Способ очистки изделий Советский патент 1981 года по МПК H01J9/02 

54 СПОСОБ ОЧИСТКИ ИЗДЕЛИЙ

тей осевым газовым потоком и направляются в область спирального потока газа, откуда выносятся высокоэнерге- тичным потоком из устройства для очистки.

На фиг. 1 представлена принципиальная схема очистки электродной системы по. предлагаемому способу; на фиг. 2 сечение устройства работающего по предлагаемому способу, в месте ввода спирального газового потока; на фиг, 3 - эпюры распределения давлений внутри устройства.

Устройство содержит электродную систему 1, вставленную в корпус 2. Через штенгель электродной системы направлен поток 3 газа в осевом направлении, поток газа 4 поступает к прибору тангенциально, т.е. по касательной к образующей цилиндрического корпуса, в котором находится элект.одная система. Этот поток подается через сопло 5. Внутренний объем прибора может.быть разбит на следующие зоны: зону б, в которой находится устойчивый спиральный, поток газа; зону 7 переходных процессов; зону 8 в которой происходит осевое перемещение газового потока 3. Кроме распределения газовых потоков по скоростям и направлёниям в рабочем объеме возникает распределение по давлениям, что показано на фиг.З, где кривая 9 характеризует распределение давлений в поперечном сечении прибора, работакдцего по предлагаемому способу, при условии отсутствия осевого газового потока, кривая 10 показывает распределение давления при условии отсуфствия спирального потока, а кривая 11 показывает распределение давлений в приборе при наличии обоих потоков газа,

. Поток газа, вводимый по восходя-, щей спирали внутрь прибора через сопло 5, образует устойчивый вихревой поток, который характеризуется поввшенным давлением высокой тангенциальной скоростью и энергией газового потока. Этот поток находится в зоне б,-который не захватывает наружных элементов электродной системы. Давление в этой зоне показано на фиг.З, кривой 9. Из чертежа видно, что если отсутствует осевой поток 3 газа, то в центральной части прибора образуется зона пониженного давления, и если туда поместить электродную систему, то инородные частицу будут собираться в центре нее.Таким образом, .чтобы вывести эти частицы из центральной зоны, там надо создать зону повышенного давления, что показано .на фиг.З кривой 10, которая характеризует распределение авления внутри объема без газового потока, вводимого по спирали. Исходя з анализа кривой 10 видно, что при отсутствии вихревого потока вокруг

электродной системы, sbiFioca загрязнений также не произойдет, так как разность давлений в центральной части и в околостеночной области незначительна,. Вектор скорости осевого газового потока направлен по осиизделия и, следовательно, возможно такое же забивание элементов электродной системой продуктами очистки. Для решения поставленной задачи необходимо обрабатывать электродную систему одновременно двумя газовыми потоками только в этом случае давление в обрабатываемом приборе распределяется необходимым образом, что. показано на фиг. 3 кривой 11, а скорости и направления движения газовых потоков обеспечивают процесс очистки. Анализ кривой 11 показывает, что в зоне 8 возникает повышенное давление по отношению к давлению в зон-ах 6 и 7. Такая картина р Ьспределения давлений необходима для максимальной эффективности работы устройства по предлагаемому способу.

Надо отметить, что для создания требуемых давлений внутри обрабатываемого объема, давление в начале обевого газового потока было в 1,5 раза больше, чем в начале спирального газового.потока. Анализ различных электродных систем, которые характеризуются различными размерами, отношениями длины к диаметру, а также плотностью заполнения внутренними элементами показал, что верхняя граница соотношения указанных давлений равна 3. В этих пределах соотношени давлений происходит гарантированная очистка электродных систем, а график распределения давлений внутри обрабатываемого объема, распределение скоростей, энергий тазовых потоков носит, необходимый характер. В зоне 8 осевой газовый поток 3 создает условия для отрыва инородных частиц От внутренней арматуры, частицы, вследствие разности давлений в зоне 8 и в зонах б и 7, попадают в зону 7, где уже начинает действовать поток газа, имеющий некоторую тангенциаль.ную скорость. Этот поток также чисти внешние поверхности электродной системы по всей ее длине. Далее частицы попадают в зону 6, то есть в зону устойчивого-высокоэнергетического вихря. Поток газа в этой зоне обладает высокой тангенциальной скоростью, некоторой осевой, и выносит частицы загрязнений из прибора. Надо отметить, что очистка электродных систем наиболее эффективна, если бсевой газовый поток направляют иМ пульсно. Импульсный поток газа встряхивает частицы, которые находятся на .внут.рён-них элементах электродной сис-темы и создает лучшие условия для их отрыва. Наиболее эффективна частота импульсов подачи газового потока 20-30 импульсов в минуту. Предлагаемый способ очистки существенно расширяет функциональные возможности очистки изделий газом и позволяет производить очистку электродных систем ЭВП, которые отличает высокая сложность внутренней арматуры и высокие требования к чистоте поверхностей. Применение предлагаемог о способа позволяет улучшить качество ЭВП, их надежность и срок слу бы. Надо отметить, что применение предлагаемого способа очистки не тре бует дополнительных затрат на материалы и энергоресурсы в технологии производства ЭВП, а наоборот, сокращает их, например исключается обору дование для промывки, сушки изделий и так далее. Формула изобретения 1. Способ очистки изделий, преим щественно со сложной формой-внутрен них поверхностей, включающий их об- /4Ъдувку потоками газа, отличающийся тем, что, с целью повышения качества очистки, очистку ведут двумя газовыми потоками, один из которых направляют по восходящей спирали вокруг электродной системы, а другой направляют вдоль оси электродной системы, причем давление в начале газового потока, проходящего через электродную систему в осевом направлении в 1,5-3 раза больше, чем давление в начале газового потока, направленного по спирали. 2. Способ по. 1, отличающ и и ся тем, что газовый поток , проходящий через ось электродной системы, направляют с частотой 20-30 импульсов в минуту. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1..Причетт П.П. Применение чистой воды в производстве электронных приборов ... Сб.ст. Очистка деталей электронных приборор. М-Л., Энергия, 1964,- с.55-56. 2.Патент США № 3786938,кл.134-2, опублик. 1969 (прототип).

Фи2,