НОВАЯ ФОТОЗАЩИТНАЯ СИСТЕМА Российский патент 2017 года по МПК A61K8/49 A61K31/4196 A61Q17/00 A61P17/18 

Настоящее изобретение относится к комбинациям солнечных фильтров, подходящих в качестве фотозащитных систем в косметических и фармацевтических композициях.

Прежде всего, рассмотрим ниже номенклатуру и аббревиатуры разнообразных фильтров, попадающих в объем заявленного изобретения:

УФА фильтры

- 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазин, описанный в WO 2005/121128;

- Гексил-2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]бензоат = Регистрационный номер CAS: 302776-68-7, который имеет товарный знак Uvinul А+^®, принадлежащий BASF;

- Метанон-1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]- = Регистрационный номер CAS: 919803-06-8, который имеет товарный знак С1332^®, принадлежащий BASF;

- бутилметоксидибензоилметан (БМДБМ) = авобензон = Регистрационный номер CAS: 70356-09-1, который имеет товарный знак Parsol1789^®, принадлежащий DSM.

УФВ фильтры

- диэтилгексилбутамидотриазон = Регистрационный номер CAS: 154702-15-5, который имеет товарный знак UVASorb НЕВ^®, принадлежащий 3V SIGMA;

- 2,4,6-трис([1,1'-бифенил]-4-ил)-1,3,5-триазин = трис-бифенилтриазин = Регистрационный номер CAS: 31274-51-8, который имеет товарный знак ЕТН50^®, принадлежащий BASF;

- октилтриазон = этилгексил триазон = Регистрационный номер CAS: 88122-99-0, который имеет товарный знак UvinulT150^®, принадлежащий BASF.

- 2-фенилбензимидазол-5 сульфоновой кислоты = фенилбензимидазол сульфоновой кислоты = Регистрационный номер CAS 27503-81-7

- 2-этилгексил салицилат = этилгексил салицилат = Регистрационный номер CAS 118-60-5

Фильтры широкого спектра

- 2,2'-Метилен-бис-(6-(2Н-бензотриазол-2-ил)-4-(1,1,3,3-тетраметилбутил)-фенол = Метилен-бис-бензотриазолтетраметилбутилфенол (МББТ) = бисоктризол = Регистрационный номер CAS: 103597-45-1, который имеет товарный знак Tinosorb М^®, принадлежащий BASF;

- 2,4-бис[4-(2-этилгексилокси)-2-гидроксифенил]-6-(4-метоксифенил)-1,3,5-триазин = бис-этилгексилоксифенолметоксифенилтриазин (БЭМТ) = Бемотризинол = Регистрационный номер CAS: 187393-00-6, который имеет товарный знак Tinosorb S^®, принадлежащий BASF.

Напомним кратко, что воздействие солнечного излучения на кожу в основном зависит от энергии излучения, проникающего в различные слои кожи. В большинстве случаев, наиболее высокоэнергетическое излучение, которое имеет наименьшую длину волны, (E=hc/I), вызывает покраснение кожи (эритему) или солнечный ожог, тогда как излучение с меньшей энергией приводит только к появлению загара. Исходя из этого, полагают, что солнечные фильтры, предназначенные для использования в составе косметических препаратов, так называемые солнечные экраны, должны максимально поглощать коротковолновое излучение и, в то же время, должны пропускать длинноволновое излучение.

Как правило, УФ-А и УФ-В различают в соответствии с уменьшением длины волны, значение которой попадает в интервалы 400-320 нм и 320-280 нм соответственно. УФ-А и УФ-В приводит к появлению загара на наружном слое кожи. УФ-В вызывает покраснение кожи и ожоги, что препятствует появлению естественного загара. В силу этих, а также и косметологических причин, существует постоянный спрос на средства, контролирующие процесс естественного загара и, поэтому позволяющие регулировать цвет кожи. В связи с вышесказанным, УФ-В излучение должно быть отфильтровано.

Также известно, что УФ-А излучение может вызывать изменения в коже, особенно в случае чувствительной кожи или при продолжительном воздействии солнечного излучения. УФ-А излучение, в частности, проявляется в потере кожей эластичности и появлении морщин, что приводит к преждевременному старению. УФ-А излучение может вызывать или усиливать у некоторых людей эритематозные реакции, и может даже приводить к фототоксичным и фотоаллергическим реакциям. Из сказанного следует, что желательно также отфильтровывать УФ-А излучение.

