Изобретение относится к технике нане сення тонких пленок в вакууме и может быть использовано для осаждения на поверхности твердогх тела пленок сло}кно-. го состаша путем ионного распыления. Известна конструкпия катодного узла, содержащего основание и мозаичную шинель ш. Недостатком устройства является слож ность конструкции из-ва индивидуальности водо- и электроснабжения каждогю эле мента, благодаря чему становится невозможным получение многокомпонентных пленок из широкого круга материалов. Шль изобретения - упрощение конструкции. Это достигается тем, что в катодном узле, содержащем основание в мозаичную мишень, мозаичная мишень выполнена в виде решетчатой пластины из материала одвого ва распыляемых компсжентов, а водоохлаждаемое основание вы1юлнено с пазами, служащими для размещенвя стерж ней из материала других распыляемых ко понентов, причем отверстия решетчатой пластины размещены над пазами водоохлажда8МОГО основания. На фиг. 1 схематично показана, конструкция катодного узла, в котором основание разъемное; на 4нг. 2 - то же основание выполнено неразъемным. В верхней части основания 1 высверлены вертикальные отверстия 2, р которые вставлены стержни 3 из отдельных ксмпонентов наносимой пленки. Лицевая сторона пластины 1 с помощью, например, пайки или сварки, закрыта решетчатой пластиной 4, выполненной из основного компонента, в которой имеются отверстия для стержней 3. Изменение состава мозаичной мишенв осуществляется путем варьирсюания количества стержней 3, замена которых осуществляется при снятой пластине 5. Катодный узел имеет основанве 1 (см. фиг. 2), в котором выфрезерованы пазы прямоугольной формы. Липввая сторона основания 1 с помои;ью, например, пайки или сварки, закрыта решетчатой пластиной 2, выполненной из основного компонента, в которой есть-отверстия 3, расположенные под павами основания 1, при-, чем диаметр отверстий 3 меньше ширины паза, В пазы механически вставляются .стержни 4 из отдельных компонентов, . Минимальное содержание в пленке ма териала решетчатой пластины nponopiteoнадьно через коэффициент распыления пло« щади решетчатой пластины за вычетом хшощади отверстий. Для увеличения количества материала решетчатой пластаны в пленке можно применять съемные стержни из того же материала, Основание выполняется из материала с хорошей теплопроводностью, например, из меди, и в процессе распыления мозаичной мишени интенсивно охлаждается водой одним из известных способов, Расположенне вставных стержней в пазах основания обеспечивает их хорошее охлаждение при интенсивной бомбардировке ионным потоком, что хюзволяет изготовить их из легко диссоциирующих веществ, например, из Катодный узел см. фиг. 1) имеет диаметр 100 мм. Верхняя 1 и нижняя 5 части толщиной 5 мм каждая изготавлива ются из меди. Решетчатая пластина 4 толщиной 1 мм выполняется из палладия. Вставные стержни 3 диаметром 5 мм изготавливается из ванадия и никеля. При напьшении пленок Pd -V-Ni вьпазы плас тены 1 ВСТ6ШЛЯЮТСЯ одновременно стерж- ни из V и М которые чередуются в шахматном порядке. Катодный узел (см. фиг. 2) имеет линейные размеры 50 5б мм. Основание 1 выполняется из меди, решетчатая пластина 2 из палладия, а вставные стержни 4 - из рутения и вольфрама. Катодный узел позволяет значительно сократить время переналадки обо. рудования при необходимости смены состава напыляемой пленки. С помощью разработанных катоднь1х узлов проводится осаждение методами ионно-плазменного распыления сплава Лс/УУ Pd Ni, Pd-V-M Формула изобретения. Катодный узел, содержащий водоохлаждаемое основание и мозаичную мишень, отличающийся тем, что, с целью упрощения конструкции, мозаичная мишень выполнена в виде решетчатой пластины из материала одного из распыляемых компонентов; а водоохлаждаемое основа- ние выполнено с пазами, слузкащими для размещения стержней из материала других распыляемых компонентов, причем отверстия решетчатой пластины размещены над пазами водоохлаждаемого основания. Источники информации, принятые во внимание при экспертиае 1. KuwagOt HJ jgj ЕЕЕ Traus Eoifs HyBrtavfs and Pachag- 1972, 8, A 3, 7-1O.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ МНОГОКОМПОНЕНТНЫХ ПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ, МОЗАИЧНАЯ МИШЕНЬ ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИШЕНИ | 2001 |
|
RU2210620C1 |
СПОСОБ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ МНОГОКОМПОНЕНТНЫХ ПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ И УСТАНОВКА ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2006 |
|
RU2379378C2 |
МАГНЕТРОННАЯ РАСПЫЛИТЕЛЬНАЯ СИСТЕМА | 1998 |
|
RU2151439C1 |
УСТАНОВКА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК МЕТОДОМ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ | 1992 |
|
RU2046840C1 |
Распыляемый узел магнетрона для осаждения композиционных многокомпонентных пленок NiCoFe | 2023 |
|
RU2808293C1 |
Катодный узел | 1976 |
|
SU620513A1 |
ДУАЛЬНАЯ МАГНЕТРОННАЯ РАСПЫЛИТЕЛЬНАЯ СИСТЕМА | 2008 |
|
RU2371514C1 |
ПЛАНАРНЫЙ МАГНЕТРОН С РОТАЦИОННЫМ ЦЕНТРАЛЬНЫМ АНОДОМ | 2022 |
|
RU2792977C1 |
ПЛАЗМЕННО-ИММЕРСИОННАЯ ИОННАЯ ОБРАБОТКА И ОСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ ПРИ СОДЕЙСТВИИ ДУГОВОГО РАЗРЯДА НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ | 2014 |
|
RU2695685C2 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ | 1993 |
|
RU2075539C1 |
- l
Авторы
Даты
1979-11-25—Публикация
1976-11-04—Подача