СПОСОБ ОЧИСТКИ РАССОЛА Советский патент 1970 года по МПК C25B1/26 

Изобретение относится к производству хлора электролитическим способом, в частности к области нодготовки рассола (р аствора поварен по и соли) для электролиза.

В известном способе очистки рассола от примесей кальция и магния при номощи соды и нделочн вредные нримеси нутем обменным реакций нереводят в малорастворимые -соедннения, вынадающие в осадок. Полученную суснензию осветляют в гра-витациоаных отстойниках тина Дорра или в аннаратах со взвешепным шламовым фнльтром типа ЦНИИ МПС ОВР ПШ. Для стятия иересыщения по кальцию осветленный рассол дополнительно фильтруют через слой мраморной крошки.

К недостаткам известного снособа относятся неполная кристаллизация твердой фазы, образование мелких трудноотстаивающихся п труднофильтруемых кр.исталлов, а так/1 е недостаточная задерживающая способность взвешенного шламового фильтра вследствие образования трещин и свищей под действием колебаний температуры, конвективного теплообмена и изменения гидродинамики нотока.

Это обеспечивает новышение качества осадка, интенсификацию процесса очистки и унрощение технологии.

Процесс кристаллизации осуществляют на стадии хим.ических реакций нри )1аложении электрического, магнитного нли механического поля (например, акустического при интенсивности озвучивания до 3 вт/см н частоте 16- 22 кгц), что создает возможность унравления этим процессом и получения структуры осадка с заранее заданными свойствами.

На чертеже показана схема для осуществле}1ия описываемого способа.

Прнмер.: Сырой рассол содержащий 300-305 г л NaCl, 1 г/л 50 мг1л разделяют на две части. Меньшую часть рассола смешивают в Янпарате / очагстки рассола с раствором соды, подаваемой в избытке 0.4 г/л, через 5-10 мин. На реакционный объем накладывают дисковым магннтостри-кциОНным преобразователем 2 ультразвуковое поле с частотой 18-20 кгц и интенсивностью 1,5 6Т/СМ-, в зоне реакции поддерживают температуру 45° С. Через 25-30 мин полученную :В рассоле суспензию СаСОз ipaздeляют на фильтре 3 (в режиме барабанного вакуумфильтра непрерывного действия) до образования слоя осадка толщнной 50 мм при вакууме 100 мм рт. ст. Осадок состоит из кристаллов неправильной формы размерами от 5 до 40 мк.