Кроме того, установлено, что облучение ультрафиолетом при пребывании на солнце или под воздействием ламп для загара, является основной причиной возникновения рака кожи.

В заключение необходимо отметить, что некоторые анти-УФ фильтры, описанные в предшествующих технических решениях, как теперь известно, отвечают за аллергические реакции (контактную экзему) и\или могут предположительно оказывать общетоксическое действие (могут действовать, среди прочего, как эндокринный деструктор).

Существует реальная необходимость в разработке фотозащитных систем, которые эффективно фильтруют ультрафиолетовое излучение и в которых устранены недостатки, связанные с непереносимостью и токсичностью.

Исходя из вышесказанного, было решено не применять такие УФ-фильтры, которые, как полагают, неудовлетворительны с точки зрения переносимости и\или токсичности и\или фотостабильности и\или имеют низкую способность к УФ поглощению, а именно:

- Октокрилен,

- Парааминбензойная кислота (ПАБК),

- этилгексилметоксициннамат;

Преимущественно, композиция согласно данному изобретению не будет содержать:

- Октокрилен

- ПАБК и ее производные

- Химические вещества из семейства циннаматов, включая этилгексилметоксициннамат;

- Семейство бензофенонов и

- Семейство бензилиден камфоры

- И, в качестве меры предосторожности, гомосалат.

«Фотозащитная система» в контексте настоящего изобретения означает любое соединение или смесь соединений, которые позволяют после нанесения на поверхность (кожа, волосы и т.д.) путем механизма абсорбции и\или отражения и\или рассеивания УФ-А и\или УФ-В излучения, предотвращать или, по крайней мере, ограничивать контакт упомянутого излучения с указанной поверхностью.

Термин «ультрафиолетовое излучение» означает солнечное ультрафиолетовое излучение и искусственное ультрафиолетовое излучение (например, лампы солярия).

Технические характеристики и ожидаемые преимущества новой фотозащитной системы согласно заявленному изобретению следующие:

Наиболее широкий из возможных абсорбционный спектр УФ (максимум спектрального диапазона 290-400 нм)

- Критическая длина волны λс строго больше, чем 370 нм, что позволяет лучше покрывать длинноволновую часть УФ-А по сравнению с фильтрами, представленными в настоящее время на рынке.

- Содержание минимального количества фильтров и в минимальных концентрациях для обеспечения лучшей переносимости и для уменьшения реакции на токсическое действие.

- Фотостабильность (характеристики фильтрующей системы не ухудшаются под воздействием УФ излучения)

- Стабильность по отношению к свету, воздуху, влажности и температуре.

- Соответствие токсикологическим требованиям (превосходная переносимость, отсутствие токсичности и мутагенности, а также данная система не является эндокринным деструктором, и др.)

- Безупречная форма выпуска (приятная текстура, не липкая, не белая, что создает удобства при использовании данного фотопротектора).

Новая фотозащитная система согласно заявленному изобретению удовлетворяет принятым требованиям: помимо всего прочего, солнцезащитный фактор в отношении ультрафиолета A (SPF/UVA) меньше или равно 3.

В одном конкретном исполнении новая фотозащитная система согласно заявленному изобретению будет относиться к фотозащитным системам, соответствующим максимальной категории (SPF 50+).

В другом конкретном исполнении новая фотозащитная система согласно заявленному изобретению будет такова, что SPF/UVA будет меньше или равен 2.5.

«Фотостабилизация, фотостабильность и фотостойкость» в контексте настоящего изобретения означает, что при облучении пятью минимальными эритемными дозами (5 MED) или предпочтительно десятью минимальными эритемными дозами (10 MED), выполняется следующее:

- по крайней мере 80% или даже преимущественно не менее 85% или предпочтительно как минимум 90% общего SPF (290-400 нм); и

- по крайней мере 80% или даже преимущественно не менее 85% или предпочтительно как минимум 90% для УФА части (320-400 нм) общего SPF.

