СПОСОБ ОЧИСТКИ ВАКУУМ-КАМЕРЫ ОТ ЗАГРЯЗНЕНИЙ Советский патент 1969 года по МПК B01J19/00 

Изобретение относится К области, химической технологии, в частности, к способам очистки вакуум-камер от загрязнений.

Известные способы очистки вакуум-камер от загрязнений за.ключаются .в том, что выжигают последние в результате непосредственного обогрева стенок камеры нагревательными элементами, смонтированными на внешних сторонах этих стенок, с последующей откачкой вакуум-насосом Образо1ва1вшихся газообразных продуктов.

Однако |При осуществлении этих опособов перегреваются стенки вакуум-камеры.

Целью изобретения является предотвращение такого перегрева.

Отличие предлагаемого способа от известных состоит в том, что загрязнения выжигают нагреваемым элементом, помещенным в камеру и не контактирующим с ее стенками.

В предлагаемом способе очистки внутренних поверхностей вакуумных камер больших размеров (порядка десятков кубических метров) продукты разложения при высокой температуре (650°С) органических соединений удаляют обычными способами откачки.

Практически это можно выполнить введением тела, нагретого до необходимой температуры, в откачиваемую область вакуумной камеры. При этом иапаряющиеся с поверхности камеры органические соединения, соударяясь с нагретым телоМ, разлагаются на более легкие фракции, которые легко отка чиваются из камеры. Зная примерное количество загрязнений, оставшихся на поверхности после обра:ботки растворителялш, и размеры нагретого тела, можно определить время, необходимое для очистки поверхности, и эффективность данного способа для «каждого конкретного случая.

Этот способ был ,при,менен при получении

рабочего вакуума е резонаторе и дебанчере

линейного ускорителя на 70 МЭВ ( м,

).

Работа 1МОЩНОГО ускорителя возмол на лишь

при выполнении П01вышенных требо ваний к «чистоте еа-куумной системы. Обычные -способы очистки камер от органических соединений непригодны из-за сложности конструкции больших размеров камер (длина 30 м,

диаметр 2 м) и наличия большого числа резиновых уплотнений, что не допускает нагрева выше 50°С.

Предлагаемый технологический процесс очистки заключается в следующем:

- конструкцию тела накала в виде тонкостенной трубки из нержавеющей стали вьгбирают в зависимости от конфигурации камеры, количества загрязнений и реального времени очистки;

-камеру :В месте с трубкой откачивают до давления торр, после чего на трубку подают напряжение от источ;ни,ка питания, и трубка нагревается .проходящим через нее TOiKOM до. 650°С;

-1В прОЦессе на.трева камеру откачивают вы.со1ковакуум1ными насосами с жидкоазотными ловушка.ми и .поддерживают давление торр;

-.про.гре,в заканчивают при давлении 1X 10 торр (при .ченном нагреве) и уменьшении газо..СТделения примерно в 4 раза.

Предмет и з о i6 р е т е н и я

Спосо1б очистки .вакуум-.камеры от загрязнений путем выжигания загрязнений .нагреванием CTeiHOK камеры с (последующей отканкой посредством -вакуум-насоса образовавшихся газообразных продукто в, отличающийся тем, что, с целью предотвраш,ения перегревов стенок камеры, выжигание загрязнений осущесгвляют помеш,ением в камеру без контакта с ее CTec-rKaiMH нагреваемого элемента..