Способ очистки деталей Советский патент 1981 года по МПК B08B5/00 

(54) СПОСОБ ОЧИСТКИ ДЕТАЛЕЙ

1

Изобретение относится к очистке поверхностей и может быть использовано для очистки деталей и узлов вакуумных систем.

Известен способ очистки деталей с помощью травления высокочастотной кислородной плазмой 1.

К недостаткам этого способа относятся необходимость использования ВЧ генератора и большое время очистки.

Наиболее близким к изрбретенйю .является способ очистки деталей, вклю чающий обработку их поверхности .газообразной кислородсодержащей средой и вакуумирование 2 .

Недостаток способа состоит в том, что на очищаемую деталь оказывают действие электроны и ионы, что существенно ограничивает область применения способа и снижает качество очистки.

Целью изобретения является повьаиение качества очистки.

Поставленная цель достигается т,ем, что обработку поверхности деталей производят струей активированного кислорода при давлении 0,1-10 ммрт.ст,

Диссоциированный (атомарный) кисло род получают с помощью тлеющего разря да в трубке Вуда,в которую с

объемной скоростью подают кислород с небольшой примесью паров вОды для увеличения выхода атомов кислорода. Из трубки Вуда частично диссоциированный кислород откачивают из разрядной зоны через диафрагму в виде сопла в рабочую камеру, где перпендикулярно оси сопла располагается очищенная, деталь. Сопло служит для сведе10ния к минимуму электронно- ионносоставляющей плазмы и формирования струи активированного кислорода.

Атомарный кислород вызывает полное и быстрое удаление всех органичес15ких соединений в результате химического взаимодействия с ними, при этом единственными продуктами реакции являются углекислый газ и пары воды, которые легко удалйются в процессе

20 самой очистки путем откачки. Активированный кислород способен очищать детали самой сложной конфигурации с отверстиями самого малого диаметра.

Пример. Вакуумная система,

25 предназ|1аченная для обработки интегральных схем/ состоящая из стеклянного колпака, винйпластового резервуара и соединительных трубок общим объемом 25 л., откачивалась с помощью насоса РВИ-20 (максимально

30 достижимей вакуум при холостом ходе 510 мм рт.ст.) в течение 15 дн. в результате чего удалось достичь вакуума 6 10 мм.рт.ст. После обработки активированным кислородом в течение 2 ч вакуум поднялся до рт. ст ., т. е. был достигнут практически предельно возможный вакуум. При обработке давление кислорода было 1ммрт.ст., расход кислорода составЯйл 10 л/ч, плотность атомов кислорода на выходе из сопла, измеренная методом каталитической рекомбинации на платине, равнялась 10 атомов/см -с. Способ очистки деталей струей активированного кислорода имеет по срав нению с известными способами следу1аци преимущества: упрощение процесса очистки, избежание применения вредных для организма человека веществ,иэбавление от сложной аппаратуры,предотвращение повреждения поверхности деталей электронно-ионной бомбардировкой. Формула изобретения Способ очистки деталей, включающий обработку их поверхности газообразной кислородсодержащей средой и вакуумирование, отличающийся тем, что, с целью повьлиения качества очистки, обработку поверхности деталей производят струей активированного кислорода при давлении 0,1-10 мм рт.ст. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1.Патент США 3723289, кл. Н 01 Т 19/00, 1973. 2.Dugdale R.A. Thin Solid Films, 1977, 45, 3, 541-552.