В процессе интенсивных исследований по оптимизации фотозащитных систем, удовлетворяющих принятым требованиям, заявителем было неожиданно обнаружено, что отмеченные выше требования выполняются для топических косметических и фармацевтических композиций, содержащих комбинацию 3 или 4 солнечных фильтров:

- одного или двух УФ-А фильтров для достижения критической длины волны >370 нм, выбранных из следующих:

i. 5, 6, 5, 6-тетрафенил-3, 3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазин,

ii. 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]-метанон,

iii. бутилметоксидибензоилметан (БМДБМ),

iv. гексил-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]бензоат, 2,4-бис[4-(2-этилгексилокси)-2-гидроксифенил]-6-(4-метоксифенил)-1,3,5-триазин (БЭМТ),

- одного или двух фильтров, выбранных из УФ-В фильтров, исключая октокрилен, парааминбензойную кислоту и этилгексилметоксициннамат,

при этом указанная композиция также содержит фармацевтически или косметически приемлемые эксципиенты.

Предпочтительно, что комбинация 3 или 4 солнечных фильтров согласно изобретению содержит один или два УФ-В фильтра, за исключением октокрилена, ПАБК и ее производных, химических веществ из семейства циннаматов, включая этилгексилметоксициннамат, гомосалат, химических веществ из семейства бензофенонов и бензилиден камфоры.

Бутилметоксидибензоилметан (БМДБМ) не является устойчивым фильтром для УФ излучения. Вследствие имеющего места распада молекулы, происходит образование различных химических соединений, которые не обладают абсорбционной активностью. Для того, чтобы решить проблему фотостабильности данного фильтра, количество БМДБМ в композиции согласно изобретению меньше 2 масс. % по отношению к массе всей композиции.

В одном конкретном исполнении количество БМДБМ будет меньше или равно 1,5 масс. % по отношению к массе всей композиции.

В другом конкретном исполнении количество БМДБМ будет меньше или равно 1 масс. % по отношению к массе всей композиции.

Предпочтительно, что композиция согласно изобретению отличается тем, что количество всех соединений указанной комбинации солнечных фильтров меньше, чем 20 масс. %, преимущественно меньше 16 масс. % и часто не более 14 масс. % по отношению к массе всей композиции.

Существующие в настоящее время солнечные фильтры делят на:

- органические жиро- или водорастворимые фильтры, которые преимущественно абсорбируют излучение,

- минеральные солнечные экраны, которые преимущественно отражают излучение,

- органические солнечные экраны, которые одновременно и абсорбируют, и отражают излучение.

Список фильтров УФ-А, используемых согласно изобретению, состоит из:

- органических фильтров: БМДБМ и гексил-2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]бензоат;

- органических солнечных экранов: 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазин и 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]-метанон

Список фильтров УФ-В состоит из:

- органических фильтров: диэтилгексилбутамидотриазон и этилгексилтриазон, этилгексилсалицилат и фенилбензимидазол сульфоновой кислоты

- органического солнечного экрана: трис-бифенил триазин.

- минерального солнечного экрана TiO₂.

В настоящее время на рынке существует два фильтра широкого спектра: БЭМТ и метилен-бис-бензотриазолилтетраметилбутилфенол (МББТ). Указанные фильтры абсорбируют в диапазоне длин волн как УФ-А, так и УФ-В. БЭМТ является органическим фильтром, а МББТ - органическим солнечным экраном.

Фильтр БЭМТ обязательно присутствует в композиции согласно изобретению.

В одном конкретном исполнении заявленного изобретения и в пределах установленного ограничения на содержание 3 или 4 солнечных фильтра в целом в композиции, указанная композиция будет также содержать фильтр широкого спектра МББТ.

Заявленное изобретение, в частности, относится к следующим фотозащитным системам:

- 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазин, БЭМТ и трис-бифенил триазин;

- 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазин, БЭМТ, трис-бифенил триазин и диэтилгексилбутамидотриазон;

- 5,6,5,б-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазин, БЭМТ, МББТ и диэтилгексилбутамидотриазон;

- 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазин, BMDBM, БЭМТ и трис-бифенилтриазин;

- 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазин, гексил-2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]бензоат, БЭМТ и трис-бифенилтриазин;

- 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазин, БЭМТ, трис-бифенил триазин и TiO₂,

- 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]-метанон, БЭМТ и трис-бифенилтриазин

- 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]-метанон, БЭМТ, трис-бифенил триазин и этилгексилсалицилат.

