Устройство для нанесения гальванического покрытия Российский патент 2025 года по МПК C25D17/12 C25D19/00 C25D5/04 C25D21/12 

Изобретение относится к области гальванотехники и может быть использовано для улучшения равномерности гальванических покрытий в процессе их нанесения.

Известны устройства для нанесения гальванического покрытия, в которых используется несколько анодов в виде изолированных одна от другой секций - мозаичный анод (патент SU 1463810 A1 (КОШЕВОЙ Н.Д.), 1989.03.07, весь документ; СОЛОВЬЕВА И.А., СОЛОВЬЕВ Д.С. Реализация многоанодной системы для управления равномерностью гальванического покрытия В: «Радиоэлектроника. Проблемы и перспективы развития» Пятая Всерос. молодежная науч. конф. Под редакцией Тамбов: Издательский центр ФГБОУ ВО «ТГТУ», 2020 г. с. 97 - 98). Эти устройства подключены к отдельным источникам питания, позволяющие задавать разные значения силы тока на различных анодах, корректируя таким образом плотность тока, а следовательно, и толщину покрытия на поверхности катода.

Недостатками известных технических решений являются сложность и дороговизна системы управления источниками питания. Кроме того, все аноды расположены в одной плоскости, в то время как их расположение в пространстве ванны существенно влияет на равномерность покрытия.

Наиболее близким устройством (прототипом) того же назначения к заявленному устройству по совокупности признаков является устройство, которое содержит несколько анодов, подключенных к одному выпрямительному агрегату (ЛИТОВКА Ю.В., ТАРУРАЕВ В.А. Оптимизация нальванической ванны с подвижныма анодами. Известия тульского государственного университета. Серия "Вычислительная техника. Автоматика. Управление". 1997, том 1. вып.2. с. 41-48). Для каждого анода можно менять их углы поворота относительно вертикальных осей, проходящих через центры анодов, то есть рассчитывать положение анодных секций для получения равномерного гальванического покрытия. Причиной, препятствующей достижению указанного ниже технического результата, при использовании прототипа, является отсутствие информации об устройстве, позволяющем располагать аноды в пространстве ванны в разных плоскостях.

Техническим результатом является улучшение равномерности гальванических покрытий путем локального регулирования толщины покрытия на отдельных участках покрываемого изделия.

Устройство для нанесения гальванического покрытия содержит источник питания, гальваническую ванну, катод и пластины-аноды, неподвижную токонепроводящую пластину, на которой закреплены пластины-аноды посредством подключенных к источнику питания болтов с резьбой, и выполнено с возможностью регулирования расстояния от неподвижной токонепроводящей пластины до каждой пластины-анода и выведения пластин-анодов из расположения в одной плоскости путем закручивания/откручивания резьбы на болтах со стороны токонепроводящей пластины для перемещения пластин-анодов вдоль вертикальных осей, проходящих через их центр ближе/дальше по отношению к покрываемому катоду, при этом с другой стороны болты неподвижно закреплены с пластинами-анодами. Форму, размер, количество и расположение пластин-анодов возможно изменять в зависимости от конфигурации покрываемой детали.

Технический результат достигается за счет того, что рассчитывается перемещение пластин-анодов вдоль вертикальных осей, проходящих через их центр, в зависимости от формы покрываемого изделия, что позволяет подвинуть анод ближе к дальней части катода и обеспечить ему такую же толщину покрытия, как и на других его частях.

На фиг.1 представлены чертежи конструкции анода в разных проекциях. На фиг.2 представлен вид конструкции снизу.

Устройство для нанесения гальванических покрытий, содержит токонепроводящую пластину 1, на которую крепятся пластины аноды 4 посредством болтов с резьбой 3, подключенных к источнику питания 2.

Заявляемое устройство работает следующим образом.

Пластины-аноды 4, закрепленные болтами с резьбой 3 на токонепроводящей пластине 1, подключенные к источнику питания 2, изначально находятся в одной плоскости. В зависимости от формы поверхности покрываемого изделия (катода) рассчитывается оптимальное положение пластин-анодов 4 в гальванической ванне. Путем откручивания/закручивания резьбы на болтах 3 пластины-аноды 4 перемещаются вдоль вертикальных осей, проходящих через их центр ближе/дальше по отношению к покрываемому изделию.

Изобретение относится к области гальванотехники. Устройство для нанесения гальванического покрытия содержит источник питания, гальваническую ванну, катод, пластины-аноды, неподвижную токонепроводящую пластину. На упомянутой пластине закреплены пластины-аноды посредством подключенных к источнику питания болтов с резьбой. Устройство выполнено с возможностью регулирования расстояния от неподвижной токонепроводящей пластины до каждой пластины-анода и выведения пластин-анодов из расположения в одной плоскости путем закручивания/откручивания резьбы на болтах со стороны токонепроводящей пластины для перемещения пластин-анодов вдоль вертикальных осей, проходящих через их центр ближе/дальше по отношению к покрываемому катоду, при этом с другой стороны болты неподвижно закреплены с пластинами-анодами. Обеспечивается улучшение равномерности гальванических покрытий в процессе их нанесения путем локального регулирования толщины покрытия на отдельных участках покрываемого изделия. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.

1. Устройство для нанесения гальванического покрытия, содержащее источник питания, гальваническую ванну, катод и пластины-аноды, отличающееся тем, что оно содержит неподвижную токонепроводящую пластину, на которой закреплены пластины-аноды посредством подключенных к источнику питания болтов с резьбой, и выполнено с возможностью регулирования расстояния от неподвижной токонепроводящей пластины до каждой пластины-анода и выведения пластин-анодов из расположения в одной плоскости путем закручивания/откручивания резьбы на болтах со стороны токонепроводящей пластины для перемещения пластин-анодов вдоль вертикальных осей, проходящих через их центр ближе/дальше по отношению к покрываемому катоду, при этом с другой стороны болты неподвижно закреплены с пластинами-анодами.

2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что оно выполнено с возможностью изменения формы, размера, количества и расположения пластин-анодов в зависимости от конфигурации покрываемого катода.