Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано для получения катодным распылением многослойных пленок и пленок из смеси компонентов разных материалов.
Известно устройство для катодного распыления с применением нескольких катодов. В известном устройстве катоды выполнены в виде отдельных плоских секторов, изготовленных из разных материалов. Напряжение на каждый катод подается отдельно.
Цель изобретения - избирательное распыление и упрощение процесса распыления многослойных пленок и смесей компонентов разных материалов в течение одного цикла вакуумирования. Для достижения цели катод выполнен в виде последовательно расположенных в соответствии с заданной последовательностью напыления цилиндров из различных материалов, цилиндры соединены между собой торцами, что обеспечивает надежный электрический контакт, а напротив части рабочей поверхности катода с возмол ностью перемещения вдоль оси катода расположен экран.
На чертеже схематически изображено устройство.
разряд напротив части рабочей поверхности катода, изготовлены в виде цилиндров, расположенных напротив рабочей поверхности катода на расстоянии, меньшем глубины темного катодного пространства, и заземлены. Анод (анод-подложкодержатель) 4 расположен напротив катода в том месте, где нет экранов 2 II 3. Анод заземлен. Экран 5 расположен напротив нерабочей поверхности катода / на расстоянии, меньшем глубины темлого катодного пространства. Катод /, анод 4 и экраны 2, 3 и о размещены в вакуумной камере 6. Газ из камеры откачивают через отверстие 7. Высокое напряжение на катод подают через высоковольтный ввод 8. Камеру наполняют рабочим газом через отверсгие 9. Подлол ки JO, на которые напыляют распыляемый материал, располол ены напротив центра отверстия между экранами 2 и 3.
Устройство для катодного распыления работает следующим образом. После откачки рабочего объема камеры до вакуума IQ мм рт. ст. в нее через отверстие 9 нагнетают рабочий газ, например аргон, до давления
мм рт. ст. При подаче на катод напряжения порядка 1-10 кв возникает тлеющий разряд, следствием которого является распыление материала катода и осаждение его на подложках 10, причем разряд возними 2 и 5. Роль экранов 2 и 5 состоит в подавлении тлеющего разряда напротив тех участков катода, в распылении которых в данный момент нет необходимости. При вертикальном леремещепии экранов 2 и 5 и анода 4 с подложками 10 вдоль катода производится последовательное напыление на,подложки слоев различных материалов, из которых сделаны цилиндры катода. В случае необходимости, возможно одновременное распыление нескольких материалов.
Предмет изобретения
Устройство для катодного распыления, состоящее из вакуумной камеры с расположенной внутри нее электродной системой, соединенной с источником высокого напрялсения, анода, цилиндрического катода и экранов для гашения тлеющего разряда, отличающееся тем, что, с целью избирательного распыления и уирощения процесса распыления многослойных пленок и смесей компонентов разных материалов в течение одного цикла вакуумировапия, катод выполнен в виде последовательно расположенных в соответствии с заданной пос педовательностью напыления электрически соединенных между собой торцовыми поверхностями цилиндров из различных материалов, а экран расположен напротив части рабочей поверхности катода г. возможностью перемещения вдоль оси катода.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
УСТРОЙСТВО ДЛЯ КАТОДНОГО РАСПЫЛЕНИЯ | 1971 |
|
SU290065A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАПЫЛЕНИЯ | 2018 |
|
RU2691357C1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ ИЗ АМОРФНОГО ОКСИДА АЛЮМИНИЯ РЕАКТИВНЫМ ИСПАРЕНИЕМ АЛЮМИНИЯ В РАЗРЯДЕ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ | 2016 |
|
RU2653399C2 |
УСТРОЙСТВО для НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК | 1970 |
|
SU259595A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК | 2022 |
|
RU2797582C1 |
СПОСОБЫ, ИСПОЛЬЗУЮЩИЕ УДАЛЕННУЮ ПЛАЗМУ ДУГОВОГО РАЗРЯДА | 2013 |
|
RU2640505C2 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК КАТОДНЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ | 1972 |
|
SU336381A1 |
УСТАНОВКА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК МЕТОДОМ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ | 1992 |
|
RU2046840C1 |
Газоразрядный прибор низкого давления | 1973 |
|
SU512652A1 |
ОСАЖДЕНИЕ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ С ПОГРУЖЕНИЕМ В ДУГОВУЮ ПЛАЗМУ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ И ИОННАЯ ОБРАБОТКА | 2014 |
|
RU2662912C2 |
Даты
1971-01-01—Публикация