Изобретение откосится к термометрам сопротивления для измерения температур
. в области 4,0
Известны низкотемпературные резис- тивные датчики, выполненные на основе угольных пленок, двуокиси олова SnO ,
легированного сурьмой, монокристаллического Ge и Si .
Иедоста1ком датчиков на основе угольных пленок и SnO , легированного сурьмой, является низкая стабильность и воспроизводимость при отогревах, так как в основе этих датчиков используются аморфные или поликристаллические пленки.
Датчики на основе монокристаллического Ge и Si обладают высокой чувствиел1,постью и стабильностью. Однако эти датчики чувствительны к магнитным полям и их характеристики имеют большую неравномерность температурного коэффициента сопротивления (резкое возрастание сопротивления в области жидкого
лия), что усложняет измерительную аппаратуру.
Цель изобретения - повышение точности измерений в области низких температур.
Для этого в предла)аемом устройстве чувствительный элемент выполнен в виде слоев твердых растворов Ge + Si .
Применение этого материа/ia в новом качестве основано на неизученном ранее свойстве: измене1тии сопротивления с изменением температуры в области 4,2-
77V
На основе монокристаллических слоев твердых растворов Ge+Sl , полученных на диэлектрике, могут быть изготовлены резистивные низкотемпературные датчики, обладающие высокой чувствительностью и точностью, хорошей повторяемостью и стабильностью при отогревах до комнатной температуры и выше (350 К), с малым влиянием магнитных полей и равномерной чувствительностью в области температур жидкого гелия.
Датчики температур, изготовленные из твердых растворов Ge + Si , найдут широкое применение при решении научных и технических задач, связанных с точными измерениями низких температур. На основе слоев твердых растворов Ge + Si на керамике возможно изготовление нескольких датчиков на одной подложке, что может быть использовано для точного измерения градиентов температуры в области жидкого гелия.
В качестве материала для датчика использовался монокристаллический слой твердого раствора Ge + Si с содержанием Si 8О% удельным сопротивлением при комнатной температуре р О,11 ом.см и концентрсчпией акцепторных примесе Na 4,5:10 cм , полученный на керамике. Толщина слоя составила d J 30
мкм. При охлаждении пленок твердого раствора Ge+Si удельное сопротивление их возрастает. Воспроизводимость сопро тивления пленок при отогревах от 4,2 до
350 К составляет 0,1%, что позволяет измерять температуры в области жидкого гелия с точностью до 0,01К.
Предмет изобретения
Резист.-вный датчик, содержаишй чувствительный элемент в виде пленки, нанесенной на диэлектрическую подложку, о тличающийся тем, что, с целью повышения точности измере11ий в области низких температур, чувстви7 ельный элемент выполнен в виде монокристаллических слоев твердых растворов Ge + Si .
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
МАТЕРИАЛ ДЛЯ ПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТИВНЫХ ДАТЧИКОВ | 1971 |
|
SU298839A1 |
ДАТЧИК ТЕМПЕРАТУРЫ | 1991 |
|
RU2013815C1 |
ДАТЧИК ТЕМПЕРАТУРЫ | 1991 |
|
RU2013814C1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТЕРМОЭЛЕКТРИЧЕСКОГО МАТЕРИАЛА n-ТИПА ПРОВОДИМОСТИ НА ОСНОВЕ ТВЕРДОГО РАСТВОРА GeSiSb ПРИ х=0,26-0,36, δ=0,008-0,01 | 2020 |
|
RU2739887C1 |
ДАТЧИК ТЕМПЕРАТУРЫ | 1991 |
|
RU2037791C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЯ НА ОСНОВЕ GaInAsSb | 2023 |
|
RU2813746C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЯ НА ОСНОВЕ GaInAsSb | 2023 |
|
RU2805140C1 |
НИЗКОТЕМПЕРАТУРНЫЙ РЕЗИСТИВНЫЙ ДАТЧИК ТЕМПЕРАТУРЫ | 1972 |
|
SU347593A1 |
РЕЗИСТИВНЫЙ ЭЛЕКТРОНАГРЕВАТЕЛЬ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ | 2003 |
|
RU2304857C2 |
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ НАНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК С ГЕТЕРОГЕННОЙ ГРАНИЦЕЙ РАЗДЕЛА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ НАНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК С ГЕТЕРОГЕННОЙ ГРАНИЦЕЙ РАЗДЕЛА | 2010 |
|
RU2436876C1 |
Авторы
Даты
1975-07-25—Публикация
1973-11-28—Подача