Изобретение относится к сиособу получения светочувствительных материалов, которые могут применяться в радиоэлектронной и полиграфической промышленности для получения рельефных изображений.
Известен способ получения светочувствительного материала нанесением на оодложку светочувствительного слоя - продукта конденсации нафтохинондиазидсульфохлорида с дифвнилоксидфенольной смолой. Такие материалы недостаточно светочувствительны и щелочеустойчивы.
Цель изобретения - получение светочувствительного материала, обладающего повышенной светочувствительностью, способного образовывать механически прочные, кислотостойкие слои, обладаюшие также высокой устойчивостью необлученных участков по отношевию к разбавленным щелочным растворам.
Предлагают способ получения светочувствительного материала нанесением на подложку светочувствительного слоя - продукта конденсации нафтохинондиазидсульфохлорнда с дифеннлоксидполиоксибензофеноновой смолой.
1,2- Нафтохинондиазид - 2,5 - сульфохлорид конденсируют с продуктом реакции 4,41-ди(хлорметил)-дифенилоксида и полиоксибензофенонов:
Конденсацию проводят в среде органического растворителя, например в диоксане, при 40°С с постепенным добавлением раствора бикарбоната натрия до появления устойчивой слабощелочной реакции массы. Полученные эфиры легко растворяются при комнатной температуре в диоксане и диметилформа-миде.
В комбинации с пленкобразующим связующим, например фенолформальдегидным или дифенилоксидполноксибензофенюновыми смолами, в соотношенни I : (1.0-10) вес. ч. на поверхности подложки, например окисленного кремния, алюминия, никеля, хрома или молибдена и др., получают механически прочные, кислотостойкие слои с высокой адгезией к подлол ке.
Проявление изображения проводят разбавленнымн водными растворами, например раствором тринатрийфосфата. Далее пластины обрабатывают известным способом.
Пример 1. В колбу, снабженную мешалкой, капельной воронкой, холодильником и термометром, загружают раствор 32,5 г продукта конденсации 4,41-ди-(хлорметил)-дифеН1 локс гда с 2.4,41-триоксибензофеноном (т. пл. ПО-120°С) и 40 г 1,2-нафтохинондиазид2,5-сульфохлорида в 960 мл диоксана. Раствор нагревают до 40°С и при этой температуре в течение 2 час прикапывают 365 мл 10%-ного раствора бикарбоната натрия до устойчивой слабощелочной 1реакции на бриллиантовую желтую бумагу. Затем массу выдерживают При размешивании и температуре 40°С еще 1 час. По окончании выдержки содержимое колбы (Выливают в 1220 Л1Л охлажденной дистиллированной воды и оставляют на ночь в холодильнике. Выпавший желтый продукт промывают водой и сушат. Получают 55,5 г порошка светло-желтого цвета, растворимого в диоксаие.
Найдено, %; С 61,40; Н 3,29; N 5,82; S 6,65.
7,5 г полученного светочувствительного эфира, 12,5 г фенолформальдегидной смолы (т. пл. 98-105°С) растворяют в 80 г диоксана. Раствор фильтруют и наносят с помощью центрифуги на предварительно подготовленную пластин окисленного кремния. Светочувствительный слой формируется при температуре 100°С в течение 20 мин. Далее слой облучают через заданный фотощаблон УФ-источником излучения, .например лампой ДРШ-250, 500 вт. Проявление изображения проводят 2%-ным водньм раствором тринатрийфосфата. Процесс проявления некритичен, так KaiK скорость растворения необлученных участков пленки соста:вляет 0, мк/сек по сравнению с 0,89-10 мк/сек для светочувствительного материала на основе иодированного бисфенола А. Светочувствительность полученного слоя составляет 2,8 er ice/c ic./M2 по сравнению с 2,46 вг и:ек; 1суИ2 со светочувствительным материалом .на основе иодированного бисфенола А.
Пример 2. К раствору 20 г продукта конденсации 4,41-ди- (хлорметил) -дифеиилоксида с 4,21, 31, 41-тетраоксибензофеноном (т. пл. 146-151°С) и 32 г 1,2-нафтохинондиазид-2,5сульфохлорида в 600 мл диоксана при 40°С добавляют 140 мл 10%-ного раствора бикарбоиата натрия, -как указано в примере 1. Получают 43 г порошка светло-желтого цвета.
растворимого в диоксане. Далее процесс проводят аналогично примеру 1.
Полученные фоторезисты обладают следующшми параметрами:
Разрещающая опоеобность не менее 400 лин/мм цри толщине пленки 0,5-0,6 мкм.
Светочувствительность выше в 3-5 раз по сравнению с фоторезистами на основе дифенилоксидфепольных смол.
Способность давать плотное беопористое покрытие толщиной 0,3-1 мк, обеспечивающее локальную защиту поверхности изделия при травлении буферными травителями.
Скорость растворения необлученных участков слоя составляет 0,3-10 з мк/сек по
сравнению с 0, мк/сек для ФП-383 и
0,89 для ФП-307, т. е. щелочестойкость
пеоблученных участков слоя но отношению к
2%-ному раствору тринатрийфосфата на порядок выше. Фоторезист на основе дифенилоксидфенольных смол не проявляется 2%-ным
раствором тринатрийфосфата.
В отличие от известных фоторезистов предлагаемый материал может быть использован без дубления слоя перед травлением.
Кислотостойкость в буферном растворе дефектов пленки соответствует ФП-383 (не более 3,0% при толщине 0,5 ж/с).
Предмет изобретения
1.Способ получения светочувствительных материалов нанесением на подложку светочувствительного слоя - продукта конденсации нафтохинондиазидсульфохлорида с дифенилоксидной смолой, отличающийся тем, что, с целью увеличения светочувствительности и щелочестойкости материала, в качестве дифенилоксидной смолы применяют дифенило.ксидполиоксибензофеноновую смолу.
2.Способ 1ПО п. 1, отличающийся тем, что, с целью повышения лленкообразующих свойств, в светочувствительный слой вводят связующее, например фенолформальдегидную
смолу.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНОГО МАТЕРИАЛА | 1971 |
|
SU291182A1 |
ВСЕСОЮЗНАЯ ПАТЕНТНО-ТЕХН^ЧЕСНДЯБИБЛИОТЕКА | 1971 |
|
SU300491A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ МАТЕРИАЛОВ | 1971 |
|
SU289389A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОЗИТИВНОГО ФОТОРЕЗИСТА | 1966 |
|
SU216450A1 |
ПОЗИТИВНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ | 1985 |
|
SU1364051A1 |
Способ получения 1,2-нафтохинондиазидсульфоэфиров йодпроизводного 4,4 диоксидифенилпропана | 1975 |
|
SU687066A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНОГО МАТЕРИАЛА1 | 1973 |
|
SU379110A1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНОГО МАТЕРИАЛА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ РЕПРОДУКЦИЙ | 1969 |
|
SU250057A1 |
Светочувствительная композиция для изготовления диэлектрических слоев толстопленочных микросхем | 1981 |
|
SU1123012A1 |
Позитивный фоторезист | 1981 |
|
SU1068879A1 |
Авторы
Даты
1970-01-01—Публикация