Устройство для дозирования парогазовой смеси Советский патент 1989 года по МПК G01F11/00 

1

Изобретение относится к технике дозирования парогазовых смесей и может быть использовано в полупроводниковой и микроэлектронной технологии.

Цель изобретения - повышение точности дозирования.

На чертеже схематически изображе- но предлагаемое устройство.

Устройство для дозирования парогазовой смеси содержит герметичный сосуд 1 для жидкости с патрубком 2 подачи газа и закрепленной внутри него с зазорами вертикальной трубой 3, снабженной нагревателем 4, патрубком

5отвода парогазовой смеси, выполненным из теплоизоляционного материала

6температуры, причем патрубок:;подачи газа выполнен в виде дискового барботера с перфорированной верхней частью диска 7, в дне сосуда выполнено углубление 8.

(Л

с

Устройство работает следующим образом.

При отсутствии подачи газа в патрубок 2 подачи газа жвдкость (SiCl), заполняющая часть объема сосуда 1 и патрубка 5 отвода парогазовой смеси, принимает температуру окружающей среды. Датчик 6 температуры выдает электрический сигнал о действительной температуре SiCl4, например 20°с , нагреватель 4 в это время отключен. Газ (Н) подаваемый в патрубок 2, выходит через перфорированную верхнюю часть диска 7 в виде ряда пузырьков, которые проходят через слой жидкости, насыщаясь парами SiCl4, и выходят в виде парогазовой смеси через патрубок 5. Расход SiCl в патрубке 5 Отвода парогазовой смеси компенсируется жидкостью, поступающей из сосуда 1 через зазор между углублением 8 и

а ел

патрубком 5 при вьфавнивании давления в двух полостях. При этом уровень жидкости изменяется незначит ельно, ;а высота столба жвдкости, через которую барботирует газ, в основном определяется высотой углубления 8,

За счет испарения жидкости (SiCl) внутри трубы 3 и затрачиваемой при этом теплоты парообразования, температура жидкости здесь понижается со скоростью около 0,5°С/мин (при расходе газа порядка 200 л/мин и объеме жидкости в патрубке около 0,5 л), достигая заданной, например 18 С, за 3-4 мин. В момент достижения заданной температуры по сигналу от датчика 6 .температуры включается нагреватель 4. Падение температуры в

объеме жидкости, заключенной в трубе 3 замедляется, а затем, нагреваясь, она вновь достигает заданной и нагреватель 4 отключается по сигналу от датчика 6 температуры. Простая система двухпозиционного регулирования с нагревателем в виде инфракрасной лампы (100 Вт, 12 В), обладающей минимальной инертностью, позволяет получить хорошую стабилизацию температуры Sipl (+0,) на уровне +18 С внутри трубы 3 при температуре SiCl в сосуде 1 на уровне +20°С.

Выполнение дна сосуда 1 с углублением 8 позволяет свести к минимуму остаточный объем жидкости, в котором накапливаются неконтролируемые микропримеси, влияющие на технологические

процессы..

-