Электролит вольфрамирования Советский патент 1975 года по МПК C23B5/30 

1

Изобретение относится к области электролитического осаждения металлических покрытий, в частности к области осаждения вольфрамовых покрытий из расплавленных сред.

Известен электролит вольфрамирования, содержащий расплав соединения вольфрама, например вольфрамата нделочного металла, и хлорида щелочного металла.

Предлагаемый состав электролита отличается от известного тем, что в качестве соединения вольфрама он содержит оксифторвольфрамат щелочного металла.

Это позволяет повысить пластичность и чистоту вольфрамовых покрытий.

Согласно изобретению, электролит имеет следующий состав, вес. %:

Оксифторвольфрамат щелочного

металла20-50

Хлорид щелочного металла50-80

Оксифторвольфрамат щелочного металла MeaWOsFs получают сплавлением стехиометрических количеств фторида щелочного металла и вольфрамового ангидрида.

Процесс осуществляют в инертной атмосфере при температуре 850-950°С и катодной плотности тока 0,01-0,05 а/см. Анодная плотность тока составляет 0,001-0,05 а/см. Для получения прочного сцепления покрытия с основой покрываемое изделие перед осаждением покрытия обрабатывают анодно при плотности тока 0,01-0,05 а/см в течение 0,5-1 час.

После окончания процесса полученное нокрытие обрабатывают 1-3%-ным раствором щелочи, затем нейтрализуют 1%-ным раствором соляной кислоты и промывают днстиллнрованной водой.

Полученные вольфрамовые покрытия обладают плотностью литого вольфрама и отличаются высокой чистотой (примеси кислорода и углерода менее 0,002%, водорода и азота менее 0,001%), что обеспечивает низкую твердость и высокую пластичность покрытий. При этом можно получать покрытия различной толщины вплоть до нескольких миллиметров при сохранении их качества.

Предлагаемый состав электролита позволяет осаждать вольфрамовые покрытия на медные подложки без образования на них W-бронз п может быть использован для получения вольфрамовых пзделпй методом гальванопластики.

Пример. Для осаждения вольфрама на поверхность молибденовой проволоки диаметром 0,5 мм использовали электро.чит состава, вес. %;

uNasWOsFs 40 NaCl60.

30

Процесс осуществляли при температуре 930°С, катодной плотности тока 0,2 а/см и аподной 0,05 а/см. Перед осаждением покрытия проводили анодную обработку нри плотности тока 0,01 а/см в течение 1 час. В результате было получено плотное вольфрамовое покрытие, прочно сцепленное с основой, толщиной от 10 до 50 мкм в зависимости от количества пропущенного электричества.

Покрытия, полученные из предлагаемого состава электролита отличаются высокой коррозионной стойкостью в различных агрессивных средах, в том числе в расплаве никеля, что дает возможность использовать такие покрытия в нроизводстве жаропрочных

композиционных материалов с никелевой матрицей.

Предмет изобретения

Электролит вольфрамирования, содержащий расплав соединения вольфрама и хлорида щелочного металла, отличающийся тем, что, с целью повышения иластичности и чистоты покрытий, в качестве соединения вольфрама в электролит введен оксифторвольфрамат щелочного металла при следующем содержании компонентов, вес. %: Окснфторвольфрамат щелочного металла20-50

Хлорид щелочного металла50-80.