Установка для термоактивации клеевой пленки Советский патент 1991 года по МПК A43D25/20 

Изобретение относится к легкой промышленности, в частности к обувному производству, и может быть использовано при выполнении операции термоактивации клеевых пленок на подошвах, каблуках и затянутом следе обуви.

Целью изобретения является повышение качества активации клеевой пленки путем обеспечения равномерности облучения и увеличения диапазона регулирования температуры нагрева и уменьшение потребления электроэнергии.

В установке для термоактивации клеевой плзнки, содержащей корпус, каретку для деталей низа обуви, решетку для установки затянутой на колодке заготовки обуви, излучатели, смонтированные между

кареткой и решеткой, рефлектор, установленный между решеткой и излучателями, и систему управления, рефлектор выполнен из двух пластин-отражателей с о гверстиями щелевидной формы с возможностью передвижения одной относительно другой по горизонтали и их совместного перемещения по вертикали

Для осуществления передвижения одной пластины-отражателя относительно другой по горизонтали пластины-отражатели снабжены на одном краю цилиндрическими резьбовыми пальцами с прооезями, в которые они введены и относительно которых одна из пластин может перемещаться, г на противоположном краю в одной из пластин-отражателей выполнены продольные

Ј

Ю

пазы, другая пластина-отражатель имеет резьбовые штифты.

Для совместного перемещения пластин-отражателей по вертикали решетка для установки затянутой на колодке заготовки обуви с нижней стороны снабжена планками с вертикальными пазами, выполненными в форме классической замочной скважины. При перемещении цилиндрических резьбовых пальцев в пазах планок происходит перемещение по вертикали пластин-отражателей, введенных в прорези пальцев.

Выполнение рефлектора из двух пластин-отражателей с отверстиями щелевид- ной формы (благодаря чему он имеет незначительную толщину - 1-1,5 мм) позволяет намного увеличить по сравнению с известным устройством угол выхода потока лучей от каждого излучателя, и тем самым увеличить угол распространения излучения каждого излучателя на поверхность следа обуви. Поэтому через каждое отверстие щелевидной формы рефлектора проходят прямые лучи почти от всех излучателей, обеспечивая более равномерную плотность облучения каждого участка поверхности следа обуви. Благодаря незначительной толщине пластин-отражателей лишь небольшая часть прямых лучей отражается от рефлектора. Это также дает возможность сохранить равномерность облучения поверхности подошвы. Равномерность облучения активируемых поверхностей подошвы и следа обуви обеспечивается до установки рефлектора подбором расстояний от оси излучателей до активируемых поверхностей и шага между излучателями,

Благодаря плоской форме рефлектора отсутствует многократное преломление лучей от его поверхности, что уменьшает потери отдаваемого рефлектором тепла воздуху во время перерыва между активацией.

Кроме того, при более равномерном нагреве поверхности активируемых пленок, что обеспечивается плоской формой рефлектора, требуется меньшее потребление электроэнергии, так как снижается диапазон требуемых температур активации для соблюдения определенного технологического режима.

Благодаря выполнению пластин-отражателей рефлектора с возможностью передвижения одной из пластин относительно другой по горизонтали обеспечивается в относительно большой степени регулирование величины потоков прямых лучей, направляемых через щелевидные отверстия в рефлекторе на поверхность следа обуви.

Так как температура нагреза в основном зависит от величины потока прямых лучей, падающих на поверхность нагрева, то изменение ширины щелевидных отверстий в рефлекторе позволяет в относительно большом диапазоне регулировать температуру нагрева клеевой пленки на следе обуви. Воз0 иожность при этом совместного перемещения пластин-отражателей по вертикали позволяет увеличить плавность и диапазон регулирования температур нагрева.

Выполнение рефлектора плоским из

5 двух пластин-отражателей с отверстиями щелевидной формы обеспечивает повышение качества активации только при условии, если имеется возможность регулирования ширины отверстий и высоты положения пла0 стин-отражателей.