В одном воплощении заявителем предложены фотозащитные системы с минимальным количеством органических фильтров, поэтому такие фотозащитные системы используют преимущества органических и\или минеральных солнечных экранов.

Предпочтительно, что заявленная композиция содержит максимально 3 органических фильтра и предпочтительно содержит не более 2 или даже более предпочтительно 1 органический фильтр.

Органические и минеральные солнечные экраны имеют очень хороший токсикологический профиль. В самом деле, данные компоненты, исходя из их агрегатного состояния и молекулярного веса, остаются на поверхности кожи, что ограничивает подкожную абсорбцию и повышает безопасность данной фотозащитной системы.

Примечательно, что указанная в заявленном изобретении композиция характеризуется как содержащая максимально 4 фильтров в целом или предпочтительно не более 3 фильтров.

Композиция согласно одному воплощению изобретения содержит в качестве УФ-А фильтра соединение 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазин в сочетании с другим УФ-А фильтра, выбранным из следующих:

- 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]-метанон

- БМДБМ или

- гексил-2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]бензоат.

Композиция согласно другому воплощению изобретения в качестве УФ-А фильтра может содержать в качестве УФ-А фильтра соединения 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]-метанон в сочетании с другим УФ-А фильтром, выбранным из следующих:

- 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазин

- БМДБМ или

- гексил-2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]бензоат.

Согласно еще одному воплощению изобретения, содержание 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1-4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина составляет от 1 до 5 масс. % по отношению к массе всей композиции.

Согласно еще одному воплощению изобретения, содержание 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]-метанона в композиции согласно изобретению составляет от 1 до 5 масс. % по отношению к массе всей композиции.

Согласно еще одному воплощению изобретения, содержание гексил-2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]бензоата в композиции согласно изобретению составляет от 1 до 10 масс. % по отношению к массе всей композиции, предпочтительно от 1 до 6 масс. %.

Согласно еще одному воплощению изобретения, содержание БЭМТ в композиции согласно изобретению составляет от 1 до 4 масс. % по отношению к массе всей композиции.

Согласно еще одному воплощению изобретения, комбинация 3 или 4 солнечных фильтров содержит один или два УФ-В фильтра, за исключением октокрилена, ПАБК и ее производных, химических веществ из семейства циннаматов, включая этилгексилметоксициннамат, гомосалата, химических веществ из семейства бензофенонов и семейства бензилиден камфоры.

Согласно еще одному воплощению изобретения, УФ-В фильтр для композиции согласно изобретению выбирается из перечисленных ниже соединений:

- диэтилгексил бутамидо триазон

- этилгексил триазон

- трис-бифенил триазин.

- этилгексил салицилат

- фенилбензимидазол сульфоновой кислоты

- TiO₂.

Согласно еще одному воплощению изобретения, содержание трис-бифенилтриазина в композиции согласно изобретению составляет от 3 до 7 масс. % по отношению к массе всей композиции.

Согласно еще одному воплощению изобретения, содержание диэтилгексилбутамидотриазона в композиции согласно изобретению составляет от 1 до 5 масс. % по отношению к массе всей композиции.

Согласно еще одному воплощению изобретения, содержание этилгексилтриазона в композиции согласно изобретению составляет от 1 до 5 масс. % по отношению к массе всей композиции.

Согласно еще одному воплощению изобретения, содержание TiO₂ в композиции согласно изобретению составляет от 1 до 10 масс. % по отношению к массе всей композиции.

Композиция согласно изобретению также содержит фильтр широкого спектра МББТ.

Согласно еще одному воплощению изобретения, комбинация солнечных фильтров состоит из 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина, БЭМТ и трис-бифенилтриазина.

Согласно еще одному воплощению изобретения, комбинация солнечных фильтров состоит из 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина, БЭМТ, трис-бифенилтриазина и диэтилгексилбутамидотриазона.

