Изобретение относится к устройствам ДЛЯ нанесения покрытий посредством центробежной сипы и может быть, в част ности, использовано для нанесения светочувствительного споя (фоторезиста) на пластины и фотошаблоны при химической фотогравировке. Известно устройство ДЛЯ нанесения светочувствительного споя на пластины при химической фотогравировке, содержащее сборник фоторезиста, установленную внутри него вращающуюся оправку с вакуумной ПОЛОСТЬЮ и каналом для подвода вакуума, вакуумное уплотнение и электро двигатель l. , Недостатком его является большая СЛОЖНОСТЬ конструкции и изготовления,, а также низкая эксплуатационная надежность. Известно также устройство для нанесения фоторезиста н пластины, содержащее вертикально установленный барабан со СТОЛИКОМ и расположенные по периферии барабана держатели для закрепления пластин в горизонтальной плоскости 2, Данное устройство является наиболее близким к изобретению по технической сущности и достигаемому результату. Недостатком его является то, что оно не обеспеч1шает надежной фиксации обрабатываемых пластин, вследствие чего при раскрутке барабана пластина ударяется о держатели. При нанесении фоторезиста на пластины из хрупких материалов, например германия ИЛИ кремния, это ведет к образованию СКОЛОВ по краям пластин и мккротрацин в теле пластины, и суп1ественно снижает процент выхода годных на последующих операциях изготовления микросхем. Целью изобретения 5юляется исключение повреждения пластин. Указанная цель достигается тем, что держателя установлены с возможностью поворота на закрепленных в барабане осях и снабжены грузами, расположенными на их нерабочих концах. Кроме того, с целью регулирования зажимного усилия, грузы установлены с возможностью перемещения вдоль нера бочихчгонцов держателей. Устройство для нанесения фоторезиста на пластины изображено на чертеже. Устройство содержит вертикально установленный барабан 1 со стошжом 2 и расположенные по периферии барабана 1 держатели 3 для закрепления пластин 4 в горизонтальной плоскости. Держатели 3 установлены с возможностью поворота на закрепленных в барабане 1 роях 5 и снабжены грузами 6, расположенными на их нерабочих концах. Грузы 6 усУайЪтвлёны с возможностью перемещения вдоль нерабочих концов держателей 3 и фиксируются на них при помощи гаек 7. Устройство для нанесения фоторезиста на пластины работает следующим обрадом Пластину 4 укладьгоают на поднятый в крайнее верхнее положение столик 2, после чего столик 2 под действием привода возвратно-поступательного переЫещения (на ертеже не показан) опускается в крайнее нижнее положение и пластина 4 ложится на барабан 1. При этом межДУ,ДДвстиной 4 и.столиком 2 образуется зазор. После этого на центр пластины 4 наносят дозу фоторезиста и соо&цают барабану 1 вращательное движение с большой скоростью. Под действием центробежных сил грузы 6 бТ1х: йят от оси вращения барабана 1. При этом держатег ли 3 пбвбраЧйвйются вокруг осей S и своими рабочими концами надежно зажимак)т пластину 4. После того как под действием центробежных сил фоторезист растечется по пластине 4, барабан 1 останавливают. При этом держатели 3 под действием грузов 6 принимйк)т первоначальное вертикальное положение и ос вобождают пластину 4. Под действием привода .столик 2 поди пластина 4 с нанесенным нймаетея, слоем фоторезиста выгружается. Цикл повторяется. Зажимное усилие держателей 3 регулируется путем перемещения грузов 6 вдоль нерабочих концов держателей 3. Фиксация грузов в требуемом положенииОсуществляется гайками 7. Данная конструкция устройства для нанесения фоторезиста на пластины исключает побреждение краев пластины и образование микротрещин в теле пластины за счет обеспечения надежной фиксации пластин. Это способствует увеличению процента выхода годных на последующих операциях изготовления микросхем. Кроме того, конструкция устройства по;зволяет осуществлять фиксацию пластин, а также снятие фиксиругоЩих усилий при остановке барабана автоматически за счет использования центробежных сил. Испытания макета предлагаемого устройства для нанесения фоторезиста на пластины показали, что оно полностью исключает повреждение обрабатьиваемых пластин, ь то время как при нанесении фоторезиста на известных устройствах до 3% пластин повреждаются. Формула 11з6бретения 1.Устройство для нанесения фоторезиста на пластиньт, содержащее вертикально установленный барабан со столиком и расположеннью по периферии барабана держатели для закрепления пластин в горизонтальной плоскости, о т л и ч аю ад е е с я tsM, что, с целью исключения повреткденйя пластин, держатели установлены с возможностьюnoBopqiTa на закрепленных в барабане осях и снабжены грузами, расположенными на их нерабочих концах. 2.Устройство по п. 1, о т л и ч аю щ е е с я т&л, что, с целью регулирования зажимного , грузы устанрвленыг с возможностью перемйцения вдоль нерабочих концов держателей. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1.Авторское свидетельство СССР № 358019, кл. В 04 В 5/ОО, 197О. 2.Авторское свидетельствр СССР № 360110, кл. В 04 В 5/00, 1970.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Устройство для нанесения фоторезиста на пластины | 1978 |
|
SU728937A1 |
Устройство для нанесения фоторезиста на пластины | 1975 |
|
SU555917A1 |
ПАТЕНШ-ТЕХКНЧЕГКАБИбЛМОТЕКА | 1972 |
|
SU360110A1 |
Центрифуга для нанесения фоторезис-TA HA плАСТиНы | 1979 |
|
SU850220A1 |
Устройство для нанесения покрытия на подложки | 1978 |
|
SU790376A1 |
Устройство для нанесения текучего материала на пластины | 1978 |
|
SU701724A1 |
Устройство для нанесения покрытий на пластины | 1983 |
|
SU1134241A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА ВРАЩЕНИЕМ | 1992 |
|
RU2012093C1 |
Центрифуга для нанесения фоторезиста на подложку | 1981 |
|
SU973171A1 |
Центрифуга для нанесения фоторезиста на пластины | 1983 |
|
SU1113180A1 |
Авторы
Даты
1979-06-05—Публикация
1977-11-09—Подача