Известны устройства для нагрева подложек, содержащие нагреватель и металлическое основание. Однако они не обеспечивают постоянной и однородной температуры подложки.
Описываемое устройство отличается от известных тем, что в нем между основанием и подложкой помещен слой легкоплавко1го материала-.
Это обеспечивает постоянную однородную температуру подложки.
На чертеже изображена конструкция предлагаемого устройства.
Подложка / прикреплена уголками 2 кмассивному основанию 3, а между основанием и подложкой помещен тонкий слой легкоплавкото материала 4 (например олова или галлия). При нагревании основания материал
плавится и заполНяет микронеровности на обеих поверхностях, обеспечивая тепловой контакт по всей поверхности подложки, что при1водит к быстрому ее разогреву.
Расплавленный материал (металл) удерживается менчду подложкой и основанием силами сцепления и поверхностного натяжения.
П р е д М е т изобретения
Устройство для нагрева подложек в вакууме, содержащее на1греватель и металлическое основание, параллельно которому расположена поалож1ка, отличающееся тем, что, с щелью обеспечения постоянной и однородной температуры подложки, между основанием и подложкой помещен тонкий слой легкоплавкого материала.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЯ НА ПОВЕРХНОСТИ КУПОЛООБРАЗНОЙ ПОДЛОЖКИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 1991 |
|
RU2040495C1 |
Устройство для изготовления диэлектрических пленок | 1980 |
|
SU941875A1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТОНКИХ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПОДЛОЖЕК | 1992 |
|
RU2071645C1 |
Способ контроля и управления температурным режимом ростовой поверхности подложки | 2020 |
|
RU2763103C1 |
CVD РЕАКТОР РУЛОННОГО ТИПА ДЛЯ СИНТЕЗА ГРАФЕНОВЫХ ПОКРЫТИЙ НА ПОДЛОЖКАХ В ВИДЕ ШИРОКОЙ ЛЕНТЫ | 2020 |
|
RU2760676C1 |
ИНДУКЦИОННАЯ ПАЙКА НЕОРГАНИЧЕСКИХ ПОДЛОЖЕК | 2012 |
|
RU2638070C2 |
СПОСОБ УВЕЛИЧЕНИЯ ПРОИЗВОДИТЕЛЬНОСТИ ПРОЦЕССОВ ОСАЖДЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ПОДЛОЖКУ | 2000 |
|
RU2240377C2 |
CVD - РЕАКТОР РУЛОННОГО ТИПА | 2020 |
|
RU2762700C1 |
СВЧ плазменный реактор с регулированием температуры косвенного нагрева подложки | 2019 |
|
RU2762222C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАПЫЛЕНИЯ | 2018 |
|
RU2691357C1 |
Даты
1969-01-01—Публикация