Способ нанесения пленки для изготов-лЕНия МЕМбРАННОгО МОдуляТОРА CBETA Советский патент 1981 года по МПК G02F1/19 

Описание патента на изобретение SU853591A1

(54) СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНКИ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ MEMBPAHHOiO МОДУЛЯТОРА СВЕТА

Похожие патенты SU853591A1

название год авторы номер документа
Способ изготовления сверхтонких пленочных мембран 1991
  • Рябченко Георгий Владимирович
  • Прядко Иван Федорович
  • Розин Александр Георгиевич
  • Дроздов Николай Васильевич
  • Трушковский Анатолий Александрович
SU1794283A3
НАНОЭЛЕКТРОМЕХАНИЧЕСКИЙ РЕЗОНАТОР И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ 2022
  • Дорофеев Александр Андреевич
  • Божьев Иван Вячеславович
  • Преснов Денис Евгеньевич
  • Крупенин Владимир Александрович
  • Снигирев Олег Васильевич
  • Михайлов Павел Олегович
  • Попов Андрей Алексеевич
RU2808137C1
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКОГО РИСУНКА В ПОВЕРХНОСТНОМ СЛОЕ СТЕКЛА 2010
  • Гудымович Елена Никифоровна
  • Иванов Олег Сергеевич
RU2456655C2
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЧУВСТВИТЕЛЬНОГО ЭЛЕМЕНТА ПОЛУПРОВОДНИКОГО ГАЗОВОГО СЕНСОРА 2006
  • Анисимов Олег Викторович
  • Давыдова Тамара Анатольевна
  • Максимова Надежда Кузьминична
  • Черников Евгений Викторович
  • Щеголь Сергей Степанович
RU2319953C1
СПОСОБ ВЗРЫВНОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ 2015
  • Ламбакшев Алексей Федорович
  • Котомина Валентина Евгеньевна
  • Зеленцов Сергей Васильевич
  • Антонов Иван Николаевич
  • Горшков Олег Николаевич
RU2610843C1
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНОГО МАТЕРИАЛА1 1973
  • Известен Способ Получени Светочувствительнога Материала Нанесением Подложку Светочувствительного Сло Включающего Полимер Хиноидиа Зидными Группами, Присоединенными Цепи Полимера Через Атом Азота, Органический Растворитель Примен Соединени Нилового Акрилаты, Мета Крилаты, Стирол Цель Изобретени Получение Светочувствительного Материала Широким Диапазоном Растворимости При Про Влении Предлагаетс Качестве Полимера Примен Полимер Или Сополимер Аминости Рола, Содержащий Тювтор Ющиес Звень
  • Атом Водорода Или Алкил Числом
  • Груп Хинондиазид Ный Остаток
  • Повышени Проч Ности, Долговечности Или Сопроти Емости Отношению Про Вителю Светочувствительный Слой Ввод Термопластичную Плен Кообразующую Смо Количестве Вес Количества Полимера Или Сополимера Аминостирола
  • Предлагаемые Пленкообразующие Полиме Обычно Имеют Мол Подход Щими Этиленненасыще Нными, Способными Полимеризации Соединени Ми, Которые Огут Вступать Реакцию Сополимеризации Аминостиролом, Ютс Например, Сти Рол, Акрилаты, Винилгалогениды, Виниловые Эфиры, Винилкетоны, Эфиры Дивинила, Акрп Онитрил, Смешанные Амидоэфиры Малеино Ангидрид, Бутадиен, Изопрен, Хлор Опрен, Дивинилбензол, Производные Акрило Вой Мета Криловой Кислот, Например Нитрилы, Амиды Эфиры, Этилен Изобутилен Соотношение Мон Омеров Выбирают Ким Образом Чтобы Количество Аминостирола Состн Менее Веса Полученного Сопо Лимера
SU379110A1
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НЕГАТИВНЫХ ФОТОРЕЗИСТОВ 1968
SU212752A1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ НОЖА-СЕТКИ ЭЛЕКТРОБРИТВЫ 1999
  • Савкин В.Н.
  • Пинус Ю.И.
  • Голюсов В.В.
  • Кабанов В.С.
  • Опитин Г.С.
  • Пятибрат Р.Ф.
  • Шубин О.В.
RU2154570C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПРЕОБРАЗОВАТЕЛЯ СО ВСТРОЕННЫМ ДИОДОМ 2012
  • Самсоненко Борис Николаевич
  • Битков Владимир Александрович
  • Василенко Анатолий Михайлович
  • Королева Наталья Александровна
RU2515420C2
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОГО РИСУНКА В ПЛЕНКЕ ДВУОКИСИ КРЕМНИЯ НА РЕЛЬЕФНОЙ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЕВОЙ ПЛАСТИНЫ 1993
  • Козин С.А.
  • Чистякова Т.Г.
RU2111576C1

Реферат патента 1981 года Способ нанесения пленки для изготов-лЕНия МЕМбРАННОгО МОдуляТОРА CBETA

