Способ изготовления подложек для электрофотографического носителя Советский патент 1988 года по МПК G03G5/00 

ОС

ч ее

о:

11

Изобретение относится к электрофотографии и может быть использовано при изготовлении промежуточных носителей изображений: электрофотографических цилиндров и пластин.

Цель изобретения - повышение качества подложки путем обеспечения химически ЧИСТО ее поверхности.

Сущность изобретения заключается в том, что жидкостные процессы, ох- лаж;;ение резца при механической обработке эмульсиями полностью исключаются при конечной операции механической обработки подложки до 8-9 класса чистоты. Охлаждение резца производится парами спирта при алмазном точении, чистовая конечная обработка подложки цроизводится шлифован ием, при этом обеспечивается отсутствие органических включений на поверхности подложек. Подложку разметпают в вакуумной камере и подвергают вакуумному напылению слоем цинка толпшной 5-10 мкм при относительно невысокой температуре 360-400 С.

Применение технологических операций механической обработки поверхности подложки способами, исключающими наличие на ее поверхности органических соединений, и последующее напыление поверхности подложки цинком в вакууме позволяют получить подложку с химически чистой поверхностью, обеспечивающей качественное напыление светочувствительного слоя: одно

0

5

0

5

0

5

родность, прочность, адгезию, равномерность зарядки.

Пример. Подложку для цилиндра СЭЦ-300 обрабатывают шлифованием до 8-9 класса иcтoты без применения охлаждающих эмульсий и после минимального промежутка времени - не более 10 мин разметают в вакуумной камере. Вакуумную камеру с навеской цинка в испарителе герметизируют, затем набирают вакуум до 10 мм рт.ст., а температуру испарителей доводят до 360-4ПО°С. Продолжительность ВЕЛ- держки подложки 8-10 мин. Яатем отключают испарители и вакуумную камеру от откачной системы, натеканием воздуха сбрасывают вакуум до атмосферного давления, вакуумную камеру открывают и полученную подложку направляют на участок напыления светочувствительным слоем.

Формула изобретения

Способ изготовления подложек для электрофотографического носителя, включающий механическую обработку поверхности подложки, отличающийся тем, что, с целью упрощения технологии изготовления и повышения качества подложки путем уменьшения высоты микронеровностей на поверхности подложки, осушестнляют безжидкостную механическую обработку с последующим нап1 1лением слоя цинка на подложку.

Изобретение относится к способу изготовления подложек для электрофотографического носителя и позволяет повысить качество подложки путем обеспечения химически чистой ее поверхности. Безжидкостную механическую обработку подложки проводят до 8-9 класса чистоты. Резец охлаждают парами спирта пртт алмазном точении. Чистовую конечную подложки осуществляют шлифованием ее поверхности. Подложку размещают в вакуумной камере и подвергают вакуумному напылению слоем цинка толщиной 5-10 мкм при 360-400°С, S С/ с