Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано в качестве ключевого или усилительного элемента.
Целью изобретения является уменьшение рассеиваемой мощности и уменьшение разброса параметров. На чертеже представлен инвертор. Инвертор состоит из полуизолирующей подлюки 1 арсенида галлия, на которой расположен первый нелегированный слой 2 арсенида галлия толщиной2000 с фоновой концентрацией примесей донорного типа1014см-3. На слое 2 расположен первый сильнолегированный слой 3 n-типа проводимости толщиной 30 с концентрацией примесей 1020см-3. Третий нелегированный слой 4 арсенида галлия толщиной 1000 с фоновой концентрацией примесей 1014см-3 расположен на слое 3. На слое 4 расположен второй сильно- легированный слой 5 арсенида галлия р-типа проводимости толщиной 30 с концентрацией акцепторных: примесей 1020см-3. На слое 5 расположен второй нелегированный слой 6 толщиной 600 с фоновой концентрацией примесей 1014см-3. Области истоков 7, стоков 8 простираются в глубину вплоть до первого нелегированного слоя 2. Между соседними транзисторами с разного типа проводимостью областями истоков и стоков выполнена гальваническая связь 9. Гальваническая связь 1О соединена с затворами 11.
Инвертор работает следующим образом.
При подаче на затвор транзистора напряжения (1:1,5) В канальное взаимное обеднение слоев снимается и электроны подтягиваются к δ
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ (ЕГО ВАРИАНТЫ) | 1984 |
|
SU1153769A1 |
ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР ШОТТКИ | 1991 |
|
RU2025831C1 |
ЛАЗЕР С ПОЛЕВЫМ УПРАВЛЕНИЕМ | 1986 |
|
SU1393291A1 |
ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ | 1984 |
|
SU1153768A1 |
СТРУКТУРА НА АРСЕНИДЕ ГАЛЛИЯ | 1991 |
|
RU2025832C1 |
ОПТОЭЛЕКТРОННЫЙ ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ | 1985 |
|
SU1284439A1 |
МОДУЛИРОВАННО-ЛЕГИРОВАННЫЙ ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР | 2013 |
|
RU2539754C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛЕВЫХ ТРАНЗИСТОРОВ С САМОСОВМЕЩЕННЫМ ЗАТВОРОМ | 1989 |
|
SU1628766A1 |
ПСЕВДОМОРФНЫЙ ГЕТЕРОСТУКТУРНЫЙ МОДУЛИРОВАНО-ЛЕГИРОВАННЫЙ ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР | 2013 |
|
RU2534447C1 |
МОЩНЫЙ ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР СВЧ | 2022 |
|
RU2787552C1 |
Изобретение может быть использовано в системах связи, в запоминающих системах в качестве ключевого или усилительного элемента. Цель изобретения - уменьшение рассеиваемой мощности и уменьшение разброса параметров инверторов по площади кристалла. Инвертор состоит из полуизолирующей подложки 1 арсенида галлия, первого нелегированного слоя 2 арсенида галлия, толщиной 2000 , с фоновой концентрацией примеси донорного типа 1014см-3, первого сильнолегированного слоя 3 n-типа проводимости, толщиной 30 , с концентрацией примеси 1020см-3 третьего нелегированного слоя 4 арсенида галлия толщиной 1000 с фоновой концентрацией примеси 1014см-3, второго сильнолегированного слоя 5 арсенида галлия р-типа проводимости, толщиной 30 , с концентрацией акцепторной примеси 1014см-3, второго нелегированного слоя 6 арсенида галлия, толщиной 600 с фоновой концентрацией примеси 1014см-3, из областей истоков 7, стоков 8, простирающихся в глубину вплоть до первого нелегированного слоя 2; между соседними транзисторами с разного типа проводимостью областями истоков и стоков выполнена гальваническая связь 9 и 10, между их затворами 11, а также между стоком одного 8 и истоком другого 7. 1 ил.
Инвертор на комплементарных полевых транзисторах с затвором Шоттки с нормально закрытыми и открытыми каналами, выполненными на структуре, содержащей подложку из арсенида галлия, на которой последовательно расположены первый нелегированный слой арсенида галлия, первый сильнолегированный слой арсенида галлия, второй нелегированный слой арсенида галлия и контакты стоков, истоков и затворов, отличающийся тем, что, с целью уменьшения рассеиваемой мощности и уменьшения разброса параметров, между вторым нелегированным и первым сильнолегированным слоем арсенида галлия расположены два смежных слоя, один из которых является третьим нелегированным слоем, а другой вторым сильнолегированным слоем с типом проводимости, противоположным типу проводимости первого сильнолегированного слоя, при этом толщина второго нелегированного слоя составляет толщины сильнолегированных слоев противоположного типа проводимости одинаковы и составляют при концентрации примесей в них 101 7-102 0 см-3, толщина третьего нелегированного слоя составляет при этом затворы объединены, а области истоков и стоков выполнены в виде сильнолегированных областей взаимно противоположного типа проводимости и имеют глубину до первого нелегированного слоя.
Печь для непрерывного получения сернистого натрия | 1921 |
|
SU1A1 |
Ефимов Н.Я | |||
и др | |||
Микроэлектроника | |||
- М.: Высшая школа, 1979, с | |||
Джино-прядильная машина | 1922 |
|
SU173A1 |
Аппарат для очищения воды при помощи химических реактивов | 1917 |
|
SU2A1 |
L | |||
Nuzillat et al | |||
A | |||
subnanosecond integrated switting circnits with MESFET'S for JSL | |||
J | |||
JEEE, VSC - 11, N 3, 1976, pp | |||
Саморазгружающаяся платформа | 1922 |
|
SU385A1 |
Авторы
Даты
1996-06-10—Публикация
1988-02-04—Подача