Изобретение относится к области нанесения тонких пленок в вакууме и может быть использовано при разработке элементов микроэлектроники и источников энергии на основе твердотельных литий-ионных проводников.
Известен способ осаждения тонких пленок LiPON высокочастотным магнетронным распылением Li3PO4 мишени [2]. Пленки толщиной ~1 мкм наносили со скоростью ~100 нм/ч при давлении азота 20 мТорр. Ионная проводимость пленок, полученных указанным способом, достигала 2,2⋅10-6 (Ом⋅см)-1.
Недостатком способа является низкая скорость осаждения пленки, обусловленная свойствами распыляемой мишени: низкая эффективность ионного распыления материала мишени, неспособность керамической мишени выдерживать термические напряжения при увеличении мощности магнетронного разряда.
Известно применение метода электронно-лучевого испарения Li3PO4 в N2-He-Ar плазме для получения пленок LiPON со скоростью вплоть до 128 нм/мин [3]. Генерацию плазмы высокой плотности обеспечивал разряд с полым катодом, ток которого составлял 60 А. Для переноса потока частиц, испаренных с поверхности Li3PO4 электронным пучком мощностью 10 кВт, дополнительно создавался сверхзвуковой газовый поток в направлении подложек. Ионная проводимость тонких пленок LiPON, осажденных методом [4], не превышала 5⋅10-7 (Ом⋅см)-1, микроструктура пленок была существенно неоднородной. Улучшение микроструктуры пленок достигалось увеличением напряжения смещения образцов вплоть до - 50 В, но сопровождалось существенным снижением скорости роста пленки и ее ионной проводимости.
Метод не получил распространения из-за сложности технической реализации и недостаточной ионной проводимости осаждаемых пленок.
Прототипом изобретения является способ вакуумного ионно-плазменного осаждения тонкой пленки твердого электролита (патент RU №2793941 опубл. 10.04.2023), в котором осаждение пленки осуществляют реактивным анодным испарением Li3PO4 в разряде низкого давления, который зажигают между самонакаливаемым катодом и кольцевым анодом, нагрев тигля осуществляют во вспомогательном разряде с прямонакальным термоэмиссионным катодом, плазма которого отделена экраном от паров Li3PO4. Скорость испарения Li3PO4 регулируют изменением мощности вспомогательного разряда.
Концентрацию азотной плазмы регулируют независимо изменением тока разряда между самонакаливаемым полым катодом, через который напускают азот, и кольцевым анодом, установленными соосно с тиглем, расположенным в области между тиглем и держателем образцов. Осаждение пленки LiPON со скоростью ~0,25 мкм/ч, имеющей ионную проводимость ~2⋅106 (Ом⋅см)-1, достигают при скорости испарения Li3PO4 ~8⋅106 г/(см2⋅⋅c), токах разряда между самонакаливаемым катодом и кольцевым анодом 15-20 А, давлении азота 1-2 Па и плавающем потенциале подложек.
Основной недостаток известного способа заключается в нерегулируемом воздействии потока электронов на пары, приводящем к неконтролируемой степени диссоциации молекул Li3PO4, а высокая концентрация свободного лития в пленке приводит к образованию на подложках вторичных соединений, отличающихся составом от LiPON и формирующих шарообразные включения, ухудшающие микроструктуру покрытий.
Технической задачей предлагаемого изобретения является получение тонких пленок фосфор-оксинитрида лития с испарением ортофосфата лития в условиях контролируемой степени диссоциации паров, определяющей ионную проводимость пленок.
Техническое решение задачи достигается тем, что нагрев тигля и испарение ортофосфата лития проводят с использованием совместно основного разряда в смеси азота и паров ортофосфата лития (Li3PO4), сформированного между размещенным в вакуумной камере полым самонакаливаемым катодом, через который подают азот, и тиглем, и вспомогательного разряда, сформированного между размещенным в вакуумной камере прямонакальным термоэмиссионным катодом и тиглем, причем плазму вспомогательного разряда отделяют от потока пара ортофосфата лития экраном, устанавливают соотношение токов основного и вспомогательного разрядов в диапазоне 0,7-1, затем открывают заслонку, осаждают с постоянной скоростью при давлении азота 1 Па и температуре не более 300°С на поверхность стальных подложек тонкую аморфную пленку фосфор-оксинитрида лития (LiPON) с ионной проводимостью более 1,2⋅10-6 (Ом⋅см)-1.
