Устройство для нанесения фоторезиста на пластины Советский патент 1980 года по МПК B05C11/02 B04B5/00 

Описание патента на изобретение SU728937A1

(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА НА ПЛАСТИНЫ

Похожие патенты SU728937A1

название год авторы номер документа
Центрифуга для нанесения фоторезис-TA HA плАСТиНы 1979
  • Востриков Лев Федорович
  • Степанов Валерий Васильевич
  • Фандеев Владимир Викторович
SU850220A1
Центрифуга для нанесения фоторезиста на подложку 1981
  • Музыкант Анатолий Федорович
  • Косыгина Лариса Васильевна
  • Степанов Валерий Васильевич
SU973171A1
Устройство для нанесения фоторезиста на пластины 1975
  • Комаров Валерий Николаевич
  • Никулин Николай Иванович
  • Поярков Игорь Иванович
SU555917A1
Центрифуга для нанесения фоторезиста на пластины 1982
  • Никулин Николай Иванович
  • Поярков Игорь Иванович
  • Комаров Валерий Николаевич
SU1025456A1
Устройство для нанесения фоторезиста на пластины 1977
  • Никулин Николай Иванович
SU665951A1
Центрифуга для нанесения фоторезиста на пластины 1982
  • Никулин Николай Иванович
  • Комаров Валерий Николаевич
  • Поярков Игорь Иванович
SU1127636A1
Центрифуга для нанесения фоторезиста на пластины 1978
  • Никулин Николай Иванович
  • Комаров Валерий Николаевич
SU751439A1
Устройство для нанесения покрытия на подложки 1978
  • Никулин Николай Иванович
SU790376A1
Способ формирования защитного покрытия и устройство для его осуществления 1980
  • Никулин Николай Иванович
  • Добашин Борис Сергеевич
  • Поярков Игорь Иванович
SU917366A1
Центрифуга для нанесения фоторезиста на пластины 1983
  • Зеленский Валентин Александрович
SU1113180A1

Иллюстрации к изобретению SU 728 937 A1

Реферат патента 1980 года Устройство для нанесения фоторезиста на пластины

Формула изобретения SU 728 937 A1

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий посредством центробежной силы и может быть использовано, в частности, для нанесения светочувствительного слоя на полупроводниковые пластины и фотошаблоны при химической фотогравировке.

Известна центрифуга для нанесения светочувствительного слоя на пластины, содержащая вертикально установленный барабан с держателем для закрепления пластины 1.

Недостзгком этого устройства является низкое качество покрытия.

Наиболее близким к изобретению по технической сущности и достигаемому результату является устройство для нанесения фоторезиста на пластины, содержащее корпус и сборник фоторезиста с установленной внутри него приводной оправкой с держателями для закрепления пластины 2.

Однако такое устройство не обеспечивает нанесения на пластины равномерной по толщине и без разрывов («проколов) пленки фоторезиста малой толщины (0,2- 0,7 мкм и менее). Это объясняется тем, что в процессе образования пленки на фоторезист наряду с центробежными силами действуют силы сопротивления встречного потока окружающей среды (воздуха или очищенного азота), причем абссшютная величина этих сил сопротивления увеличивается от центра к периферии пластины, так как линейная скорость движения частичек фоторезиста увеличивается от центра к краям пластины. Вследствие этого происходят разрывы пленки фоторезиста, а это ведет к браку на последующих операциях при изготовлении микросхем с субмикронными размерами элементов топологии.

Цель изобретения - повыщение качества, наносимой пленки фоторезиста.

Это достигается тем, что устройство снаб жено вакуумной камерой, при этом сборНИК фоторезиста с приводной оправкой установлен в упомянутой камере.

На чертеже изображено предлагаемое устройство для нанесения фоторезиста на пластины в разрезе.

Устройство содержит корпус 1 и сборник 2 фоторезиста с установленной внутри него приводной оправкой 3. расположенной в подшипниках 4, с держателями 5 для закрепления пластины 6. Привод 7 служит для вращения оправки 3. Устройство снаб

SU 728 937 A1

Авторы

Никулин Николай Иванович

Даты

1980-04-25Публикация

1978-01-16Подача