СПОСОБ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТЕЙ Советский патент 1970 года по МПК B23H7/26 

Предложенный способ может быть использовая -при электрохимической обработке поверхностей токопроводящих пластин, в частности полупроводниковых.

Известны способы и установки для электролнтического полирования полупроводниковых лластин с опорными дисками. Процесс обработки пластин по этим способам осуществляется в слое электролита.

Описываемый способ электрохимической обработки поверхностей отличается тем, что полупроводниковые Пластины обрабатывают в свободно-ллавающем состоянии, причем величину межэлектродного зазора лоддерживают путем корреляции между удельным весом электролита и объемным весом анодного диска. Такой способ -позволяет обеспечить анодное растворение микронеровностей, превышающих 0,05-0,1 мк, Посредством ведения процесса на зазоре не более 100 мк.

Сущность способа электрохимической обработки поверхностей токопроводящих -пластин, в частности полупроводниковых, состоит в наклейке обрабатываемых пластин на анодный диск, в создании тонкого слоя проточного электролита на поверхности катода, достигаемого подачей электролита струей на вращающийся катод, в установлении анодного диска в свободно-плавающем состоянии в слое электролита и в пропускании постоянного электрического ТОКИ через всю систему. Строгая корреляция удельного веса электролита и объемного веса анодного диска с наклеенными пластинами обеспечивает автоматически постоянное сохранение зазора между поверхностью обрабатываемой пластины и катодом в пределах 100 мк, причем зазор одинаков во всех точках. Пластины, обработанные предложенным способом, имеют поверхность с малыми мИКронеровностями и хорошим сохранением исходной плоскостности без рисок и царапин, возникавших при известных способах во время трения пластин о катод или ткань-сепаратор.

Предмет изобретения

Способ электрохимической обработки поверхностей токопроводящих пластин, в частности полупроводниковых, при котором пластину наклеивают на анодный диск, помещают этот диск в слой проточного электролита и через образовавшуюся цепь анод-электролит- катод пропускают постоянный ток, отличающийся тем, что, с целью анодного растворения микронеровностей, превышающих 0,05- 0,1 мк, посредством ведения процесса на зазоре не более 100 мк, полупроводниковые пластины обрабатывают в свободно-плавающем состоянии, причем величину межэлектродного зазора поддерживают путем корреляции между удельным весом электролита И объемным весом анодного диска.