При отсутствии такого регулирования улучшается по сравнению с прототипом только равномерность облучения клеевых пленок и не обеспечивается регулирова5 ние требуемой в зависимости от технологии температуры нагрева клеевой пленки на следе обуви и на подошве, что не позволяет повысить качество активации в нужной степени.

0Выполнение пластин-отражателей с

возможностью передвижения одной относительно другой по горизонтали и их совместного перемещения по вертикали обеспечивает изменение ширины отвер5 стий щелевидной формы и регулирование высоты положения рефлектора, что, позволяя регулировать температуру нагрева клеевой пленки, в совокупности с выполнением рефлектора плоской формы дает возмож0 ность повысить качество активации.

На фиг.1 изображена предлагаемая установка, общий вид; на фиг.2 - рефлектор, вид сбоку; на фиг.З - вид А из фиг.2.

Установка для термоактивации клеевой

5. пленки содержит корпус 1 (фиг.1), установленные в нем направляющие 2 для перемещения каретки 3 с деталями низа обуви - подошвой 4, решетку 5 для установки на ней затянутой на колодке заготовки обуви сле0 дом 6 вниз, линейные цилиндрические излучатели 7, смонтированные между кареткой . 3 и решеткой 5 параллельно друг другу с равномерным шагом. Между излучателями 7 и решеткой 5 установлен рефлектор 8,

5 смонтированный на решетке 5.

Расстояние от оси излучателей 7 до активируемых поверхностей подошвы 4 и следа 6 обуви, а также расстояние между излучателями 7 подбирается до установки рефлектора 8 таким образом, чтобы обеспечить равномерность облучения активируемых поверхностей в пределах технологических требований, обеспечивающих хорошее качество изделий.

При использовании в качестве излу-а- телей 7 кварцевых ламп КГ-220-425 в количестве 7 шт. оптимальное расстояние между их осями составляет 35 мм (допустимые пределы 30 - 40 мм), расстояние от оси излучателей 7 до активируемых поверхностей подошвы 4 и следа 6 обуви - по 60 мм (допустимые пределы 30 - 80 мм).

Рефлектор 8 (фиг. 2 и 3) выполнен из двух пластин-отражателей: нижней 9 и верхней 10 с отверстиями 11 щелевидной формы для прохода лучистой энергии. Пластины-отражатели 9 и 10 рефлектора 8 на одном краю Снабжены двумя цилиндрическими резьбовыми пальцами 12 с прорезями 13, в которые они введены с возможностью перемещения верхней пластины-отражателя 10 относительно пальцев 12. Нижняя пластина-отражатель 9 приварена к пальцам 12. В пальцах 12, кроме того, выполнены прорези 14. На противоположном краю рефлектора 8 в верхней пластине- отражателе 10 выполнено два продольных паза 15, к нижней пластине-отражателю

9соответственно прикреплено два резьбовых штифта 16, снабженных гайками 17 и шайбами 18, с помощью которых фиксируется положение пластин-отражателей 9 и 10 относительно друг друга.

Решетка 5 с нижней стороны снабжена двумя планками 19 с вертикальными пазами 20, выполненными в форме классической замочной скважины. Прорезями 14 пальцы 12 заведены в пазы 20 планок 19. Пальцы 12 выполнены с возможностью посредст- ,вом прорези 4 вертикального перемещения по пазу 20 вместе с рефлектором 8.

Для фиксации положения рефлектора 8 по высоте используются гайки 21 и шайбы 22, Рефлектор 8 выполнен с возможностью перемещения по высоте от оси излучателей 7 на 25-40 мм.

Внутри корпуса 1 смонтированы также защелка 23 каретки 3 и концевой выключатель 24 для включения и выключения излучателей 7.

Установка имеет систему управления, размещенную в пульте 25 управления.

Установка работает следующим образом.