Реализуется предлагаемый способ на установке, схема которой показана на Фиг. 1. Установка включает вакуумную камеру 1, на верхней крышке которой установлен катодный узел, состоящий из водоохлаждаемого корпуса и полого самонакаливаемого катода 2 из нитрида титана в виде трубки с внутренним диаметром 7 мм. Внутри вакуумной камеры 1 размещен неохлаждаемый графитовый тигель 3 с диаметром полости 8 мм. С внешней стороны тигля 3 размещен прямонакальный термоэмиссионный катод 4, изготовленный из вольфрамовой проволоки. Тигель 3 и прямонакальный термоэмиссионный катод 4 размещают внутри экрана 5 таким образом, чтобы открытым оставалось только выходное отверстие тигля. На расстоянии 2 см от выходного отверстия самонакаливаемого полого катода 2 устанавливают держатель образцов 6, изготовленный в форме диска диаметром 20 см с центральным отверстием 6 см. Через самонакаливаемый полый катод 2 в реакционный объем подают азот со скоростью 150 см /мин. В графитовый тигель 3 загружают порошок Li3PO4 и проводят его нагрев с использованием основного разряда в смеси азота и паров ортофосфата лития (Li3PO4), сформированного между размещенным в вакуумной камере полым самонакаливаемым катодом 2, через который подают азот, и графитовым тиглем 3, и вспомогательного разряда, сформированного между размещенным в вакуумной камере прямонакальным термоэмиссионным катодом 4 и графитовым тиглем 3. При этом плазму вспомогательного разряда отделяют от потока пара ортофосфата лития экраном, устанавливают соотношение токов основного и вспомогательного разрядов в диапазоне 0,7-1. Затем открывают заслонку и осаждают с постоянной скоростью при давлении азота 1 Па и температуре не более 300°С на поверхность предварительно очищенных стальных подложек тонкую аморфную пленку фосфор-оксинитрида лития (LiPON) с ионной проводимостью более 1,2⋅40-6 (Ом⋅см)-1.
Способ нанесения тонкой пленки LiPON осуществляют следующим образом. Металлические подложки, полированные и очищенные в ультразвуковой ванне, устанавливают на держатель 6. В графитовый тигель 3 загружают порошок Li3PO4 (СТП ТУ КОМП 2-307-11) массой 0,5 гр. Вакуумную камеру 1 откачивают до давления 103 Па, устанавливают давление аргона 0,26 Па, прикладывают напряжение и зажигают разряд между самонакаливаемым полым катодом 2 и секционированным анодом 7. Затем увеличивают ток разряда до 10 А, задают потенциал держателя образцов -500 В и проводят очистку поверхности образцов ионным распылением в течение 10 мин. Одновременно разогревают прямонакальный термоэмисионный катод 4 пропусканием тока накала катода. Задают мощность нагрева тигля 360 Вт, устанавливая ток эмиссии прямонакального термоэмисионного катода 6 А, при напряжении горения вспомогательного разряда 60 В. После выхода графитового тигля 3 на рабочий режим отключают напряжение смещения образцов, устанавливают давление азота 1 Па, убирают подачу аргона, снижают ток вспомогательного разряда до 4 А, устанавливают ток основного разряда на тигель до 2 А и открывают заслонку 8, установленную между держателем образцов 6 и графитовым тиглем 3, и проводят нанесение LiPON покрытия со скоростью ~0,5 мкм/ч в течение 2 ч. После нанесения покрытия образцы остывают в вакууме в течение 30 мин, затем извлекаются из вакуумной камеры 1.
Зависимость ионной проводимости пленок от соотношения токов основного (IП) и вспомогательного разрядов (Iо) представлена на фигуре 2.
Результаты импедансной спектроскопии представленные на фигуре 3 свидетельствуют о формировании аморфной пленки твердого электролита с ионной проводимостью более ~1,2⋅10-6 (Ом⋅см)-1.
Источники информации
1. X. Yu, J.B. Bates, G.E. Jellison Jr, F.X. Hart, J. Electrochem. Soc. 144 (1997) 524-532.
2. J.B. Bates, N.J. Dudney, G.R. Gruzalski, R.A. Zuhr, A. Choudhury, C. F. Luck, J. D. Robertson. Journal of Power Sources, 43-44 (1993) 103-110.
