Изобретение относятся к измерительной технике, предназначено для контроля пористости диэлектрических покрытий и может быть использовано в электронной и других отраслях промышленности .
Целью изобретения является повышение достоверности за счет обеспечения избирательного контроля размера пор максимального диаметра, /
На чертеже приведена полная эквивалентная схема системы электролит - пористый диэлектрик - полупроводник электронной проводимости.
На чертеже обозначено: Rv - сопротивление внешней цепи; Q - сопротивле- ние стадии разряда; Rg диффузионное сопротивление; RЈ - туннельное сопротивление пленки диэлектрика на дне
ЈЛ
поры;
С „ - емкость двойного слоя АИ
электролита на дне поры; С fi6 - емкость двойного слоя электролита на границе с беспористым диэлектриком; Rp- добавочное сопротивление диэлект рика на дне поры, обусловленное хвостом плотности локализованных состояний; К - ключ, включающий сопротивление К„; С - емкость беспористого
С л емкость диэлектри
диэлектрика; на дне поры.
Так как площадь поры S намного меньше площади электролитического контакта, то можно записать
Л
-Ав сдв;
С « С; С «СД5.
(О (2) (3)
После включения катодного смещения происходит накопление ионов водорода на границе раздела диэлектрик - электролит и вызванный этим изгиб зон полупроводника электронной проводимости вниз до тех пор, пока зона проводимости полупроводника не совместится с хвое- том плотности локализованных состояний диэлектрика, чему соответствует замыкание ключа К. В результате воз- росшей проводимости в электролит дополнительно инжектируется заряд g электроны нейтрализуют положительный заряд ионов водорода в двойнослойной области и, как следствие, потенциал электрода смещается относительно исходного значения на величину 3U
(41
«4U - jg/C
«,
Зоны диэлектрика изгинаются вверх и ключ К размыкается. Потенциал электрода постепенно возвращается к своему исходному значению за время, необходимое для вос.становленвя чонов водорода в двойнослойной области, после чего ключ К замыкается и процесс повторяется.
Заряд g связан с площадью S 4 g - B-Sh,
(5)
где В - коэффициент пропорциональности.
Период импульсов осцилляции при 55 неизменной постоянной времени заряда емкости Сдй: Ј (R т ь %) слй опреде,
ляется степенью разряда емкости С „,
выражаемой отношением напряжения, на
Которое разряжается емкость С
0
Vie
к
исходному напряжению на емкости С 4U/U.
В случае,
У в
если
ли/U 0,01 ; С лл const.
(6)
Дб - v-uiiou.(7)
Период импульсов Т осцилляции тока прямо пропорционален, т.е. с учетом (А) и (5)
15
А-Т,
(8)
0
5 0 j
0
5
5 0
где А - коэффициент порпорциональиос- ти, определяемый на эталонных пленках с заданным размером пор.
Для определения размера поры максимального диаметра в пределах электролитического контакта необходимо устанавливать напряжение смещения с помощью линейно выражающегося катодного смещения, при котором возникает осцилляция тока. В этом случае электролит затянут только в пору наибольшего диаметра.
Способ специфичен для полупроводни ков электронной проводимости, так как в отличие от полупроводников дырочной проводимости полупроводник на границе с окислом обогащается основными носителями и внешнее напряжение оказывается приложенным к двойному слою. Формула изобретения
Способ оценки максимальных размеров пор диэлектрических пленок на полупроводниках электронной проводимости, заключающийся в том, что диэлектрическую пленку на полупроводниковом основании приводят в контакт с электролитом и прикладывают к электролиту напряжение смещения, о т л и- чающийся тем, что, с целью повышения достоверности за счет обеспечения избирательного контроля размера пор максимального диаметра, линейно увеличивают отрицательное напряжение смещения до возникновения в системе электролит - пористый диэлектрик - полупроводник электронной проводимости электрических осцилляции, по длительности периода которых судят о площади пор максимального размера в диэлектрике.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПРОФИЛЯ КОНЦЕНТРАЦИИ ЛЕГИРУЮЩЕЙ ПРИМЕСИ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ | 2009 |
|
RU2393584C1 |
Способ создания диэлектрической пленки анода высоковольтного танталового конденсатора и конденсатор с твердым электролитом и рабочим напряжением до 125 В включительно | 2023 |
|
RU2821335C1 |
ЭЛЕКТРОД ДЛЯ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ В ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОМ КОНДЕНСАТОРЕ С ДВОЙНЫМ ЭЛЕКТРИЧЕСКИМ СЛОЕМ (ВАРИАНТЫ) | 2007 |
|
RU2483383C2 |
Способ определения профиля распределения концентрации основных носителей заряда по глубине в полупроводниковых гетероструктурах | 2023 |
|
RU2802862C1 |
Твердотельный конденсатор-ионистор с диэлектрическим слоем, выполненным из нанопорошка диэлектрика | 2019 |
|
RU2729880C1 |
НАНОКОМПОЗИТНЫЙ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКИЙ КОНДЕНСАТОР И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ | 2011 |
|
RU2518150C2 |
СИСТЕМА И СПОСОБ ДИНАМИЧЕСКОГО ИЗМЕРЕНИЯ РЕДОКС-ПОТЕНЦИАЛА В ТЕЧЕНИЕ ХИМИЧЕСКОЙ РЕАКЦИИ | 2019 |
|
RU2719284C1 |
КОНДЕНСАТОР С ДВОЙНЫМ ЭЛЕКТРИЧЕСКИМ СЛОЕМ | 1997 |
|
RU2185675C2 |
ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКИЙ КОНДЕНСАТОР С КОМБИНИРОВАННЫМ МЕХАНИЗМОМ НАКОПЛЕНИЯ ЗАРЯДА | 1998 |
|
RU2145132C1 |
ГЕТЕРОГЕННЫЙ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКИЙ СУПЕРКОНДЕНСАТОР И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ | 2005 |
|
RU2391732C2 |
Изобретение относится к измерительной технике, предназначено для контроля пористости диэлектрических покрытий и может быть использовано в электронной и других отраслях промышленности. Цель изобретения - повышение достоверности за счет обеспечения избирательного контроля размера пор максимального диаметра. Способ заключается в подаче на систему электроники пористый диэлектрик - полупроводник электронной проводимости отрицательного линейно изменяющегося напряжения до образования в системе электрических осцилляции, по длительности периода которых судят о площади пор максимального размера в диэлектрике. Способ является специфичным для полупроводников электронной проводимости. 1 ил.
Бигдорович В.Н | |||
и др | |||
Электролитический метод обнаружения макродефектов окисных пленок на металлах и полупроводниках,- Заводская лаборатория, 1979, № Ю, с.930-912 | |||
Кролевец Н.М | |||
и др | |||
Повышение эффективности пузырькового метода исследования пористости SiOt.- Полупроводниковая техника и микроэлектроника.- Киев: Наукова думка, 1974, № 14, с.79, |
Авторы
Даты
1990-05-07—Публикация
1987-12-28—Подача