Установка для электроннолучевого нагрева материалов Советский патент 1979 года по МПК H05B7/00 H01J37/04 

(54) УСТАНОВКА ДЛЯ ЭЛЕКТРОННОЛУЧЕВОГО НАГРЕВА МАТЕРИАЛОВ

Изобретение относится к устройствам для электроннолучевого нагрева материалов в вакууме. По основному авт. св. N 370899, известна установка для электроннолучевого нагрева материалов, содержащая электроннолучевую пушку и электромагнитную систему управления лучом, включающая магнитопровод прямоугольной формы, на длинных сторонах которого установлены катушки отклонения, а на других - катушки коррекции и фокусировки, причем каждая пара катушек.соединена электрически последовательно. Однако при работе на относительно малых углах отклонения (15 и менее) эффективность преобразования и фокуснровки луча сводится к минимуму. Целью изобретения является расширение тех нологических возможностей установки и расширение пределов преобразования формы электрон ного луча. Для этого на каждой из катушек установлено по одной дополнительной катушке, которые соединены между собой электрически по следовательно, образуя квадрупольную линзу. На фиг. 1 схематически изображено предложенное устройство; на фиг. 2 - показана схема электромагнитной системы. Устройство для электроннолучевого нагре:Ва матерналов включает электростатическую щелевую Пушку Пирса, состоящую из линейного термокатода 1, прикатодного фокусирующего электрода 2 и ускоряющего анода 3. Лучевод 4 соединяет ускоряющий анод 3 с основанием 5, в пазах которого расположена электромагнитная система управления, выполненная в виде замкнутого прямоугольного магнитопрово- да 6, на стер5|даях которого расположены катушки отклонения 7, 8 и катушки развертки и фокусировки/ 9, 10. Последние снабжены дополнительными катушками 11-14. При электрическом последовательном соединении этих катушек н подключении их к источнику питания 15 с плавнорегулируемой величиной и полярностью напряжения, создаются поперечные по отношению к траектории электронного луча магнитные поля, образующие квадрупольную магнитную линзу. При определенной полярное37ти питающего напряжения электрический ток катушек 1-1, 12 создает поперечные магнитные поля, оказывающие собирающее воздействие на плоский слаборасходящийся луч 16, а электрический ток катушек 13, 14 оказьгеает рассеивающее действие (на фиг. 2 указанные поля изображены сплошными линиями). При изменении полярности питающего напряжения магни ные поля катушек П, 12 оказывают рассеивающее воздействие, а магнитные поля катушек 13, 14 - собирающее. Эффект воздействия квадрупольной магнит ной линзы на электронный луч сохраняется в достаточйо широком диапазоне углов отклонения луча, т.е. от 0 до максимального угла дан Это значиной конструкции устройства «45 тельно расширяет технологические возможности применения установки. Получение достаточно длинного и узкого фокального пятна при малых углах отклонения позволяет успешно применять устройства для подогрева движущихся ленточных материалов без сканирования электронного луча, что значительно упрощает систему управления лучом. Одновременно отпадает необходимость в использовании щунтирующих сопротивлений, выполняющих функцию подфокусировки и преобразования формы злктронного луча. Формула изобретения Установка для электроннолучевого нагреза материалов по авт. св. N 370899, отличающаяся тем, что, с целью расширения ее технологических возможностей путем улучшения фокусиррвки и расширения пределов преобразования формы электронного луча, на каждой из катушек установлено по одной дополнительной катушке, которые соединены между собой электрически последовательно, образуя квадрупольную линзу.