Согласно еще одному воплощению изобретения, комбинация солнечных фильтров состоит из 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина, БЭМТ, трис-бифенилтриазина и БМДБМ.

Согласно еще одному воплощению изобретения, комбинация солнечных фильтров состоит из 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина, БЭМТ, МББТ и диэтилгексилбутамидотриазона.

Согласно еще одному воплощению изобретения, комбинация солнечных фильтров состоит из 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина, гексил-2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]бензоата, БЭМТ и трис-бифенилтриазина.

Согласно еще одному воплощению изобретения, комбинация солнечных фильтров состоит из 5,6,5,6-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина, БЭМТ, трис-бифенилтриазина и TiO₂.

Согласно еще одному воплощению изобретения, комбинация солнечных фильтров состоит из 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]-метанона, БЭМТ и трис-бифенилтриазина.

Согласно еще одному воплощению изобретения, комбинация солнечных фильтров состоит из 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]-метанона, БЭМТ, трис-бифенилтриазина и этилгексил салицилат.

Настоящее изобретение также рассматривает топические композиции, содержащие комбинации, ранее описанные в отношении их фотозащитного применения, особенно для кожи и\или волос.

Термин «фармацевтически или косметически приемлемые эксципиенты» обозначает любой адъювант или эксципиент, имеющий отношение к производству, консервации или применению композиции.

Композиции согласно изобретению могут, в частности, служить солнечными экранами. Данные композиции, в частности, предназначены для защиты кожи (лица и\или тела) и\или волос от ультрафиолетового излучения.

Настоящее изобретение также описывает способы защиты кожи (лица и\или тела) и\или волос от ультрафиолетового излучения, включая нанесение композиции, описанной выше, на кожу (лицо и\или тело) и\или волосы.

Композиции согласно изобретению могут также содержать общепринятые косметические или фармацевтические адъюванты, в том числе, жиры, органические растворители, загустители, смягчители, замутнители, эмоленты, антипенообразователи, увлажнители, отдушки, консерванты, полимеры, наполнители, стабилизаторы, бактерицидные вещества, дезодораторы, подкислители, ощелачивающие вещества, поверхностно-активные вещества (ПАВ), акцепторы свободных радикалов, антиоксиданты, витамины Е и С, альфа-гидрокикислоты и любые другие компоненты, обычно применяемые в косметических или фармацевтических средствах, в частности для производства солнцезащитных композиций.

Жиры могут быть представлены маслами или воском или смесью того и другого, также в качестве жиров могут быть использованы алифатические кислоты, алифатические спирты и сложные эфиры алифатических кислот. Масла могут быть выбраны из масел животного или растительного происхождения, минеральных или синтетических, а именно вазелиновое и парафиновое масла, летучие и нелетучие силиконовые масла, изопарафины, полиолефины, фторированные и перфорированные масла. Точно также воски можно выбирать среди животных, минеральных, растительных или синтетических восков, таких как пчелиный воск, канделильский воск, карнаубский воск, нефтяной воск (или микрокристаллический парафин), парафин и смеси этих соединений.

Композиция может дополнительно содержать водорастворимые при комнатной температуре (приблизительно 25°C) многоатомные спирты, в частности, многоатомные спирты, имеющие от 2 до 20 атомов углерода, предпочтительно, с 2-10 атомами углерода или даже 2-6 атомами углерода, такие, как например, глицерин или производные гликоля: пропиленгликоль, бутиленгликоль, пентиленгликоль, гексиленгликоль, дипропиленгликоль, диэтиленгликоль; гликольэфиры, такие как С1-С4 алкилэфиры моно-, ди- или трипропиленгликоля и С1-С4 алкилэфиры моно-, ди- или триэтиленгликоля и смеси этих соединений.

Композиция может также содержать загустители или модификаторы реологии, такие как неионные этоксилированные гидрофобномодифицированные уретаны, загустители на основе многоосновных карбоновых кислот, например, акрилат/стеарат-20 метакрилат кополимер, карбомеры, сшитые кополимеры акриловой кислоты и смеси этих соединений.

