Устройство для двусторонней очистки плоских деталей Советский патент 1982 года по МПК B08B1/04 

Изобретение относится к технологическому оборудованию полупроводникового производства, а именно к устройствам для двусторонней очистки плоских деталей.

Известно устройство двусторонней очистки плоских деталей, включающее установленный между моющими щетками приводной сепаратор с отверстиями для обрабатываемой детали 1.

Однако известное устройство не исключает вторичное загрязнение очищаемой поверхности вследствие загрязнения самих щеток.

Целью изобретения является повышение качества очистки за счет исключения вторичного загрязнения очищаемого изделия..

Поставленная цель достигается тем, что в устройстве для двусторонней очистки плоских деталей, включающем установленный между моквдими . щетками приводной сепаратор, с отверстиями для обрабатываемой детали, сепаратор имеет размещенные по периметру со стороны отверстия выстугал для снятия загрязнений с ворса щетки.

«а фиг.Д изображено предяагаетюе устройство, общий вид;- на фиг.2 сечение выступа, выполненного по периметру отверстия сепаратора.

Устройство содерлсит ванну 1 со сливным штуцером 2/ моюпше щетки 3

5 и 4, приводной сепаратор 5 с отверстием 6 для обрабатываемой детгд1и 7 и привод 8 сепаратора. По периметру отверстия 6 сепаратора 5 выполнены выступы 9 и 10, сечение которых имеет

10 форму прямоугольного треугольника, обращенного вершиной в сторону отверстия.

Мокяше щетки 3 и 4 закреплены на полых корпусах 11 и 12 со штуцерами15

13и 14 для подвода моюцей жидкости. В корпусах 11 и 12 имеются отверстия 15, через которые мошцая жидкость подается в зону очистки.

Устройство работает следуюпцт

20 образом.

.Перед йачалом цикла очистки корпус 12 с закреплением иа нем щеткой 4 подн1 {ают вверх. В отверстие 6 сепаратора 5 укладывают деталь 7,

25 например фотошаблон, после чего корпус 12 опускают вниз. Затем включают привод S я подают моющую жид;кость, которая через штуцеры 13 и

14и отверстия 15 поступает в зону 30 обработки.