Способ очистки низкомолекулярного полиэтилена высокого давления Советский патент 1975 года по МПК C08F1/88 

обработку .- при 80-130 С н остаточном даилонии 5-30 мм рт. ст.

На чертей-;е приведена принципиальная

технологическая схема предлагаемого споI

:соба.

, Эта схема включает экстрактор 1 шне KOBOfo типа протнвоточного действия дл очистки нолиэтилсна от глицерина; линию 2 подачи низкомолекулярного полиэтилена высокого давления из процесса производства полимеризащш этилена в экстрактор} линию 3 подачи экстрагента (этанола)

в экстрактор; линию 4 выхода очищенного от глицери}1а пол11этилена изэкстрактора

и подачи Б аппарат растворения его ь ij-гексано; лпнию 5 В1 гхода этанол-глицериновой смеси (экстракча) из экстрактора я подачи ее на дистилляпионную регенерацлю этанола для повторного использования этанола и глииерина в соответствующих производстве1шых циклах; аппарат 6 для растворении полиэтиленга в н-1ексане (смеситель, механической моталкой и рубашкой); линию 7 подачи п-гексапа в смесител);; ЛИ11ИЮ 8 выхода смеси и-1ексанлолиэтнлен и подачи ее па зкстракиик) минерального масла и осаждение иоJпtэvилe(lil; экстракто1 -осадител):. 9 И1иековго ТИ1Ю длм экстракции минерали ного масл изiш niэlилeнa и его осаждения ацето-

ном из смеси и-кесан-полиэтилен; линию 1О иодачи осадите/1Я (ацетона или eio азео1-рона с н-гексаном, обог ашепного ацетоном); линию 11 полиэтилена, очищенного от минералыюго масла и воды и подачи ejo на вакуум-отгонку от остатков растворителей (этанола, н 1ексана и ацетона) и воды; линию 12 выхода смеси ацетон-п-гексан-к иииральное масло-вода из экстрактора-осадн-1-еля и подачи ее на выделение минерал1-.ного масла для повтор- ногч) использования его в производственном цикле получения по.чиэтилена и вы деление ацетона лз его смеси с; п-гексатом для 1ГХ повторного 1юпользования в процессе очпстки полиэтилена от указам- ных примесей; аппарат 13 вакуум-отгонки (очистки) от остатков растворителей (этанола, н-гекса.ча и ацетона) и воды из полпэтплена; линию 14:выхода полиэтилена высокой очистки из аппарата 12; линию 15 выхода остатков; растворителей и воды из аппарата 13 с последующим направленпем их па повторное использование или иные технологические .

Низкомолекулярный полиэтилен высокого давления (НМПЭВД) из процесса поли- -.гер гзацги этилена подается под технологическим давлением в верхнюю часть ЯКстрактора 1 по линии 2 на экстракцию глицерина этанолом при объемном соотпошении этапола к НМПЭВД, равном 1:1, 5:6. Температура потока полиэтилена 55-65°С. НМПЭВД в экстракторе, работаюшем при атмосферном давлении, захватыва- .ется вращающимся винтом шнека и направляется в его нижнюю частв. Этапол (температ фа 55-65°С) по линии 3 подается протпвопотоком навстречу НМПЭВД спизу

0 щнека.

Поток глицеринового раствора этилового спирта за счет разнести ее плотности НМПЭВД по линии 5 уходит сверху шнека, очищенный от глииерипа НМПЭВД под давлением прессования шпека по липии 4 подается в аппарат 6 па приготовление его раствора с н-г-ексаном . Температура в смесителе 40 -5О°С, давление в 0,0-0.8 (раз ниже, чем давление в линии 4. Гексан,

0 отреге11орироваппый из смеси ацетон-н-гекса минерал11пое масло-вода, «в узле регенерации (температура 20-30 С) по линии 7 подается насосом в нижнюю часть аппарата G при о З-ьемном соотношении

5 НМНЭВД к п-гексану, равпом 1:2-4.

riojiy4eHnbifl образом низковязкий jor.ioreniibiH растаор по линш 8 подается из аппарата 6 в среднюю частв щпекового экс рактора-осадителя 9, где навстречу

0 :ему движется поток осадителя (ацетона или его азеотропа с н-1 ексаном, обогащенного ацетоном). Осадите.Пг (температура 20- 30°С) забирается насосом из узла выделения к1.инерального масла и регене{)ации

5 ацетона с н-гексаном и подается по линии 10 в к 1А1{ЮЮ часть экстрактора-осадителя, Ораяадаюишйся в нем полиэтплеп захватывается вралшющлмся винтом шнека по линии 11, подается на вакуум-очистку в аппарат

0 13, где происходит вакууьл.-днс1Ю1ЛЯпиоиная отгонка оста-гков aueiona, этанола, водь1, H-f-eKcaim и минерального масла из НМПЭВД. Остаточное давление в аппарате 13 составляет 5-30 мм рт. ст., темпера5тура нижней части аппарата 8О-13О С, а верхней - 50-100 С.

Очище:-и- ый НМПЭВД с нижгшй части аппарата 13 подается для получения композиций (смесей) на его основе для радиационно-химического сиптеза, либо на затаривание.

Отгон из аппарата 13 по линии 15 на лравляют либо в узел регенерации растворителей для их повторного использования

5 в процессе очистки НМПЭВД, либо на другие техрюлогическпе нуждь.

Восходящий поток экстрагированного минерального масла п-гексапа, воды н аце- jTOHa выходит сверху экстрактора-осад.ителя 9 к по линии 12 направляется в узел :