Композиция может также содержать кислоты и основания для того, чтобы регулировать уровень рН заявленной композиции. Основания могут быть минеральными (гидроксид натрия, гидроксид калия, гидроксид аммония, и др.) или органическими, такими как моно, ди- или триэтаноламины, аминометилпропандиол, N-метилглюкамин, основные аминокислоты такие как аргинин и лизин и смеси этих соединений.

Композиция может также включать в свой состав кондиционеры для ухода за кожей. Примеры кондиционеров для ухода за кожей, включают в себя, но не ограничиваются ими, анионные, катионные и неионные ПАВ, такие как, лаурилсульфат натрия, диоктилсульфосукцинат натрия, стеарат натрия, эфир сорбитана, этоксилированные алифатические кислоты и спирты, как например, тридецет-9 и ПЭГ-5 этилгексаноат; а также любые другие эмульгирующие вещества и кондиционирующие добавки известные специалистами и смеси этих соединений.

Композиции согласно изобретению могут дополнительно содержать дополнительные активные вещества, в частности: увлажнители, отшелушивающие агенты, вещества, повышающие защитные функции, депигментирующие агенты, антиоксиданты, разглаживающие кожу агенты, антигликационные агенты, агенты для стимулирования синтеза макромолекул кожи и\или эпидермиса и\или для предотвращения их разрушения, вещества, стимулирующие пролиферацию фибробластов или кератоноцитов и\или дифференциацию кератоноцитов, ингибиторы NO-синтетазы, агенты, увеличивающие активность сальных желез, подтягивающие агенты, липид-реструктурные агенты, агенты для похудения, агенты, способствующих кожной микроциркуляции, успокаивающих и\или раздражающие агенты, себорегулирующие или антисеборейные агентов, астрингентов, заживляющие и противовоспалительные агенты, агенты для лечения акне и смеси этих соединений.

Композиции согласно изобретению могут быть представлены в любой подходящей форме для топического применения, особенно для кожи и\или волос. В частности, композиция может быть представлена эмульсиями, полученными путем диспергирования жировой фазы в водной фазе, например, в виде простых или составных эмульсий типа «масло в воде» или «вода в масле», гелями или безводными жидкостями, пастами или твердыми продуктами, или дисперсиям, дисперсная фаза которых образована сферическими частицами. Композиция согласно изобретению может обладать меньшей текучестью и быть представлена в виде белого или окрашенного крема, помады, косметического молочка, лосьона, сыворотки, пасты, маски, пудры, твердого карандаша или, в некоторых случаях, в виде аэрозоля, пенки или спрея. Композиции согласно изобретению также могут быть водоустойчивыми.

Оценка и примеры композиции

Способ оценки in vitro общей УФ-фотостабильности и УФ-А фотостабильности.

А) Материалы

- УФ-спектрофотометры:

Спектрофотометры предназначены для измерения спектрального коэффициента пропускания пластины с нанесенным на ее поверхность слоем фотозащитной композиции или без фотозащитного слоя.

Спектрофотометр должен позволять проводить измерения в диапазоне 290-400 нм. С целью уменьшения вариабельности значений измерений и компенсации неоднородности фотозащитного слоя, рекомендуется, чтобы рабочая зона для проведения измерений была не менее 0,5 см².

Измерения проводились на спектрофотометре Labsphere^® UV-1000S or 2000S.

- Пластина:

Пластина представляет собой материал, на который наносится фотозащитный слой. Материал пластины должен быть прозрачен для УФ-излучения, не флюоресцирующий, фотостабильный и инертный по отношению к компонентам тестируемой композиции. Перечисленным требованиям идеально удовлетворяет пластина, изготовленная из полиметилметакрилата (ПММА).

- Источник УФ-изулучения:

В качестве источника УФ-излучения выбран имитатор солнечного излучения на основе ксеноновой дуговой лампы, распространяющей излучение видимого+УФ-А+УФ-В спектра. Для проведения измерений, в качестве источника УФ-излучения, был выбран Suntest CPS+(Atlas).

Б) Метод:

- Измерение пропускания через необработанную пластину:

Прежде всего, необходимо определить пропускание УФ излучения через контрольную пластину. Контрольная пластина была приготовлена путем нанесения нескольких микролитров глицерина таким образом, чтобы поверхность пластины была полностью покрыта.

