1
Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий с помощью центробежной силы, и может быть, в частности, использовано для нанесения светочувствительного слоя (фоторезиста) на пластины при химической фотогравировке.
Известно устройство для нанесения светочувствительного слоя на пластины при химической фотогравировке, включающее барабан и держатели для закрепления пластин в горизоитальной нлоскости 1.
Однако в таком устройстве имеет место нроскальзывание обрабатываемой иластины относительно барабана в начальный момент нанесения фоторезиста, что является основной причнной получения неравномерного по толщине слоя фоторезиста на пластине. Кроме того, в процессе обработки пластины фоторезист поиадает на обратную сторону пластины и на фиксирующие щтыри, что влечет за собой необходимость проведения дополнительной операции отмывки обратной стороны пластины, промывки фиксирующих штырей после обработки каждой нластины.
Известно устройство для нанесения фотореаиста иа пластины, содержащее сборннк фоторезиста, установленную внутри него приводную оправку с вакуумной полостью 2.
Конструкция известпого устройства не исключает возможности попадания фоторезиста
на обратную сторону пластины, что ведет к необходимости введения в технологический процесс дополнительной операции отмывки обратной стороны пластины и является недостатком конструкции, загрудняющпм автоматизацию процесса.
Недостатком известного устройства является также сложность конструкции и изготовления, обусловлеиная подводом вакуума к вращающейся онравке.
Цель изобретения - исключение попадання фоторезнста на обратную сторону нластины.
Для этого нредлагаемое устройство снабжено крыльчаткой, соосно установленной с зазором на оправке. Кроме того, в стенках оправки выполнены радиальные отверстия.
На фиг. 1 изображен общий вид устройства в разрезе; на фиг. 2 - разрез по А-А на фиг. 1.
Устройство содержит корпус 1, сборник фоторезиста 2, оправку 3 с вакуумной полостью 4 и радиальными отверстиями 5, электропривод 6 оправки, крыльчатку 7 с электроприводом 8.
Устройство работает следующим образом. Пластину 9 устанавливают на оправку 3 и включают электропривод 8 крыльчаткп 7. Под действием крыльчатки 7 воздух через радиальные отверстия 5 оправки 3 откачивается из вакуумной нолости 4. В вакуумной полости 4
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Центрифуга для нанесения фоторезис-TA HA плАСТиНы | 1979 |
|
SU850220A1 |
Центрифуга для нанесения фоторезиста на подложку | 1981 |
|
SU973171A1 |
Центрифуга для нанесения фоторезиста на пластины | 1978 |
|
SU751439A1 |
Устройство для нанесения фоторезиста на пластины | 1977 |
|
SU665951A1 |
Центрифуга для нанесения фоторезиста на пластины | 1982 |
|
SU1127636A1 |
Устройство для нанесения фоторезиста на пластины | 1978 |
|
SU728937A1 |
Центрифуга для нанесения фоторезиста на пластины | 1982 |
|
SU1025456A1 |
Устройство для нанесения покрытия на подложки | 1978 |
|
SU790376A1 |
Устройство для нанесения текучего материала на пластины | 1978 |
|
SU701724A1 |
Фотошаблон и способ его изготовления | 1978 |
|
SU938338A1 |
Авторы
Даты
1977-04-30—Публикация
1975-12-29—Подача