(54) ТЕРМОЭЛЕКТРОННЫЙ КАТОД
o6.ia;i.:iioT, как правило, no.ix iipoiiii.uniKOBoil ipOB;LinMOCTbK П их refJMOy.icKTpnrinaH paooTj F5 ixo;ui S определяется расстоянием от уровня Ферми до уровня вакуума, так как S х г , где X - электронное ередетво полупроводника, а расстояние между уровнем Ферми и дном зоны проводимости Е . На фиг. 1 показана зонная диаграмма полупроводника, иоясня.ощая эти соотношения (Е --потолок валентной зоны/.
Значительный ток эмиссни известных катодов доетигается при их активировании (термообработке с последующи.м отбором тока), вызывающем понижение термоэлектронной работы выхода катодного материала, как за счет уменьшения х, так и за счет уменьшения .
При активировании происходит восстаиовленир окисла металлом керна или введенными него присадками (Si, А1, W, Mg, Zr, Ва и др.) с образованием стехиометрического избытка металла окисла (или вакансий кислорода), которые служат донорами в окисной системе, обуславливая смешение уровня Ферми к дну зоны проводимости, т. е. уменьшение . Одновременно в результате диффузии образовавшихся избыточных атомов к поверхности происходит пош1жение х за счет образования на поверхности окисла электроположительного двойного слоя.
Достигаемая в результате активирования сравнительно низкая работа выхода катодного материала (,3- 1,4 эВ для оксидного катода (Ва, Sr, Са)-О при Т вОО ) затрудняет получение безбарьерпого контакта к активному катодному ;:1К|М)1тпю
Ка известно, высота контактного барьеру fia ранние метал.т-полупроводник оиредлмяется соотнои1ен1 е f Ф - S - :-ф . где Ф--- п:к(Я;| выхода металла. С..), г.: . В с.чучае Ni I 1.8 :)В) или .о (ф - 4,27 эВ), соглас|Г ;: 1 : cnoTiii/.iioii.iiio. велпчини V будет ci.;r::;,. 11.;г) i.) , f (считая, что X для |)кс :дного кат(.)да равно 0,3 эВ), т. е. )с)нная - миссия катода будет лимитиро. не работой выхода эмиттируюш.ей . )В(рхности S. и в|,1с()той контактного барьер;} V S (фиг. 2). которая и будет опреде.иггь -ailnjieKTHiuiocTb эмиссии.
Резерр.ом г;овышения эффективности ..миссии iCj;.:o,;i(M TpoHHoro катода является соз.таиие условий д.пя перехода электронов из .керна в покрытие путем туннелирования сквозь спепнально суженный контактный барьер.
Эта цель может быть достигнута путем .(Миривания прилегающей к керну области
покрытия мелкими донорными примесями с концентрапией более 10 см. В это.м сл.учае (фиг 3) барьер становится настолько учким, что веледствие туннельного эффекта не ограничивает прохождение электронов (13 металла в активный слой. Необходимую для этого концентрацию легирующей примеси, предпо.ложив, что при рабочих температурах катода примесь полностью ионизирована, легко оценить по формуле
Ек.(
- f ,- ч .
где Е -диэлектрическая проницае.мость активного покрытия;
k -постоянная Больцмана;
Т -рабочая температура эмиттера:
q -заряд электрона;
LD-длина экранирования.
Подставляя в эту формулу реальные значения параметров , Т 1000°К, и, считая, что туннельный эффект оеуществляется при толщинах LD 10 см, получаем что N должно быть 3 10 ем. Очевидно, что такое легирование, используемое и как дополнение к снижению работы выхода керна-подложки, будет способствовать увеличению эффективности эмиссии. Достижение более высокой эффективности эмиссии позволяет понизить рабочую температуру катода, что приводит к увеличению ресурса его работы и, тем самым, ресурса электронного (ионного) прибора 0 в целом, так как известно, что срок службы таких приборов определяется в основном сроком службы их катодов.
Кроме того, использование изобретения позволяет повысить надежность приборов и стабильность его параметров и характе5 ристик.
Формула изобретения
Термоэлектронный катод, содержащий керн и нанесенное на него активное термоэмиссионное покрытие, отличающийся тем, что, с цельк) повышения эффективности эмиссии, прилегающая к керну область активного термоэмиссионного покрытия легирована 5 примесями с мелкими уровнями с концентрацией более 10 -см
Источники информации, прин.чтые во внимание при экспертизе
1.Кудинцева Г. А. и др. Термоэлектрон0 ные катоды. М., «Энергия, 1966, с. 103.
2.Добрецов Л. Н. и Гомоюнова М. В. Эмиссионная электроника. М., «Наука, 1966, с. 207 (прототип).
//////////////////.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Термоэлектронный катод | 1979 |
|
SU813529A1 |
Термоэлектронный катод | 1979 |
|
SU824335A1 |
Способ получения термоэлектронной эмиссии | 1982 |
|
SU1034093A1 |
ВАКУУМНЫЙ ТУННЕЛЬНЫЙ ДИОД (ВТД) | 2016 |
|
RU2657315C1 |
ТВЕРДОТЕЛЬНЫЙ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЬ ЭНЕРГИИ (ВАРИАНТЫ) И СПОСОБ ПРЕОБРАЗОВАНИЯ ТЕПЛОВОЙ ЭНЕРГИИ В ЭЛЕКТРИЧЕСКУЮ ИЛИ ЭЛЕКТРИЧЕСКОЙ В ХОЛОД (ВАРИАНТЫ) | 2004 |
|
RU2336598C2 |
ФОТОПРИЕМНАЯ МАТРИЦА ДЕТЕКТОРОВ НА ОСНОВЕ БАРЬЕРОВ ШОТТКИ С ЧУВСТВИТЕЛЬНОСТЬЮ В СУБМИЛЛИМЕТРОВОМ ДИАПАЗОНЕ ДЛИН ВОЛН | 2006 |
|
RU2304826C1 |
Способ изготовления термоэлектронных эмиттеров | 1982 |
|
SU1056304A1 |
СТРУКТУРА МЕТАЛЛ-ДИЭЛЕКТРИК-ПОЛУПРОВОДНИК НА ОСНОВЕ СОЕДИНЕНИЙ AB И СПОСОБ ЕЕ ФОРМИРОВАНИЯ | 2010 |
|
RU2420828C1 |
СПОСОБ УВЕЛИЧЕНИЯ ГРАНИЧНОЙ ВОЛНЫ ИК-ДЕТЕКТОРА С БАРЬЕРОМ ШОТТКИ, ИК-ДЕТЕКТОР И ФОТОПРИЕМНАЯ МАТРИЦА, ЧУВСТВИТЕЛЬНАЯ К ИК-ИЗЛУЧЕНИЮ | 2006 |
|
RU2335823C2 |
ТЕРМОЭЛЕКТРОННЫЙ КАТОД | 1973 |
|
SU391631A1 |
Авторы
Даты
1981-03-15—Публикация
1979-03-23—Подача