- Нанесение образца:

Образец для тестирования наносится на ПММА пластину в количестве 1,3 мг/см² (фактическое количество, остающееся на пластине). Для того, чтобы гарантировать точность количества и воспроизводимость результатов, зона нанесения образца должна быть больше 10 см².

Тестируемый образец наносится в виде большого количества мельчайших капель одинакового объема, распределенного по всей поверхности пластины.

Для того, чтобы убедиться в правильности количества нанесенного продукта, необходимо разработать метод валидизации количества нанесенного продукта (например, взвешивание пластины до и после нанесения продукта).

После нанесения определенного количества образца, образец должен быть распределен по всей пластине как можно быстрее (менее, чем за 30 с).

Обработанная пластина затем должна быть помещена на 15 минут в темное место при комнатной температуре для того, чтобы способствовать образованию гомогенной пленки.

- Измерение пропускания через пластину с нанесенным образцом:

Пластина с нанесенным образцом исследуется с помощью спектрофотометра, при этом среднее значение пропускания УФ-излучения определяется для каждой длины волны диапазона 290-400 нм (на основании данных о монохромном поглощении в различных областях пластины).

- Число измерений:

Как минимум три ПММА пластины должны быть изготовлены для тестирования каждого образца. Каждая пластина должна быть исследована по крайней мере в девяти различных областях, за исключением тех случаев, когда спектрофотометр снимает данные со всей поверхности.

В) Расчет фотостабильности:

Расчет солнцезащитного фактора (SPF) и УФ-А (UVA) (постоянное пигментационное потемнение (PPD) in vitro на основании данных абсорбции А(λ) до и после облучения дозами 5 и 10 MED.

где

- Е(λ) = Спектр эритемной эффективности

- S(λ) = Спектральное распределение солнечного излучения

- А(λ) = Абсорбция образца

- dλ = Изменение длины волны (1 нм)

где:

- Р(λ) = Постоянное пигментационное потемнение

- I(λ) = Спектральное распределение солнечного излучения

- А(λ) = Абсорбция образца

dλ = Изменение длины волны (1 нм)

Расчет фотостабильности по следующим формулам:

Метод оценки in vitro COLIPA UVA и критеческой длины волны:

In vitro COLIPA UVA и критическая длина волны определяются методом, согласно Руководству от марта 2011, разработанному COLIPA (Объединенный комитет Европейских ассоциаций по парфюмерно-косметическому производству).

Пример 1:

Результаты

Пример 2:

Результаты

Пример 3:

Результы

Пример 4:

Изобретение относится к химико-фармацевтической и косметической промышленности и представляет собой фотозащитную композицию, состоящую только из 3 или 4 солнечных фильтров, включающих: один или два УФ-А фильтра с целью достижения критической длины волны >370 нм, выбранных из следующих: 5,6,5',6'-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина, 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]метанона, бутилметоксидибензоилметана (БМДБМ) в количестве меньшем, чем 2 мас.%, по отношению к общей массе указанной композиции, гексил-2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]бензоата; при условии обязательного присутствия 5,6,5',6'-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина. Также в состав композиции входят 2,4-бис[4-(2-этилгексилокси)-2-гидроксифенил]-6-(4-метоксифенил)-1,3,5-триазин (БЭМТ), один или два фильтра, выбранных среди УФ-В фильтров, при условии, что солнечные фильтры не включают октокрилен, парааминобензойную кислоту (ПАБК) и этилгексилметоксициннамат. Изобретение позволяет значительно повысить солнцезащитный фактор SPF, фотостабильность, стабильность по отношению к свету, воздуху, влажности и температуре композиции. 21 з.п. ф-лы, 7 табл., 4 пр.

