Изобретение относится к измерительной технике, в частности к способам измерения ширины линий рисунка на объектах, содержащих прозрачные и непрозрачные зоны, например, нафотошаблонах для литографии.
Цель изобретения - измерение ш лрины линий субмикронного диапазона за счет использования поляризованного излучения.
На чертеже изображен примор выбора участков для на фотошаблоне.
Осуществляется -описываемый способ следующим образом.
Объектом с прозрачными и непрозрачными зонами может быть, например, фотошаблон для литографии, состоящий из кварцваой подложки с тонким 0.1 хромовым покрутием.
Измерения могут быть проведены с использованием микроскопа фотометра МРУСД фирмы Leta, оптического излучения с длиной волны 0,546 мкм .(зеленая линия). лине$1НО поляризованного так, что вектор магнитной напряженности излучения параллелен измеряемым линиям фотошабло на, лежащего на столике микроскопа. Прошедшее излучение собирают объекти- , вом микроскопа. Измеряют мнтеисивности излучений, прошедших через.три одинако- аы по размерам прямоугольных участка объекта. Один участок 1 выбирают на непрозрачной зоне объекта, другой 2 - на прозрачной, а третий 3 включает часть
измеряемой nrtHMvs с частью зоны объекта, контактирующей с этой частью линии и противоположной ей по свойствам пропускания излучения. Причем одна пара сторон третьего участка параллельна части линии зтом участке, другая пара пересекает ее, а ширину линии определяют по формуле:
1-1. d -b (для прозрачной линии);
с 1м 1 j
d -г --- b (для непрозрачной линии),
1с - 1м
где d - ширина измеряемой линии;
1с - интенсивность излучения, прошедшего через участок на прозрачной зоне объекта;
1м интенсивность излучения, прошедшего через участок ив непрозрачной зоне обьекга;
Ь - интенсивность излучения, прошедшего через участок, содержащий часть измеряемой линии;
b - длина стороны участка, перпендикулярной и неряемой линии.
5
(56) W.i-loch Das Eiektroiienstrahl-koistroll- mep-und-belichbungs-gerdt ZRH-12- Jena Rundschau, 1577, 4, p. 159-167.
S.Jensen. D, Smyt sub-micrometer length metrology; problems, techniques and sotutions - In scanning Electron microscopy, Chicago. 1980, p. 396--397.
0
5
0
Формула изобретения35
Способ измерения ширины линий рисунка на оОьек-тах с прозрачными и непрозрачными зонами, например на фотошаблонах для Л1 5тографии, заключающийся в том, что освещают оОьек1 пучхйм электромагнитного ijo монохроматического излучения, измеряют ittiTeHCMOHOCTb излучения, прошедшего через объект, и определяют ширину линий, о т- л м ч а о щ и и с я тем, что, с цел ью измерения ширины линий субмикронного диапазона, 45 осуществляют освещение объекта линейно поляризованным излучением таким, ч го вектор магнитной напряженности излучения параллелен границам измеряемой линии, выбирают три одинаковых по размерам пря- 50 моугольных участка объекта; один на непрозрачной зона объекта, другой на прозрачной, а третий включает часть измеряемой линии с честью зон ы объекта, контактирующей с дтой частью линии, одна пара 55
и
сторон третьего участка параллельна линии, а другая пара пересекает ео, измеряют интенсивность излучений, прошедших через три участка, а ширину линий определяют по формуле
- .
b (для презренной линии),
- b (для непрозрачной линии), м
где d - ширина измеряемой линии;
ic интенсивность излучения, прошедшего через участок на прозрачной зоне объекта;
1м - интенсивность из/гучения, прошедшего через участок на непрозрачной зоне объекта;
з - интенсивность излучения, прошедшего через участок, содержащий часть измеряемой линии;
b -длина стороны участка, перпендикулярной измеряемой линии.
| название | год | авторы | номер документа |
|---|---|---|---|
| Способ измерения ширины линий рисунка на объектах с прозрачными и непрозрачными зонами | 1986 |
|
SU1402026A1 |
| Способ контроля качества проработки линий | 1986 |
|
SU1442013A1 |
| Способ измерения ширины линий рисунка на объектах, содержащих прозрачные и непрозрачные зоны | 1987 |
|
SU1461125A1 |
| УСТРОЙСТВО ЭКСПОНИРОВАНИЯ ПРИ ФОРМИРОВАНИИ НАНОРАЗМЕРНЫХ СТРУКТУР И СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОРАЗМЕРНЫХ СТРУКТУР | 2010 |
|
RU2438153C1 |
| СПОСОБ И СИСТЕМА ДЛЯ ПРЕЦИЗИОННОЙ АДДИТИВНОЙ ПЕЧАТИ ТРЕХМЕРНЫХ СТРУКТУР (ВАРИАНТЫ) | 2021 |
|
RU2796486C1 |
| СПОСОБ И СИСТЕМА ДЛЯ ПРЕЦЕЗИОННОЙ АДДИТИВНОЙ ПЕЧАТИ ТРЕХМЕРНЫХ СТРУКТУР | 2022 |
|
RU2804779C1 |
| ФОРМИРОВАНИЕ МЕТКИ НА ДРАГОЦЕННОМ КАМНЕ ИЛИ ПРОМЫШЛЕННОМ АЛМАЗЕ | 2002 |
|
RU2285619C2 |
| Способ изготовления шаблона | 1988 |
|
SU1788532A1 |
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ МАЛОУГЛОВОЙ ТОПОГРАФИИ (ВАРИАНТЫ) | 1997 |
|
RU2119659C1 |
| СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ШТАМПА ДЛЯ НАНОИМПРИНТ ЛИТОГРАФИИ | 2011 |
|
RU2476917C1 |
Изобретение относится к и.5мерительной технике, в частности к способам измерения ширины линий рисунка на объектах, содержащих прозрач- ныг ,и непрозрачные зоны, например на фотошгб- гюнзх для литографии. Цель изобретени; - изгие- рение ширины линий с. бмикронного диапазона за C4ST испзльзозания поляризованного излучения. Объект освещают линейно гюляри.зованным монох- ромзтичным электрог агяитнын из.пу ченисм, тажм, что вектор магнитной напряженности параллелен гоаницз измеряемой лини1-, проводят измерения интенсивной линии, проводят измерения интенсив- .иостей излучений, пpOLueдшиx через три одинако2 вых прямоу| опьных участка 1. 2, 3, причем один из них (1) на.ходится на прозрачной зоне объекта-другой (2) на .непрозрачной, а третий (3) включает часть измеряемой .пинии с частью зоны объекта, прилегающей к этому участку линии и противоположиой ей по свойствам пропускания излучения, содержащаяся на третьем участке часть линии должна быть параллельна одной паре противоположных сторон участка и пересекать другую. Ширину -пинии опредегьчют по формуле -1 (для непрозрачной линии); d--l -I / -f (для прозрачной линии), где d - ширина из iepяeмoй гафнии; i - интес сиеность излучения, прошедшего через прозрачный часток; i - интеьтавность изп чения, прошедшего через непрозрачный участок; I - интенсизнссть из- . прошедшего через участок, содержащий часть измеряемой линии; В - длина стороны учаака, перпендикулярного измеряемой линии. 1 ил. Ш B fff03/X VНОЯ fefiO /ffryxntfyufoKf SeffC IK e Ы 4 0© e© h-A 
