Установка для химического нанесения покрытий Советский патент 1988 года по МПК C23C18/32 

(Л

li

N3 СД Ю СЛ

Изобретение относится к приГчзрострое- яию и микроэлектронике и может быть использовано при нанесении локальных покрытий, например, в технологических процессах полупроводниковой микроэлектроники.

Целью изобретения является селективное нанесение покрытия.

На фиг. 1 изображена схема установки для химического нанесения покрытий; на с&иг. 2 - фотография фигурного электрода в форме креста.

Установка содержит ванну 1, в которой Помеидается электролит 2, например, содер- )Каш.ий оптимальные концентрации соли свинца, тиомочевины и 1целочного агента, йодложкодержатель 3, фигур ;ые электро ды 4 и 5, выполненные в форме креста, треугольника и имеюпц е геометрические |)азмеры меньше геометрических размеров подложки. Электроды расположены зеркаль- Йо симметрично один относительно другого. Причем электрод 4 расположен под дном ванны 1 параллельно плоскости подложко- держателя 3, а электрод 5 - в ванне 1 над подложкодержателем 3. Электроды 4 и 5 1юдключаются к регулируемому источнику 6 Достоянного напряжения. Температура электролита поддерживается на оптималь- :ном уровне с помощью нагревательного устройства 7.

Установка работает следующим образом.

Перед заполнением ванны электролитом 2, например, содержащим оптимальные Концентрации соди свинца, тиомочевинь;, (.целочного агента, на подложкодержатель 3. Помещают нодложку, например, из ситал

10

(Ь

20

25

30

ла. ( помощью нагревательного устройства 7 электролит 2 нагревают до температуры, при которой начинается процесс осаждения сульфида свинца на подложке. На электроды 4 и 5 подается напряжение от источника 6 постоянного напряжения (Гмм(Ь 25 кВ). После осаждения iia подложку слоя сульфида свинца определенной толщины постоянное напряжение с электродов 4 и 5 снимают, нагревательное устройство 7 отключают, электрод 5 извлекают из электролита 2, электролит сливают, нодложку с осажденным слоем в форме креста или треугольника извлекают. Использование изобретения позволяет получать покрытие нужного, сколь угодного сложного, рисунка в процессе его нанесения без применения дополнительных доро- гостояндих устройств.

Формула изобретения

Установка для химического нанесения покрытий, содержап1,ая ванну для электролита из диэлектрического материала, подложкодержатель, нагревательное устройство, плоские электроды, соединенные с источником постоянного напряжения, один из которых расположен под дном ванны в плоскости, параллельной плоскости подлож- кодержателя, а другой расположен в ванне над подложкодержателем и в плоскости, ему параллельной, отличающаяся тем, что, с целью селективного нанесения покрытий, форма каждого электрода соответствует рисунку покрытия, а электроды расположены зеркально симметрично относительно плоскости подложкодержателя.

Изобретение относится к области приборостроения и микроэлектроники и может быть использовано для нанесения покрытий путем химического осаждения из раствора. С целью получения селективного покрытия в процессе его осаждения на подложку в осадительную ванну 1 с электролитом 2 помещают электрод 5, имеющий форму, соответствующую рисунку покрытия, параллельно подложкодержателю 3. Электрод 4, имеющий ту же форму, что и первый, располагают зеркально симметрично под дном ванны. При подаче напряжения от источника постоянного напряжения 6 в подогретом электролите проходит реакция осаждения покрытия на подложку, рисунок которого соответствует форме электрода. 2 ил.