1. Фотозащитная композиция, содержащая фармацевтически или косметически приемлемый эксципиент и комбинацию солнечных фильтров, состоящую только из 3 или 4 солнечных фильтров, включающих:

- один или два УФ-А фильтра с целью достижения критической длины волны >370 нм, выбранных из следующих:

i. 5,6,5',6'-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина,

ii. 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]метанона,

iii. бутилметоксидибензоилметана (БМДБМ) в количестве меньшем, чем 2 мас.%, по отношению к общей массе указанной композиции,

iv. гексил-2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]бензоата,

при условии обязательного присутствия 5,6,5',6'-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина,

- 2,4-бис[4-(2-этилгексилокси)-2-гидроксифенил]-6-(4-метоксифенил)-1,3,5-триазин (БЭМТ),

- один или два фильтра, выбранных среди УФ-В фильтров, при условии, что солнечные фильтры не включают октокрилен, парааминобензойную кислоту (ПАБК) и этилгексилметоксициннамат.

2. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что количество всех соединений указанной комбинации солнечных фильтров составляет менее 20 мас.%, предпочтительно менее 16 мас.%, даже более предпочтительно менее 14 мас.% по отношению к общей массе композиции.

3. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что содержит только один УФ-А солнечный фильтр.

4. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что содержит два УФ-А солнечных фильтра.

5. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что УФ-А солнечные фильтры представляют собой 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]-метанон и 5,6,5',6'-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазин.

6. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что содержание 5,6,5',6'-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина составляет от 1 мас.% до 5 мас.% по отношению к общей массе композиции.

7. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что содержание 1,1'-(1,4-пиперазиндиил)бис[1-[2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]фенил]-метанона составляет от 1 мас.% до 5 мас.% по отношению к общей массе композиции.

8. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что содержание гексил-2-[4-(диэтиламино)-2-гидроксибензоил]бензоата составляет от 1 мас.% до 10 мас.% по отношению к общей массе композиции, предпочтительно от 1 мас.% до 6 мас.%.

9. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что содержание БЭМТ составляет от 1 мас.% до 4 мас.% по отношению к общей массе композиции.

10. Композиция по п. 1, дополнительно отличающаяся тем, что комбинация 3 или 4 солнечных фильтров содержит один или два УФ-В фильтра при условии, что солнечные фильтры не включают октокрилен, ПАБК и ее производные, химические вещества из семейства циннаматов, включая этилгексилметоксициннамат, гомосалат, химические вещества из семейства бензофенонов и химические вещества из семейства бензилиденкамфоры.

11. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что указанный УФ-В фильтр выбран из следующих соединений:

- диэтилгексилбутамидотриазон,

- этилгексилтриазон,

- трис-бифенилтриазин,

- этилгексилсалицилат,

- фенилбензимидазолсульфоновая кислота и

- TiO₂.

12. Композиция по п. 11, отличающаяся тем, что содержание трис-бифенилтриазина составляет от 3 мас.% до 7 мас.% по отношению к общей массе композиции.

13. Композиция по п. 11, отличающаяся тем, что содержание диэтилгексилбутамидотриазона составляет от 1 мас.% до 5 мас.% по отношению к общей массе композиции.

14. Композиция по п. 11, отличающаяся тем, что содержание этилгексилтриазона составляет от 1 мас.% до 5 мас.% по отношению к общей массе композиции.

15. Композиция по п. 11, отличающаяся тем, что содержание TiO₂ составляет от 1 мас.% до 10 мас.% по отношению к общей массе композиции.

16. Композиция по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что также содержит фильтр широкого спектра МББТ (метилен-бис-бензотриазолтетраметилбутилфенол).

17. Композиция по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что комбинация солнечных фильтров состоит из 5,6,5',6'-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина, БЭМТ и трис-бифенилтриазина.

18. Композиция по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что комбинация солнечных фильтров состоит из 5,6,5',6'-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина, БЭМТ, трис-бифенилтриазина и диэтилгексилбутамидотриазона.

19. Композиция по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что комбинация солнечных фильтров состоит из 5,6,5',6'-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина, БЭМТ, трис-бифенилтриазина и БМДБМ.

20. Композиция по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что комбинация солнечных фильтров состоит из 5,6,5',6'-тетрафенил-3,3'-(1,4-фенилен)-бис[1,2,4]триазина, БЭМТ, МББТ и диэтилгексилбутамидотриазона.

21. Композиция по любому из пп. 1-3, отличающаяся тем, что всего содержит 3 солнечных фильтра.

22. Композиция по любому из пп. 1-5, отличающаяся тем, что всего содержит 4 солнечных фильтра.