Способ определения толщин многослойных покрытий Советский патент 1956 года по МПК G01B11/06 G01J3/36 

Предлагаемый способ спектрального опрцдслския тсгпцины слоев многослопних TioKpHTiiiJ на изделиях имеет ццлгло повысить точность я объективность определения толщины покрытий по сравнению с ранее кзрзостными спектральныип способамп.

Способ основан на испольчования зависимости относительной интенсивности пары сиектральных (из которых одна является линией элемента покрытия, а другая в зависимости от 1)асположения слоя - верхний, средний или нижний- линией элс-мента основы или верхнего подставного электрода) от толщины .слоя. Определение толнцшы каждого слоя производится при помощи постоянных градуиривочных кривых, которые строятся заранее но снециально изготовленным для этого эталонам (ио 3-4 эталона для каждого слоя), путем измерения времени, нроте1;ающего от момента зажигания разряда до того момента, когда наступает равенство и ггенсивностей рассматриваемой пары линий. При этом равенство интенсивностей может устанавливаться при понощя микрофотометра.

Последовательное возбуждение спектра слоев покрытия производится дугги.ым или искровым разрядом НРПОЛЬШОЙ мощности (сила тОла, до 1,5 а). Порча поверхности образца онределении незначительна- диаметр пораукаемого участьа состаиляет 2-3 ми.

Определение толщины кроюица слоев предложенному способу MO;V;HO удобно сочетать с определением пх химического состава. Для этого будет пригодна обычиая аппаратура, применяемая для спектрального анализа.

Предмет изобретен и я

Способ определенпя толщин мнoгocлoiiных иок1)ытий на изделиях посредством спектроскопа, о т л п ч а ю щ и и с я тем, что, с целью повьтпшния точности и объективности определения толщины слоев покрытия, производят последовательное возбуждение спектра кpoюп иx слоев, сравипвают интенсивность снектральной линии элемента требуемого слоя с интенсивностью сиектральной линни основы или подслоя п по градуировочноп кривой определяют толщину слоя покрытия.