УСТРОЙСТВО ДЛЯ КАТОДНОГО РАСПЫЛЕНИЯ Советский патент 1971 года по МПК C23C14/56 C23C14/36 

Изобретение относится к области нленочной микроэлектроники и может быть исиользовано при производстве тонкопленочиых микро, хем.

Известны устройства для катодного распыления, содержащие иатекатель, систему катодов, анод, вспомогательный электрод, соединенный с плюсом источника постоянного напряжения или с источником переменного напряжения, и вакуумную камеру, внутри которой расположена карусель, выполненная в виде цилиндра, во внутренней полости которого размещены испаритель, а на внутренней поверхности - иодложкодержатели.

Однако известные устройства не обеспечивают хорощей воспроизводности характеристик пленок и высокого качества.

С целью повышения качества наносимых пленок и улучшения воспроизводимости их характеристик в предлагаемом устройстве натекатель для напуска газа расположен в верхнем торце программно-вращающегося цилиндра, а откачное отверстие - в нижнем торце цилиндра.

На чертеже показано предлагаемое устройство для катодного распыления.

В вакузмной камере }, служащей анодом, расположена программно-вращающаяся карусель 2, выполненная в виде полого цилиндра, на внутренней поверхности которого размещены электрически изолированные подложкодержатели 5 с подлолчками 4. Катоды 5, имеющие одно или несколько отверстий, расположены во внутреннем пространстве цилиндра, всномогательный электрод 6 размещен с нерабочей стороны «дырчатых катодов и соединен с полюсом источника постоянного напряжения или источником переменного напряжения. Натекатель 7 для напуска газа расположен

у верхнего торца цилиндра, а откачное отверстие 8 - с противополол ной стороны. Катодный экран 9 предназпачен для устранения распыления катода на его нерабочей стороне, а экран 10 служит для устранения иопадания

частиц распыляемого материала на поверхиость подложек, расположенных на соседних иодложкодержателях. Устройство работает следующим образом. По достижении в вакуумной камере давления не выще мм рт. ст. через натекатель вводится рабочий газ, например аргон,

и давление повышается до (1-4)

мм рт. ст.

К катодам прнкладывают отрицательное

иостоянное нанряжение 2000-6000 в. На дополнительный электрод подают 50-500 в постоянного напряжения или 100-1000 в переменного напряжения, при этом положительные ионы аргона прнтягиваются потенциалом караспыление его вещества. Распыленные атомы материала катода осаждаются на подложку. Катод имеет дырчатую форму, что позволяет повысить качество и равномерность наносимых нленок за счет возможности уменьшить расстояние катод-подложка. После нанесения необходимой толщины пленки карусель поворачивается на заданный угол, и напротив катодов располагаются дру-10 гие подложкодержатели с закрепленными на них подложками. Расположение подложкодержателей на внутренней поверхности цилиндрической кару-15 сели позволяет максимально использовать рабочий объем вакуумной камеры, что резко повышает производительность установки. 5 Предмет изобретения Устройство для катодного распыления, содержащее натекатель, систему катодов, анод, вспомогательный электрод, соединенный с плюсом источника постоянного напряжения или с источником переменного напряжения, и вакуумную камеру, внутри которой расположена карусель, выполненная в виде цилиндра. во внутренней полости которого размещены испаритель, а на внутренней поверхности - подложкодержатели, отличающееся тем, что, с целью повыщения качества наносимых пленок и улучшения воспроизводимости их характеристик, натекатель для напуска газа расположен в верхнем торце программно-вращающегося цилиндра, в нижнем торце которого расположено откачное отверстие.