Устройство для проведения высокотемпературных испытаний в вакуумной среде Советский патент 1979 года по МПК G01N21/00 B08B3/10 

лом и держателями токопроводящие проклад,ки, концы которых выступают на поверхность защитного стекла н имеют овальную форму, а держатели выполнены в виде токапрОБОдящих зажимов и соединены с источником высоковольтного напряжения.

На чергелге показана ириниипиальная схема .предлагаемого устройства для проведения высокотемпературных испытаний в вакуумной среде,

Устройство содержит металлографический микроскоп I, вакуумную камеру 2 со смотровым стеклом 3. В вакумной камере 2 размещены исследуемый образец 4, защитная щторка 5 и защитное кварцевое стекло 6. Защитное кварцевое стекло 6 с двух сторон зажато держателями 7, выполненными в виде токопроводящих зажимов, подключенных к источнику высокого напряжения. Между поверхностью защитного кварцевого стекла 6 и держателями 7 помещены токопроводящие прокладки 8, выполненные, например, из аллюминиевой фольги.

Часть токопрсзодящих прокладок 5 выступает ,иа поверхность защитного кварцевого стекла 6 из-под держателей 7 и имеет овальную форму.

При проведении исследований частицы, испарившиеся с поверхности исследуемого образца 4, через отверстие в шторке 5, попадают на защитное кварцевое стекло 6, образуя токопроводящую пленку. Одновременно на токопроводящую прокладку 8 через держатель 7, выполненный в виде токопроводящих контактов, подают от высоковольтного генератора напряжение.

Таким образом, к держателям 7 подводят ток высокой частоты 3-4 кГц, при которой процесс очистки защитного кварцевого стёкла 6 идет с максимальным выделением тепловой энергии в пленке.

Тонкая токопроводящая плеака 8 из алюминиевой фольги служит для создания направленного протекания разрядного тока через Осевшую при испарении пленку, а овальный конец фольги - для выравнивания разрядного тока по ширине пленки. По

мере напыления частиц п образования проводящей пленки создается возможность для протекания тока между держателями 7. При протекании высокочаютотного тока частицы сублимата отлетают с поверхности защитного кварцевого стекла за счет явления термического расширения и магнитного взаимодействия.

Применение предлагаемого устройства

для проведения высокотемпературных испытаний в вакуумной среде позволяют значительно упростить существующую установку и пра,ктически мгновенно очистить поBepxHoicTb защитного кварцевого стекла от

пленок из осевших частиц сублимата, толщина снимаемой пленки при этом колеблется от 30 до 2000 А.

Формула изобретения

Устройство для проведения высокотемпературных испытаний в вакуумной среде, содержащее вакуумную камеру со смотровым стеклом, внутри которой перед смотровым стеклом расположено защитное стекло, которое закреплено в держателях и снабжено средством для очистки от сублимата, о тличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции средство для очистки от

сублимата представляет собой помещенные между держателями и защитным стеклом токопроводящие прокладки, концы которых выступают на поверхность защитного стекла и имеют овальную форму, а держатели

выиолнены в виде токопроводящих зажимов и соединены с источником высоковольтного напряжения.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе:

1.Авторское свидетельство СССР Alb 129864, кл. G 01 N 33/20, 1963.

2.Слуцкая В. Б. «Тонкие пленки в технике сверхвысоких частот, 1962.

3. «Техническое описание и инструкция по эксплуатации установки ИМАШ-5Ц, 69 - завод контрольно-измерительных приборов, г. Фрунзе, 1960.

Lny

jF

A И