До размещения деталей обуви внутри корпуса 1 перемещением пластин-отражателей 9 и 10 рефлектора 8 по высоте и перемещением пластин-отражателей 9 и

10относительно друг друга по горизонтали обеспечивается заданная в зависимости от

технологии процесса температура активации клеевой пленки для подошвы 4 и следа 6 обуви

Посте установки рефлектора 8 в нужном 5 положении на решетке 5 размещают затянутый на коподку след 6 обуви, а на каретке 3 - подошву 4. После этого каретку 3 по направляющим 2 перемещают в зону активации. При этом каретка 3 фиксируется за10 щелкой 23, которая нажимает на концевой выключатель 24, и происходит включение излучателей 7.

По истечении заданного времени термоактивации система управления режимом

5 работы выключает концевой выключатель 24, который отключает излучатели 7 и освобождает защелку 23 от фиксации каретки 3, последняя по направляющим 2 выходит из корпуса 1.

0Использование установки для термоактивации клеевой пленки позволяет повысить качество активации клеевой пленки путем увеличения диапазона регулирования температур нагрева клеевой пленки и

5 обеспечения более равномерного облучения поверхности клеевой пленки, сокращается потребление электроэнергии. Благодаря отсутствию в установке многократного преломления лучей и более высо0 кой равномерности облучения поверхности клеевой пленки сокращается потребление электроэнергии. Повышение качества активации клеевой пленки позволяет улучшить качество обуви.

5

Формула изобретения 1. Установка для термоактивации клеевой пленки преимущественно на деталях обуви, содержащая корпус, каретку для де0 талей низа обуви, решетку для установки затянутой на колодку заготовки верха обуви, излучатели, смонтированные над кареткой, рефлектор, установленный между решеткой и излучателями, и систему управ5 ления, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества активации клеевой пленки путем обеспечения равномерности облучения и увеличения диапазона регулирования температуры нагрева и снижения

0 потребления электроэнергии, рефлектор выполнен из двух пластин-отражателей с отверстиями щелевидной формы, установленных на решетке с возможностью совместного перемещения в вертикальной

5 плоскости, при этом верхняя пластина рефлектора установлена с возможностью перемещения относительно нижней в горизонтальной плоскости.

2. Установка поп 1,отличающаяся тем, что рефлектор снабжен цилиндрическим резьбовым пальцем для закрепления на решетке.

3. Установка по пп. 1 и 2, о т л и ч а ю- щ а я с я тем, что один конец решетки снабжен вертикальной планкой с пазом в виде замочной скважины для взаимодействия с цилиндрическим резьбовым пальцем рефлектора.

4. Установка по п,1, отличающаяся тем, что нижняя пластина-отражатель снабжена резьбовым штифтом, а в верхней пластине-отражателе выполнен продольный паз под резьбовой штифт для обеспечения перемещения пластин рефлектора в горизонтальной плоскости.

Изобретение относится к обувному производству, а именно к устройству для термоактивации клеевых пленок на деталях обуви. Цель изобретения - повышение качества активации клеевой пленки и уменьшение потребления электроэнергии. Установка содержит корпус, размещенные в нем направляющие для перемещения каретки с деталями низа обуви (подошвой), решетку для установки на ней затянутой на колодке заготовки обуви, излучатели, расположенные между кареткой и решеткой, рефлектор, установленный между решеткой и излучателями. Рефлектор состоит из двух пластин-отражателей с отверстиями щелевидной формы для прохода лучистого потока, выполненных с возможностью раздельного перемещения по горизонтали для изменения ширины отверстий и совместного перемещения по вертикали. Регулируя ширину отверстий щелевидной формы в рефлекторе и высоту положения пластин-отражателей, регулируют требуемую в зависимости от технологии температуру нагрева клеевой пленки. 3 з.п. ф-лы, 3 ил.

Ь

2Г 23

Фиг.1

-

Ш

I