СПОСОБ МНОГОСЛОЙНОГО ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОГО ХРОМИРОВАНИЯ Советский патент 1970 года по МПК C25D5/14 

Изобретение относится к области электролитического нанесения защитных и защитно-декоративных покрытий, в частности к области электролитического хромирования.

Известен способ многослойного электролитического хромирования в стандартном электролите при нестационарных режимах электролиза.

Предложенный способ отличается от известного режимами осаждения и количеством наносимых слоев хрома.

По предложенному способу на предварительно подготовленную поверхность наносят последовательно четыре слоя хрома при разных режимах осаждения, что позволяет повысить качество покрытия. Так, первый слой хрома толщиной 15 - 20 мк осаждают при плотности тока 60+3 а/дм и температуре 50+2°С; второй слой беспористого хрома толщиной 30- 35 мк-при плотности тока 40 ± 3 а/дм и температуре 75 ± 2°С; третий (аналогичный по структуре первому слою) толщиной 30 - 35 мк - при плотности тока 70 ± 3 а/Лиз и температуре 50 ± 2°С; четвертый слой износостойкого хрома - при плотности тока 60 ± ± 3 а/дм и температуре 60 ± 2°С.

Толщина четвертого слоя обусловливается общей толщиной покрытия. Осаждение второго и четвертого слоев хрома может быть осуществлено на реверсивном токе с временем

катодного периода 1 - 2 мин и анодного периода 1 - 2 сек, соответственно.

Изменение режимов электролиза производят непрерывно, что обеспечивает высокую прочность сцепления отдельными слоями. Хромовое покрытие, полученное по предложенному способу, отличается высокой износостойкостью, коррозионной стойкостью и оказывает наименьшее влияние на механичес0кую прочность покрываемого материала.

Предмет изобретения

1.Способ многослойного электролитического хромирования в стандартном электролите

5 при нестационарных электролиза, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытия, последовательно осаладают четыре слоя хрома при непрерывном изменении релсимов электролиза.

2.Сиособ по п. 1, отличающийся тем, что

0 первый слой хрома осаждают при плотности тока 60 ± 3 а/дм2 п температуре 50 ± 2°С.

3.Способ по пп. 1 и 2, отличающийся тем, что второй слой хрома осаждают при плотное

ти тока 40 ± 3 а/д.ч и температуре 75 ± 2°С.

4.Способ по пп. 1 - 3, отличающийся тем. что третий слой хрома осаждают при плотности тока 70 ± 3 а/дм2 и температуре 50 ± 2°С.