Формула изобретения SU 853 591 A1

Изобретение относится к области технологии изготовления элементов вычислительной техники, в частности элементов параллельных оптозлектронных вычислительных с:;стем и приборов - мембранных модуляторов света. Известен способ нанесения пленки для изготовления мембранного модулятора свеп 11, по которому на поверхность перфорированной подложки наносится слой фоторезиста, заполняющий отверстия. После просушивания фоторезист полируют до тех пор, пока его поверхность не сравняется с подложкой. Образец покрывают тонким слоем желатины, на поверхность которой равномерно осаждают мелкие част1щы, а затем наносят металлическую пленку напылением в вакууме. Образец протирают влажной тканью, удаляют выступающие частиш 1 и промывают. В металлической пленке - мембране образуются мелкие поры. Затем удаляют фоторезист, для чето образец погружают в растворитель, который диффундирует сквозь поры в металлической мембране, и растворяют фоторезист, заполняющий отверстия. Недостатками способа являются сложность технологии и большая трудоемкость. Наиболее близким по техническом сущности и достигаемому результату к изобретению является способ нанесения пленки для изготовления мембранного модулятора света, основаигг ный на использовании в качестве исходного материала мембраны модулятора раствора коллодия, включающий наяесеиие на подложку раствора коллодия и последующую сущку 2. Такой способ не позволяет наносить пленочную ме |6рану на перфорированную поверхность. Целью изобретеиия является ианесение пленочион на перфорированную поверхиость. Эта цель достигается благодаря тому, что по способу намерения пленки для изготовления мем аииого модулятора света, осиоваиному на испольэовашш в качестве исходного материала мембраны модулятора раствора коллодия, включающем нанесение на подложку раствора коллодия и последующую сушку, после сушки подложку с нанесенной пленкой погружают в сосуд с водой, отделяют пленку, помещают в тот же сосуд пластину с перфорированной поверхностью, подводят под отделившуюся пленку и вместе с пленкой извлекают из сосуда, после чего повторяют процесс сушки. Полученная мембрана металлизируется напы лением в вакууме для обеспечения достаточной электрической проводимости и отражательной способности. При изготовлении мембранного модулятора на пластину из кремния с yпpaвляюшJ ми электродами наносили слой диэлектрика, в котором методами фотолитографии делалась перфорация в виде матрицы круглых отверстий. При-этом отверстия перфорации расположены над управляющими электродами. Для изготовления мембраны был взят раствор коллодия, представляющего собой раствор Коллоксилина в смеси этилового спирта и эфира. Раствором поливали промежуточную подложку из окиси кремния. После сущки на воздухе при комнатной температуре образовьшалась тонкая пленка. Подложку с образовавшейся пленкой погружали в сосуд с водой, где происходило ее отделение от подложки. Затем в тот же сосуд с водой погружали подложку с перфорированным слоем (диаметр отверстий 50-200 мкм, глубина перфорации 2-4 мкм) и подводили ее под отделившуюся пленку. На этой же пластине извлекали из воды пленку и высушивали при 20°С на воздухе в горизонтальном положении Толщина полученной пленки менее 5 мкм. Вы сыхая, пленка приклеивалась к верхней плоскости подложки и натягивалась в местах над отверстиями, причем остатки воды испарялись из-под пленки, так как пленка коллодия проницаема для молекул воды. Затем на пленку, равномерно натянутую и приклеенную к перфо (жрованному слою, наносили напылением зеркальный слой алюминия и контактные площад ки для подведения опорного электрического потенциала. Предложенный способ обеспечивает достаточную адгезию мембраны к по.гщожке и воз-, можность металлизации мембраны напылением в вакууме. Использование способа значительно упрощает технологию изготовления мембранных модуляторов. Брак при изготовлении минимален. Экономический эффект от использования способа изготовления мембранных матричных модуляторов света с количеством ячеек 32x32 составляет ориентировочно 50 руб. на каждый модулятор. Формула изобретения Способ нанесения пленки для изготовления мембранного модулятора света, основанный на использовании в качестве исходного материала мембраны модулятора раствора коллодия, включающий нанесение на подложку раствора коллодия и последующую сушку, отличающийся тем, что, с целью нанесения пленочной мембраны на перфорированную поверхность, после сущки подложку с нанесенной пленкой погружают в сосуд с водой, отделяют пленку, помещают в тот же сосуд пластину с перфорированной поверхностью, подводят под отделившуюся пленку и вместе с пленкой извлекают из сосуда, после чего повторяют процесс сушки. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1.L. F. Cosentino, W. F. Stiwart А membrane page composer, RCA Review, 1973, V. 34, N 1, p. 45. 2.ФТМ Микросхемы, фотошаблоны прецизионные. Типовые технологические процессы НбкО 054002, ред. 1-68, с. 23.

SU 853 591 A1

Авторы

Кирющева Ирина Владимировна

Рабинович Владимир Абрамович

Даты

1981-08-07Публикация

1979-12-07Подача