Фотополимеризующаяся композиция Советский патент 1980 года по МПК G03C1/68 

I

Изобретение относится к фотополимеризукицим .композициям, которые могут быть использованы в полиграфии для изготовления офсетных печатных форм, цинковых кдшше, печатных плат.

Известна фотополимеризуницаяся композиция,; включающая сополимер стирола, метакриловой кислоты и малеинового анпздрида, мономер - дйметакриловый эфир этиленгг ойя или а, со-триметакрил (бис-пентаэритрит)адапинат, или а, ш-триметакрил-пентаэритрит-ди Ощметакрилпептаэритритадишгаат), ииицнатс, краситель и растворитель 1. : Недостатком известной композиции, содержащей а, ш-триметакркл (5ис-пентаэритрит), а,Сд;-триметакрил-пентазритрит-ди- (диметакрилпентазритритадшшнат), является недостаточная стабильность физик о-химических свойств готобой композиции при дпительиом хранеюш, объ ясняющаяся тем, что толуол, присутствующий .в промышленно вьтускаемом мономере, способствует высаждению сополимера в композиции.

Композиция, I включающая дйметакриловый зфир зтиленгликоля, характеризуется понижением реакщкжной способности мономера в : сочетании с данным сополимером и повышенной липкостью.

Цель изобретения - повышение стабильности композиции и улучшение технологии изготовления печатных форм.

Цель достигается тем, что в качестве мономера композиция содержит мономер на .основе,

10

аминофенола общей формулы

0-CO-CR CHj. NHCOCR:CHi, |где R HjCHa и следующем соотношешш компонентов, c.i: Соцолимер стирола, метакриловой кислоты и малеинового ангидрида4-6 Мсшомер на основе аминофенола8-12Инициатор 3-5 Краситель0,05 - 0,1 Растворитель77 - 85 Используемый аминофенол характеризуется следующими физико-химическими .свойствами: температура плавления 30 С, максимальная зона поглощения 255 нм. Мономер хорошо растворим в ацетоне, ацетона-этанольной cNfet, толуоле. Его преимуществом является то, что он твердый, нелетучий, стабилен при дштельном хранении. Подобные мономеры малочувствительны к ингибирующему действию кислорода. Изготовление фотополимерных офсетных форм осуществляют следующим образом. Светочувствительн тю композшдаю наносят на металлические подложки (алюлошневые, цинковые, медные, хромовые), сушат при комнатной температуре, затем облучают через фото формы актитачньш УФ-светом. В качестве исто iifflikoB излучения используют лампы типа ЛУФ-80, ПРК-7, дуговые фонари. Время копирования 3-7 мин. ПолучёШШ копии проявляют 2%-ным раствором карбоната натрия ЮМ 0,5%-ным раствором едкого натра. Способ получения композиции заключается в том, что определенную навеску, сополимера растворяют в ацетоне, затем добавляют при перемешивании определенное количество изобутилового эфира бензсшна и красителя. К зтому раствору добавляют йредварительно растворенный в ацетоне твердый кономер на основе ами иофенолов. Полученную смесь перемешивают в течение 30 мин электромешалкой, затем фильтруют через капроновое сито, после чего композиция готова к употреблению. Шосоё изготовления копировального слоя на основе предлагаемой крмпозищш заключаетс в том, что копировальный слой поливают на предварительно подготовленную алюминиевую пластину (мрнёную, обезжире1шую 2%-ным раст вором серной кислоты), сущат при комнатной температуре в течение 5-10 мин на центрифуге, покрьшают зап |йтным слоем (2%-ный раст вором пЪливишшового спирта с добавкой 0,1% поверхностно-активного вещества) и ОСТЙБЛЯЮТ на хранение в заггёмненнснл месте. Для прлуче, ния печатных форм предва штел но очувствлен ные пластины экспонируют через негативную фотоформу, проявляют 2%-ным раствором каль цинировакной соды, сушат, после чего форма готова к печати. Способ изготовления биметаллических печатных форм на основе предлагаемой композиции заключается в том, что на хромированную поверхность методом центрифугирования наносят композицию, слой сушат, затем экспонируют через позитивную фотоформу, проявляют в 2%ном растворе кальцинированной соды и сушат в течение 5-10 мин при 40-50°С. Печатающие элементы формируются путем химического травления хрома до медной основы. Копировальный слой на основе предлагаемой композиции, используемый для защиты пробельных элементов, в процессе травления обладает повышенной кислотостойкоетью (вьщерживает травление смесью хлористого цинка, хлористого кальция и соляной кислоты с удельным весом d 1,8 свыпю 25 мин). Примеры предлагаемой композиции приведены в табл. 1. Таблица ConojjHMep стирола, метакриловой кислоты и малеинового ангидрида45виМетакрилиламинофенилметакрилат810 . . - .. -ч Изобутиловый эфир бензоина 34 Краштель Родамин 6ж КДМ0,05 0,075 Светочувствительные слои, полученные на основе указанных композиций обладают улучшенными технологическими свойствами по сравнению с.известной композицией. Данные об рсновньк технологических свойствах копировальных слоев на основе известной и предлагаемой композиций приведены в табл.12.

Свойства

Светочувствительность

-3

дж -см

Контрастность,

ДЖСМ

Гель-фракция, %

Адгезия к алюминию, кг/см

Износостойкость, %

Краевые углы смачивания.

а)печатающих элементов

б)пробельных элементов

Разрешающая

способность, ЛИН/СМ

Выделяющая способность, с .

Срок . хранения , мер.

7444256

Таблица 2

Составы

известный

предлагаемые

г г г-

.

2,02,32,5

2,52,73,0

606875

130145150

979798

125 131

140

10

13 140

160 170

54 12

54 10

54 12

Как видно из табл. 2, светочувствительные слои на основе предлагаемойкомпозиции цо своим технологическим свойствам превосходят слои на основе известной композиции: фотографические свойства на 40-50% гель-фракция на 33-50% адгезия к алюминию на 18-30%, ;изнооостоЙ1кость на 40-50%. . . Краевые углы смачивания, характеризукнцке краскоотдачу и красковосприятие увеличиваются на 13-20%, стабильность композиции возрастает в 3,5-4 раза. Поло тельный эффект от использования предлагаемой композиции заключа ется в улучшении технологии изготовления фотополямерв ьй печатных рм. Введение твердого мономера пошостью ycTjpaiiaeT лиШ6сть к6тр слоя, что исключает прилипание фотошаблонов к слою в процессе экспонирования, высокая стабильность композиции яри хранении обеспечивает получение высококачественных печатных форм, изготовленных из предварительно очувствленных формных пласиш ш ее основе. Формула изобретения , Фотополимерязующаяся композиция,включающая сополимер стирола, метакриловой кислрты и малеииового ангидрида, мсжомер, ини- циатор, краситель и растворитель, отличающаяся тем, что, с целью повыщения стабильности; композиции и улучщения тсхяоло1 й§гб еШйШй печатньгх форм, в качестве 744425 7 мономера она содержит мсжомер на основе Ш|4Н-« о-со-сд ctti нофенош общей формулы f) NHCOCRCHi. 3 где R HiCHs пря следующем соотношешш компонентов, Сополнкюр стирола, метакрнповой кислоты н малеинового ангидрша4-6 Мономер на основе аминофенола8-12Игащн тор3-5 Краситель0,05-0,1 Растворитель 77-85 Источники информацин, принятые во внимание при ясспершзе 1. Авторское свидетельство СССР но заявке 2181395/23-04, кл. G 03 С 1/68, 11.04.77 тотип).