Позитивный фоторезист Советский патент 1981 года по МПК G03C1/68 

1

Изобретение относится к позитивным фоторезистам, используемым в фотолитографическом процессе изготовления микросхем и фотошаблонов.

Известен позитивный фоторезист, включающий светочувствительный продукт на основе нафтохинондиазида, фенолформальдегидную смолу и растворитель - диоксан 1,

Недостатками известного фоторезиста являются неудовлетворительно низкая щелочестойкость, низкие адгезионные свойства фоторезистивной пленки и наличие в ней дефектов в виде трещин и проколов.

Целью изобретения является повышение щелочестойкости, адгезионных свойств фоторезистивной пленки и уменьшение плотности дефектов.

Поставленная цель достигается тем, что позитивный фоторезист, включающий светочувствительный продукт на основе нафтохинондиазида, фенолформальдегидную смолу и диоксан, дополнительно содержит пластификатор-уретановый эластомер общей формулы I

ч /

4-E-SH-/

с-вн-в-с Н2 . 0где R - полиокситетраметиленгликоль -,0-I-(CH,),-0-J- ; т .2-5,

при следующем соотношении компонентов, вес. %:

Светочувствительный продукт на основе нафтохинондиазида6,5-7,5

Фенолформальдегидная

смола10,5-12,5

Уретановый эластомер

формулы I2-5

ДиоксанОстальное

В качестве светочувствительного продукта на основе нефтохинондиазида используют 1,2-нафтохинондиазид(2)-5-сульфоэфир новолака.

В качестве уретанового эластомера формулы 1 используют синтетический каучук уретановый полифуритный литьевой ТУ 38103 - 137-72 (СКУ-ПФП) -продукт взаимодействия диизоцианата с простым или сложным олигоэфиром.

Пример. Для получения фоторезиста

смещивают фенолформальдегидную смолу,

светочувствительный продукт - 1,2-нафтохинондиазид(2) - 5-сульфоэфир новолака,

уретановый эластомер и диоксан. Смесь

выдерживают 12 ч в месте, защищенном

от актиничного излучения.

Перед применением фоторезист отфильтровывают.

Показатели полученных фоторезистов приведены в таблице.

Использование в предлагаемом фоторезисте пластификатора - уретанового эластомера- позволяет повысить адгезионные свойства, щелочестойкость фоторезистивных пленок и снизить плотность дефектов.

Формула изобретения

Позитивный фоторезист, включающий светочувствительный продукт на основе нафтохинондиазида, фенолформальдегидную смолу и диоксан, отличающийся тем, что, с целью повышения щелочестойкости, адгезионных свойств фоторезистивной пленки и уменьшения плотности дефектов, он дополнительно содержит пластификатор - уретановый эластомер общей формулы I

.0

VlfH-K-

Nli-C -оHHj

о

где R - полиокситетраметиленгликоль 0-1-(СН,), т 2-5,

при следующем соотношении компонентов, в вес. %:

Светочувствительный продукт на основе

нафтохинондиазида6,5-7,5

Фенолформальдегидная

смола10,5-12,5

Уретановый эластомер

формулы I2-5

ДиоксанОстальное

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1. Справочник «Химические материалы. Технические условия, т. П1, Соли и основания, светосоставы, НПО, 002.008, МЭП, 1974 г.