(54) СОСТАВ ДЛЯ ТРАВЛЕНИЯ ЖЕЛЕЗООКИСНЫХ СЛОЕВ
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Раствор для травления железоокисных слоев | 1973 |
|
SU475429A1 |
Раствор для травления пленок окисла железа | 1975 |
|
SU573510A1 |
Раствор для травления металла | 1978 |
|
SU699003A1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ДИФРАКЦИОННОЙ РЕШЕТКИ | 2009 |
|
RU2393512C1 |
ТЕРМОСТОЙКАЯ КРАСКА | 2007 |
|
RU2340643C1 |
Фотошаблон и способ его изготовления | 1978 |
|
SU938338A1 |
Раствор для травления силицидов металлов | 1991 |
|
SU1795985A3 |
Электропроводящая композиция | 1979 |
|
SU821470A1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГОРЯЧЕПЛАКИРОВАННОГО СТАЛЬНОГО ЛИСТА С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ГОРЯЧЕЙ ПРОКАТКИ, ХОЛОДНОЙ ПРОКАТКИ БЕЗ ТРАВЛЕНИЯ И НИЗКОГО ОТЖИГА | 2015 |
|
RU2690866C2 |
Состав для удаления органических покрытий с металлических поверхностей | 1977 |
|
SU633884A1 |
I
Изобретение относится к составам для травления, используемым при изготовлении полупрозрачных фотошаблонов с маскиру|ошим покрытием из окисла железа. Такие фотошаблоны примен гют в производстве интегральных схем и других аналогичных изделий в силу своих высоких спектралы{ых и прочностных характеристик.
Известно использование для травления желеэоокисных слоев соляной, а иногда и фосфорной кислоты 1 .
Известен также состав для травления железоокисных слоев, содержащий соляную кислоту (21,4-57,5%) треххлористый титан 12,8 5,3% и воду остальное 2.
Недостаток известного состава - невысокая скорость гравле1шя 0,15-0,25 мкм/мин, а также агрессивность его из-за большого. выделения при травлении водорода, в присутствии которого повышается агрессивность травителя по отношению к фоторезистору.
Цель изобретения -- повышение скорости травления и снижение агрессивности состава.
Поставленная цель достигается тем, что в состав для травления железоокисных слоев, содержаший раствор треххлористого титана в соляной кислоте, вводят глицерин и глюко-. зу при следующем соотношении компонентов, вес.ч.:.
Раствор треххлористого
100-140
титана в соляной кислоте
Соляная кислота,
уд.вес. 1,18 г/см,
50-80
35-55
Шицерин 2-6
Глюкоза
.Раствор тррххлористого титана в соляной кислоте инеет концентрацию 15%, плотность при 20° С около 1,2 г/см.
15
Описываемый состав обладает пониженной химической агрессивностью. Он не разрушает защитньте маски из различных фоторезисторов (позитивных и негативных) с различной степенью кислотостойкости, подвергнутые термообработке или без нес. Ск 5рость гравления пленок окисла железа в данном составе составляет Не менее 0,5 мкмм.
Авторы
Даты
1980-02-15—Публикация
1978-04-13—Подача