Способ очистки пробелов фотополимерных печатных форм Советский патент 1975 года по МПК G03F7/10 

Изобрегение относится к области технологии и: готов,:1еиия фотоиолимери1 1х 11еча1иых форм для высокой, трафаретной и флексографическон иечати.

И;11 естеи сиособ очистки пробелов фотоиоли.мсрных печатных форм на основе ,ких светочувствительных комнозинин, соде|);| а1цих олиго;|фпракрнлат, мономер акрилового ряда, {|)отоининнатор, сенеиби.чнзатор и нано.шитель, закл10чак)ш,1Йся в том, что пробелы об)абатывают этиловым сииртом, ацетоном или их смесью с водо| 1, а также другими органмчески; 1и раство)целями,

Примеиение указанных pacтвop ггeлeii 1;ызывает набухание иечатиых элементов и ие обесиечивает юлучення печатных форм с высокн-ми реиродукционными и нечатнымн свойствами.

По н|)ед,тагаемому снособу пробелы )екомеидуется обрабатывать водным |)г,створом иат) соли фосфорно или угольной кнслоты взятой нредночтителыю в количестве 0,,5% при температуре 50-70Х.

Примеиение такого раствора обеспечивает мит имальное графическое искажение и требуемые глубины в широких н узких пробелах, а также трапецневидиый профиль нечатаюндих элел ептов н высокую и разрешающую выделяющую сиособиость.

Водные растворы указанных солен даже пр:т

длительиом их воздействии на иечатающие элементы формы пе вызывают никаких их деформаций.

Фотонолимерная иечатная форма lie кабухает в водных растворах натриевых солей.

Кроме того, водные растворы более достуииы.

нетоксичны, что нозволяет улучшить саиитарио-гигиеиическне условия труда.

Пример 1. Приготовленную композицию состава:

Олигоэфиракрилат

а, (о-диметакрил (диэтнлеиглнколь фталат)100

.Моном ер-метил метакрил ат10- 15

Фотосенсибилизатор-бензоин1,0-1,5

поме1цают в иолость формирующе-копировальиой рамы, состоящей из двух стекол, к одному из которых нрикреилен негатив, огра1 ичнтелей толщины н растекания комнозицин. Л атериал экснонируют люминесцентными .тамнами ЛУФ-80 со стороиы иегативз в течение мни. и с обратной - в течение 2-5 мни.

Незаиолнмеризовавшуюся композицию удаляют, раму демопти)уют и пробелы фотополимерной формы очищают 0,5-2,2%-иым водным 1-)аствором ЫаоСОз при температуре 50- 70°С в течение 1,0-2,0 мин., носле чего форму сушат теплым воздухом при 40-50° в течение 1 мин и используют для печатания.

Пример 2. Аналогично методике примера 1 пробелы очищают 0,5-2,5%-иы.м водным раствором NasPO.

Предмет изобретения

1. Способ очистки пробелов фотополимерных печатных форм на основе лсидких светочувствительных композиций, содержащих олигоэфиракрилат, мономер акрилового ряда, фотоиннциатор, фотосенсибилизатор и наполнитель, отличающийся тем, что, с целью получения печат1 ых форм с высокими репродукционными и нечатными свойствами, пробелы обрабатывают водным раствором .натриевой соли угольной или фосфорной кислоты.

2.Способ но п. 1, отличающийся тем, что натриевую соль берут в количестве 0,5-2,5%.

3.Способ по пп. 1 и 2, отличающийся, тем, что обработку натриевой солью ведут нри 50- -70°С.