Фотополимеризующийся состав для получения покрытий Советский патент 1985 года по МПК G03C1/68 

Изобретение относится к получению фотополимеризующегося состава, используемого для получения покрытий.

Целью изобретения является ускорение процесса отверждения и повышения стойкости к царапанию полученного покрытия, .

Пример 1, о). Получение пленкообразующего компонента,

Из 2157 г ангидрида м еиновой кислоты, 451 г пропнленгликоля, 1441 г дизтиленглик.рля, 941,3 г простого диаллилового зфира триметилолпропана и 428,3 г простого монобутилового эфира диэтиленг лик ОЛЯ путем конденсации в расплаве получают сложный полиэфир с кислотным числом 15-20.Получаемый сложный полиэфир разбавляют стиролом до 70 мае,%-ного раствора.

В). Фотополимеризующийся состав,

Отверждаемый под взаимодействием лучей лак, состоящий из 100 мае,ч. указанного связующего и 2,5 мае.ч, фотоинициатора (ФИ), наносят в виде пленки толщиной 50 мкм или 250 мкм на стеклянную плиту и сразу отверждают ультрафиолетовыми лучами при скорости транспортера 5 м/мин.

Пример 2, Светоотверждаемый лак, состоящий из 73 мае,ч, ароматического уретанакрилата (Uvitane 783, Thiokol Corp, СИЛА), 17 мае,ч, К-винилпирролидона и 10 мае,ч, бутандиол-1,4-диакрилата емешивают е указанными в табл,1 количеетвами фотоинициатора и наноеят на етеклянную плиту. Толщина слоя лаковой пленки поеле отверждения еоетавляет окол 40 мкм.

Применяют еледующие фотоинициаторы.

Предлагаемый ФИ 1: 2-бензоил-2-фенил-4,7-дигидро-1,3-диокеепин,

Извеетный ФИ 2: 2-бензоил-2-фенил-1,3-диокеолан.

Облучение оеущеетвляют в еоответетвующем приборе (РРС), енабженном лампоймощноетью 80 Вт/ем, При этом проба е различными екороетями проходит под лампой. Самая выеокая скороеть, при которой доетигают еще дотаточного отверждения пленки за один прогон до прочности на стираниеj йоответетвует макеимальная екороеть и является критерием реактивноети фотоотвердителя,

Твердость лаков, отвержденньк при макеимальной скорости, определяют

по маятниковому прибору по Кеиигу (дин 53157, причем указанная твердость является критерием отверждения пленки. Результаты приведены в табл,1,

Таблица

Пример 3, Светоотверждаемый лак, состоящий из 50 ч, ароматического уретанакрилата ( Ebecryl 204 фирма ИСВ, Бельгия), 20 ч ароматичеекого эпокеиакрилата на оенове бие-

фенола А (ХД 4047, Ciba Geigy АО), 19ч бутандиол-,4-диакрилата и 11 ч К-винилпирролидона смепшвают е указанным в табл.2 фотоинициатором, наносят на стеклянные плиты, как опиеано в примере 2, и отверждают в приборе для облучения (РРС), Толщина елоя отвержденной пленки лака составляет около 40 мкм. Твердость по маятниковому прибору отвержденньк

таким образом лаков измеряют по ДИН 53157,

Таблица 2

1

2 3,5

133

2 10 141

Пример А. Светоотверждаемый лак, состоящий из 60 мае.ч. ненасьщенной полиэфирной смолы (Cryctic РКЕ фирма Maeder, Швейцария), и 40 мае.ч. стирола, смешивают с указанными в табл.3 количествами фотоинициатора и наносят в виде пленки толщиной около I00 мкм на стеклйн- ные плиты It Пробы облучаются в приборе (РРС/ со скоростью прохождения проб 20 м/мин. Пробу пропускают через прибор для облучения столько раз, пока поверхность лака не станет прочной на стирание. Требуемое при этом количество проходов является критерием активности инициатора. Количество проходов и твердость отвержденных таким образом лаков по маятниковому прибору приведены в табл.3.

ФИ 1

ФИ 2

Таким образом, предлагаемый фотополимеризующийся состав, используемый для получения покрытий, позволяет ускорить процесс отверждения и повысить стойкость к царапанию полученного покрытия.

ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩИЙСЯ СОСТАВ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ, включающий фотоинициатор и пленкообразующий компонент с ненасьщенными этиленовыми связями, отличающийся тем, что, с целью ускорения процесса отверждения и повышения стойкости к царапанию полученного покрытия, в качестве фотоинициатора он содержит 2-бензош1-2-фенил-4,7-дигидро-1,3-диоксепин формулы при следующем соотношении компонентов, мае.ч.: Ф Пленкообразующий 100 компонент Фотоинициатор указанной формулы 1,0-5