское свидетельство СССР № 358019, кл. В 04 В 5/ОО, 197О. 2.Авторское свидетельствр СССР № 360110, кл. В 04 В 5/00, 1970.

Похожие патенты SU665951A1

название год авторы номер документа
Устройство для нанесения фоторезиста на пластины 1978
  • Никулин Николай Иванович
SU728937A1
Устройство для нанесения фоторезиста на пластины 1975
  • Комаров Валерий Николаевич
  • Никулин Николай Иванович
  • Поярков Игорь Иванович
SU555917A1
ПАТЕНШ-ТЕХКНЧЕГКАБИбЛМОТЕКА 1972
SU360110A1
Центрифуга для нанесения фоторезис-TA HA плАСТиНы 1979
  • Востриков Лев Федорович
  • Степанов Валерий Васильевич
  • Фандеев Владимир Викторович
SU850220A1
Устройство для нанесения покрытия на подложки 1978
  • Никулин Николай Иванович
SU790376A1
Устройство для нанесения текучего материала на пластины 1978
  • Сагайдак Дмитрий Ильич
  • Зятьков Иван Павлович
  • Зубарева Мирослава Михайловна
  • Леташков Анатолий Васильевич
SU701724A1
Устройство для нанесения покрытий на пластины 1983
  • Рак Владимир Харитонович
  • Ловгач Валерий Николаевич
  • Палий Олег Иванович
  • Кудрячев Леонид Константинович
SU1134241A1
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА ВРАЩЕНИЕМ 1992
  • Иванов А.С.
  • Валентинов М.М.
  • Недоспасов В.Г.
  • Панов В.Д.
RU2012093C1
Центрифуга для нанесения фоторезиста на подложку 1981
  • Музыкант Анатолий Федорович
  • Косыгина Лариса Васильевна
  • Степанов Валерий Васильевич
SU973171A1
Центрифуга для нанесения фоторезиста на пластины 1983
  • Зеленский Валентин Александрович
SU1113180A1

Иллюстрации к изобретению SU 665 951 A1

Реферат патента 1979 года Устройство для нанесения фоторезиста на пластины

Формула изобретения SU 665 951 A1

SU 665 951 A1

Авторы

Никулин Николай Иванович

Даты

1979-06-05Публикация

1977-11-09Подача