3. Y.G. Kim, H.N.G. Wadley. Journal of Power Sources 187 (2009) 591-598.
4. Y.G. Kim, H.N.G. Wadley. Journal of Power Sources 187 (2009) 591-598.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Способ вакуумно-плазменного осаждения тонкой пленки из оксинитрида фосфора лития | 2022 |
|
RU2793941C1 |
Способ вакуумного ионно-плазменного осаждения тонкой пленки твердого электролита | 2021 |
|
RU2765563C1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ ИЗ АМОРФНОГО ОКСИДА АЛЮМИНИЯ РЕАКТИВНЫМ ИСПАРЕНИЕМ АЛЮМИНИЯ В РАЗРЯДЕ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ | 2016 |
|
RU2653399C2 |
Способ вакуумного ионно-плазменного низкотемпературного осаждения нанокристаллического покрытия из оксида алюминия | 2018 |
|
RU2676720C1 |
ПЛЁНКА ДВУМЕРНО УПОРЯДОЧЕННОГО ЛИНЕЙНО-ЦЕПОЧЕЧНОГО УГЛЕРОДА И СПОСОБ ЕЁ ПОЛУЧЕНИЯ | 2013 |
|
RU2564288C2 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ САМОНАКАЛИВАЕМОГО ПОЛОГО КАТОДА ИЗ НИТРИДА ТИТАНА ДЛЯ СИСТЕМ ГЕНЕРАЦИИ ПЛАЗМЫ | 2015 |
|
RU2619591C1 |
Способ низкотемпературного нанесения нанокристаллического покрытия из альфа-оксида алюминия | 2018 |
|
RU2676719C1 |
СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ ПЛЕНОК ГИДРОГЕНИЗИРОВАННОГО КРЕМНИЯ | 1994 |
|
RU2100477C1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МЕТАЛЛСОДЕРЖАЩЕГО УГЛЕРОДНОГО НАНОМАТЕРИАЛА | 2012 |
|
RU2499850C1 |
СПОСОБ ОТКАЧКИ ГАЗОВОЙ СРЕДЫ ИЗ ВАКУУМНОЙ КАМЕРЫ И ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ ОТКАЧНАЯ СИСТЕМА | 2024 |
|
RU2829157C1 |
Изобретение относится к способу вакуумного ионно-плазменного осаждения тонкой аморфной пленки из фосфор-оксинитрида лития (LiPON) на поверхность стальных подложек. Проводят очистку подложек ионным распылением, нагрев тигля с размещенным в нем ортофосфатом лития (Li3PO4) и испарение ортофосфата лития (Li3PO4). Упомянутые нагрев тигля и испарение ортофосфата лития проводят с использованием совместно основного разряда в смеси азота и паров ортофосфата лития (Li3PO4), сформированного между размещенным в вакуумной камере полым самонакаливаемым катодом, через который подают азот, и тиглем, и вспомогательного разряда, сформированного между размещенным в вакуумной камере прямонакальным термоэмиссионным катодом и тиглем. Плазму вспомогательного разряда отделяют от потока пара ортофосфата лития экраном. Устанавливают соотношение токов основного и вспомогательного разрядов в диапазоне 0,7-1. Открывают заслонку. Осаждают с постоянной скоростью при давлении азота 1 Па и температуре не более 300°С на поверхность стальных подложек тонкую аморфную пленку фосфор-оксинитрида лития (LiPON) с ионной проводимостью более 1,2⋅10-6 (Ом⋅см)-1. Обеспечивается получение тонких пленок фосфор-оксинитрида лития с испарением ортофосфата лития в условиях контролируемой степени диссоциации паров, определяющей ионную проводимость пленок. 3 ил.
Способ вакуумного ионно-плазменного осаждения тонкой аморфной пленки из фосфор-оксинитрида лития (LiPON) на поверхность стальных подложек, включающий очистку подложек ионным распылением, нагрев тигля с размещенным в нем ортофосфатом лития (Li3PO4) и испарение ортофосфата лития (Li3PO4), отличающийся тем, что упомянутые нагрев тигля и испарение ортофосфата лития проводят с использованием совместно основного разряда в смеси азота и паров ортофосфата лития (Li3PO4), сформированного между размещенным в вакуумной камере полым самонакаливаемым катодом, через который подают азот, и тиглем, и вспомогательного разряда, сформированного между размещенным в вакуумной камере прямонакальным термоэмиссионным катодом и тиглем, причем плазму вспомогательного разряда отделяют от потока пара ортофосфата лития экраном, устанавливают соотношение токов основного и вспомогательного разрядов в диапазоне 0,7-1, открывают заслонку, осаждают с постоянной скоростью при давлении азота 1 Па и температуре не более 300°С на поверхность стальных подложек тонкую аморфную пленку фосфор-оксинитрида лития (LiPON) с ионной проводимостью более 1,2⋅10-6 (Ом⋅см)-1.
Способ вакуумно-плазменного осаждения тонкой пленки из оксинитрида фосфора лития | 2022 |
|
RU2793941C1 |
Способ вакуумного ионно-плазменного осаждения тонкой пленки твердого электролита | 2021 |
|
RU2765563C1 |
US 5747118 A1, 05.05.1998 | |||
СПОСОБ СОЗДАНИЯ МИКРОКЛИМАТА В ПТИЧНИКАХ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2003 |
|
RU2239995C1 |
US 9455437 B2, 27.09.2016. |
Авторы
Даты
2024-12-09—Публикация
2023-12-22—Подача