УСТРОЙСТВО для НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ Советский патент 1973 года по МПК C23C14/32 

1

Изобретение относится к области нанесеиия покрытий ,в 1вакуу : 1е и может быть применено при произзодСтве интегральных схем.

Известно устройство для нанесення покрыТИЙ в вакууме, содержащее дозатор, расположенный над испарителем, вылолиенным в виде гор-изоитальио расиоложеиной пластины.

В таком устройстве «е исключается влияние материала испарителя на со€та в покрытия.

Цель изобретения-исключение этого влияния.

В предлагаемо устройстве для нанесения покрытий в вакууме испаритель выпол.нен в виде двух подключенных к источнику высоковольтного напряжения пластин, смонтированных BepTHiKavTbHo « образующих щель для пролета частиц, и снабжен емкостью для сбора неисиарившихся частиц.

На чертеже представлено предлагаемое устройство.

Устройство состоит из дозатора /, расположеиного над испарителем, выпол.ненным в виде двух подключенных к источнику 2 высоковольтного напряжения пластии 3, смонтированных вертикально .и образующих щель

ДЛЯ пролета частиц, и снабженным емкостью4 для сбора неиспаривш.ихся частиц.

Устройство работает следующим образо,м.

После разогрева пластин 3 к ним (Подводится знакопеременное напряжение от источника 2, в вертикальной между пластинами образуется знакопеременное электр.ическое поле. Частицы испаряемых металлов, пролетая через щель, нагреваются до температуры испаре 1ия и испаряются. Не успевшие «спариться частицы пролетают ми.мо пластин, не нападая на их поверхность, и собираются в емкости 4.

Предмет изобретения

5

Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее дозатор, расположенный над испарителем, отличающееся тем, что, с целью

0 иаключвния влияния материала ис1пар.ителя на состаВ нокгрытия, испаритель вьтолнен в виде двух подключенных к источнику высоковольтного напряжения пластин, смонтированмых вертикально и образующих щ:ель для пролета

5 частггц, и снабжен емкостью для сбора не)1Спарадвп1ихся частиц.

У7777(

ZZZrA